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1. 发明专利

TW201835584A 測試系統與方法审中-公开
简体标题：测试系统与方法
公开(公告)号：TW201835584A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW107105330
申请日：2018-02-13
申请人：日商愛德萬測試股份有限公司 , ADVANTEST CORPORATION
发明人：蘇美美 , SU, MEI-MEI
IPC分类号： G01R29/00
摘要：揭露一種電子連接器技術。在一範例中，用於將一電子子總成耦接至一電子總成的一連接器包含一連接器本體具有以及一子總成介面，該子總成介面組配為與一電子子總成電氣式耦接。該連接器具有組配為可電氣式耦接到一電子總成之一電路板的一電路板介面。該連接器具有至少兩列的接觸點，該等接觸點係組配為將該電路板與該電子子總成電氣式耦接。該等至少兩列接觸點相對於彼此偏移對齊，以致使一列中的任何接地接觸點避免與另一列的任何接地接觸點所存在的一平面相交，以在當該等至少兩列接觸點在以一預定高速率位元率傳輸訊號時，至少部分地消除列至列串擾。
简体摘要：揭露一种电子连接器技术。在一范例中，用于将一电子子总成耦接至一电子总成的一连接器包含一连接器本体具有以及一子总成界面，该子总成界面组配为与一电子子总成电气式耦接。该连接器具有组配为可电气式耦接到一电子总成之一电路板的一电路板界面。该连接器具有至少两列的接触点，该等接触点系组配为将该电路板与该电子子总成电气式耦接。该等至少两列接触点相对于彼此偏移对齐，以致使一列中的任何接地接触点避免与另一列的任何接地接触点所存在的一平面相交，以在当该等至少两列接触点在以一预定高速率比特率传输信号时，至少部分地消除列至列串扰。

2. 实用新型

TWM565307U 分類機有权
简体标题：分类机
公开(公告)号：TWM565307U
公开(公告)日：2018-08-11
申请号：TW106218441
申请日：2017-12-12
申请人：愛德萬測試股份有限公司 , ADVANTEST TAIWAN INC.
发明人：駱哲民 , LO, CHE MIN , 許鴻義 , HSU, HUNG-YI
IPC分类号： G01R31/26

3. 发明专利

TW201820055A 曝光裝置及曝光資料構造审中-公开
简体标题：曝光设备及曝光数据构造
公开(公告)号：TW201820055A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106115752
申请日：2017-05-12
申请人：愛德萬測試股份有限公司 , ADVANTEST CORPORATION
发明人：山田章夫 , YAMADA, AKIO , 大川達朗 , OKAWA, TATSURO , 黑川正樹 , KUROKAWA, MASAKI
IPC分类号： G03F7/213 , G03F7/23
摘要： [課題]提供一種對發生複數個荷電粒子射束的複數個管柱部分配射束控制資料的曝光裝置及曝光資料構造。 [解決手段]提供一種曝光裝置、及該曝光裝置用的曝光資料構造及射束控制資料的作成方法，該曝光裝置具備有：產生在第1方向上配列之複數個荷電粒子射束的複數個管柱部；個別控制荷電粒子射束的照射時序的管柱控制部；根據記述有元件圖案的配置座標的設計資料，轉換成曝光資料的轉換部，該曝光資料是由分割成具有1條荷電粒子射束的寬幅且為在第2方向上延伸的帶狀區域的第2資料、及根據第1方向的位置來特定該第2資料的第1資料所構成；儲存曝光資料的第1保存部；及按照曝光順序而再構成曝光資料並分配至管柱部的各個的分配部。
简体摘要： [课题]提供一种对发生复数个荷电粒子射束的复数个管柱部分配射束控制数据的曝光设备及曝光数据构造。 [解决手段]提供一种曝光设备、及该曝光设备用的曝光数据构造及射束控制数据的作成方法，该曝光设备具备有：产生在第1方向上配列之复数个荷电粒子射束的复数个管柱部；个别控制荷电粒子射束的照射时序的管柱控制部；根据记述有组件图案的配置座标的设计数据，转换成曝光数据的转换部，该曝光数据是由分割成具有1条荷电粒子射束的宽幅且为在第2方向上延伸的带状区域的第2数据、及根据第1方向的位置来特定该第2数据的第1数据所构成；存储曝光数据的第1保存部；及按照曝光顺序而再构成曝光数据并分配至管柱部的各个的分配部。

4. 发明专利

TW201810655A 磊晶基板审中-公开
公开(公告)号：TW201810655A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106115076
申请日：2017-05-08
申请人：愛德萬測試股份有限公司 , ADVANTEST CORPORATION
发明人：佐藤拓 , SATO, TAKU
IPC分类号： H01L29/205 , H01L29/10 , H01L29/20 , H01L29/778
CPC分类号： H01L29/205 , H01L29/1079 , H01L29/2003 , H01L29/7787
摘要：本發明提供一種適合於N面GaN系半導體裝置的製造的磊晶基板。GaN磊晶基板200具備成長用基板202、形成於成長用基板202上的緩衝層204、形成於緩衝層204上的n型導電層206、形成於n型導電層206上的第一GaN層208、形成於第一GaN層上的電子供給層210、以及形成於電子供給層210上的第二GaN層212，且沿Ga極性方向積層。
简体摘要：本发明提供一种适合于N面GaN系半导体设备的制造的磊晶基板。GaN磊晶基板200具备成长用基板202、形成于成长用基板202上的缓冲层204、形成于缓冲层204上的n型导电层206、形成于n型导电层206上的第一GaN层208、形成于第一GaN层上的电子供给层210、以及形成于电子供给层210上的第二GaN层212，且沿Ga极性方向积层。

5. 发明专利

TWI578329B 測試系統與測試裝置有权
简体标题：测试系统与测试设备
公开(公告)号：TWI578329B
公开(公告)日：2017-04-11
申请号：TW105109313
申请日：2016-03-25
申请人：愛德萬測試股份有限公司 , ADVANTEST CORPORATION
发明人：小杉真章 , KOSUGI, MASAAKI , 大黒貴司 , OHGURO, TAKASHI , 坂本満祐 , SAKAMOTO, MICHISUKE , 藤井俊朗 , FUJII, TOSHIRO , 本間尚宏 , HONMA, TAKAHIRO , 大森秀人 , OMORI, HIDETO
IPC分类号： G11C29/56 , G11C29/44
CPC分类号： G11C29/38 , G01R31/28 , G01R31/31903 , G01R31/31907 , G01R31/31935 , G11C29/56 , G11C29/56008 , G11C29/70

6. 发明专利

TWI567401B 處理器裝置及試驗裝置（二）有权
简体标题：处理器设备及试验设备（二）
公开(公告)号：TWI567401B
公开(公告)日：2017-01-21
申请号：TW103132484
申请日：2014-09-19
申请人：愛德萬測試股份有限公司 , ADVANTEST CORPORATION
发明人：山下毅 , YAMASHITA, TSUYOSHI , 相澤光範 , AIZAWA, MITSUNORI , 堀野浩光 , HORINO, HIROMITSU , 山田祐也 , YAMADA, YUYA , 小野澤正貴 , ONOZAWA, MASATAKA
IPC分类号： G01R31/28 , G01R1/04
CPC分类号： G01R31/2891 , G01C11/00 , G01R1/0441 , G01R31/2893

7. 发明专利

TWI563275B 自動化測試設備與測試方法有权
简体标题：自动化测试设备与测试方法
公开(公告)号：TWI563275B
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：TW102107281
申请日：2013-03-01
申请人：愛德萬測試股份有限公司 , ADVANTEST CORPORATION
发明人：費迪亞尼約翰 , FREDIANI, JOHN , 奈米克安卓 , NIEMIC, ANDREW
IPC分类号： G01R31/3177 , G11C29/56
CPC分类号： G01R31/2834 , G01R31/31907

8. 发明专利

TWI542109B 無線受電裝置、無線供電裝置以及無線供電系統有权
简体标题：无线受电设备、无线供电设备以及无线供电系统
公开(公告)号：TWI542109B
公开(公告)日：2016-07-11
申请号：TW101132876
申请日：2012-09-07
申请人：愛德萬測試股份有限公司 , ADVANTEST CORPORATION
发明人：圓道祐樹 , ENDO, YUKI , 古川靖夫 , FURUKAWA, YASUO
IPC分类号： H02J17/00
CPC分类号： H01F38/14 , B60L11/182 , B60L2210/20 , H02J5/005 , H02J7/025 , H02J17/00 , H02J50/12 , H03H11/30 , H04B5/0037 , H04B5/0075 , Y02T10/7005 , Y02T10/7072 , Y02T10/725 , Y02T90/122 , Y02T90/127 , Y02T90/14

9. 发明专利

TWI514763B 開關裝置以及測試裝置有权
简体标题：开关设备以及测试设备
公开(公告)号：TWI514763B
公开(公告)日：2015-12-21
申请号：TW102122741
申请日：2013-06-26
申请人：愛德萬測試股份有限公司 , ADVANTEST CORPORATION
发明人：畑善之 , HATA, YOSHIYUKI , 中西慎 , NAKANISHI, MAKOTO , 瀧川正彥 , TAKIKAWA, MASAHIKO
IPC分类号： H03K17/687
CPC分类号： H03K17/102 , G01R1/206 , G01R1/30 , G01R31/2844 , H03K17/063 , H03K2017/066 , H03K2017/6875 , H03K2217/0081

10. 发明专利

TWI514757B 可變衰減器有权
简体标题：可变衰减器
公开(公告)号：TWI514757B
公开(公告)日：2015-12-21
申请号：TW102118620
申请日：2013-05-27
申请人：愛德萬測試股份有限公司 , ADVANTEST CORPORATION
发明人：畢安琪喬凡尼 , BIANCHI, GIOVANNI
IPC分类号： H03H7/06
CPC分类号： H03H11/245 , B32B27/32 , H03K5/08

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