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1. 发明申请

WO2004010224A2 PROJECTION OBJECTIVE FOR A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：投影曝光装置投影目标
公开(公告)号：WO2004010224A2
公开(公告)日：2004-01-29
申请号：PCT/EP0300485
申请日：2003-01-20
申请人： ZEISS CARL SMT AG , SINGER WOLFGANG , MANN HANS-JUERGEN , WANGLER JOHANNES , ULRICH WILHELM
发明人： SINGER WOLFGANG , MANN HANS-JUERGEN , WANGLER JOHANNES , ULRICH WILHELM
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20 , G21K1/06 , G21K5/00 , G21K5/04
CPC分类号： B82Y10/00 , G02B17/0657 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70108 , G03F7/70166 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70358 , G03F7/708 , G21K1/06 , G21K1/062
摘要： The invention concerns a projection objective for a projection exposure apparatus, said projection exposure apparatus having a primary light source for emitting electromagnetic radiation with a wavelength
摘要翻译：本发明涉及投影曝光装置的投影物镜，所述投影曝光装置具有用于发射波长<= 193nm的电磁辐射的初级光源。投影物镜包括物平面，第一镜面; 第二个镜子第三个镜子第四个镜子和一个图像平面。物平面，第一镜，第二镜，第三镜，第四镜和像平面以居中布置的方式排列成共同的光轴。第一，第二，第三和第四反射镜位于物平面和图像平面之间。入射到位于物平面中的物体上的所述电磁辐射的主射线在从主光源朝向图像平面中的图像的方向上远离光轴倾斜。

2. 发明申请

WO2006021419A3 ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微观曝光装置的照明系统
公开(公告)号：WO2006021419A3
公开(公告)日：2006-10-05
申请号：PCT/EP2005009093
申请日：2005-08-23
申请人： ZEISS CARL SMT AG , SINGER WOLFGANG , WANGLER JOHANNES , EGGER RAFAEL , ULRICH WILHELM
发明人： SINGER WOLFGANG , WANGLER JOHANNES , EGGER RAFAEL , ULRICH WILHELM
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70108 , G03F7/70183
摘要： An illumination system of a microlithographic exposure apparatus (PEA) has an optical axis (OA) and a beam transforming device (20; 120; 220; 320; 420; 520; 1020; 1120; 1220; 1320; 1420; 1520). This device comprises a first mirror (122; 222; 322; 422; 522; 1122; 1222; 1322; 1422; 1522) with a first reflective surface (124; 224; 424; 524; 1124; 1224) having a shape that is defined by rotating a straight line, which is inclined with respect to the optical axis (OA), around the optical axis (OA). The device further comprises a second mirror (126, 126a, 126b; 226a, 226b; 326a, 326b; 426a; 426b; 526; 1126; 1226; 1326a, 1326b; 1426a, 1426b; 1526a, 1526b) with a second reflective surface (130, 130a, 130b; 1130) having a shape that is defined by rotating a curved line around the optical axis (OA). At least one of the mirrors has a central aperture (128) containing the optical axis (OA). This device may form a zoom-collimator (1020; 1120; 1220; 1320; 1420; 1520) for an EUV illumination system that transforms a diverging light bundle into a collimated light bundle of variable shape and/or diameter.
摘要翻译：微光刻曝光设备（PEA）的照明系统具有光轴（OA）和光束转换装置（20; 120; 220; 320; 420; 520; 1020; 1120; 1220; 1320; 1420; 1520）。该装置包括具有第一反射表面（124; 224; 424; 524; 1124; 1224）的第一反射镜（122; 222; 322; 422; 522; 1122; 1222; 1322; 1422; 1522）通过围绕光轴（OA）旋转相对于光轴（OA）倾斜的直线来限定。该装置还包括第二反射镜（126,126a，126b; 226a，226b; 326a，326b; 426a; 426b; 526; 1126; 1226; 1326a，1326b; 1426a，1426b; 1526a，1526b）具有通过使围绕光轴（OA）的曲线旋转而限定的形状的图形130,130a，130b; 1130。至少一个反射镜具有包含光轴（OA）的中心孔径（128）。该装置可以形成用于将发散的光束变换成可变形状和/或直径的准直光束的EUV照明系统的缩放准直器（1020; 1120; 1220; 1320; 1420; 1520）。

3. 发明申请

WO2006111319A2 PROJECTION EXPOSURE SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING A MICRO-STRUCTURED STRUCTURAL MEMBER BY THE AID OF SUCH A PROJECTION EXPOSURE SYSTEM AND POLARIZATION-OPTICAL ELEMENT ADAPTED FOR USE IN SUCH A SYSTEM 审中-公开
标题翻译：投影曝光系统，通过这种投影曝光系统的辅助制造微结构结构构件的方法和适用于这种系统的偏光光学元件
公开(公告)号：WO2006111319A2
公开(公告)日：2006-10-26
申请号：PCT/EP2006003401
申请日：2006-04-12
申请人： ZEISS CARL SMT AG , MANN HANS-JUERGEN , SINGER WOLFGANG , GRUNER TORALF , DITTMANN OLAF , TOTZECK MICHAEL
发明人： MANN HANS-JUERGEN , SINGER WOLFGANG , GRUNER TORALF , DITTMANN OLAF , TOTZECK MICHAEL
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70566 , G03F7/70058
摘要： The invention relates to a projection exposure system, in particular for micro-lithography. The projection exposure system according to the invention comprises a light source (18) for producing light in the EUV region. The projection exposure system further comprises a first optical system (19, 20, 21, 22, 23, 24) for illuminating a mask (25) by the light of the light source (18) and a second optical system (26, 27, 28, 29, 30, 31) for imaging the mask (25) on a component (32). At least one polarization-optical element (1) is disposed on the beam path between the light source (18) and the component (32).
摘要翻译：本发明涉及一种投影曝光系统，特别涉及微光刻技术。根据本发明的投影曝光系统包括用于在EUV区域中产生光的光源（18）。投影曝光系统还包括用于通过光源（18）的光照射掩模（25）的第一光学系统（19,20,21,22,23,24）和第二光学系统（26,27,24） 28,29,30,31），用于将所述掩模（25）成像在部件（32）上。至少一个偏振光学元件（1）设置在光源（18）和部件（32）之间的光束路径上。

4. 发明申请

WO2004034146A3 LIGHTING SYSTEM COMPRISING A DEVICE FOR ADJUSTING THE LIGHT INTENSITY 审中-公开
标题翻译：带有用于调整光强度的装置的照明系统
公开(公告)号：WO2004034146A3
公开(公告)日：2004-08-05
申请号：PCT/EP0309370
申请日：2003-08-23
申请人： ZEISS CARL SMT AG , SINGER WOLFGANG , ANTONI MARTIN , MELZER FRANK , WANGLER JOHANNES , HAINZ JOACHIM , WIETZORREK JOACHIM , MAUL MANFRED , WEISS MARKUS
发明人： SINGER WOLFGANG , ANTONI MARTIN , MELZER FRANK , WANGLER JOHANNES , HAINZ JOACHIM , WIETZORREK JOACHIM , MAUL MANFRED , WEISS MARKUS
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/7085
摘要： The invention relates to a lighting system for microlithography with wavelengths
摘要翻译：本发明涉及的照明系统用于与波长微光刻<= 157纳米，尤其用于EUV光刻用于照明物平面，其包括辐射源，其提供的光线的光束是可用的，其中光束的束，在所涉及的光路中的照明系统从辐射源到物体平面的方向具有光强度; 第一光学部件，其至少包括具有多个光栅元件的第一光学元件，其中所述第一光学元件布置在所述辐射源与所述物平面之间的所述光束路径中; 其特征在于，提供用于调节<= 157nm波长的光强度的装置，其被设置在从辐射源到辐射源与第一光学元件之间的物平面的光路中。

5. 发明申请

WO2006074812A3 ILLUMINATION SYTSEM FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的照明系统
公开(公告)号：WO2006074812A3
公开(公告)日：2007-05-24
申请号：PCT/EP2005014122
申请日：2005-12-30
申请人： ZEISS CARL SMT AG , SINGER WOLFGANG , BADER DIETER , WANGLER JOHANNES , DEGUENTHER MARKUS
发明人： SINGER WOLFGANG , BADER DIETER , WANGLER JOHANNES , DEGUENTHER MARKUS
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70066 , G03F7/70075 , G03F7/70083
摘要： An illumination system (12) of a microlithographic exposure system comprises a plurality of light emitting elements (24) that have light exit facets that are-positioned in or in close proximity to à field plane (OP) or a pupil plane and are configured to be individually activated. Light collecting elements, for example microlenses of a fly-eye lens or arrays of cylinder lenses, may be used to collect the light bundles emitted by the light' emitting elements (24). Homogenizing means, for example a rod integrator or an optical raster element (40), may be provided for improving the intensity uniformity in a reticle plane (RP).
摘要翻译：微光刻曝光系统的照明系统（12）包括多个发光元件（24），所述多个发光元件（24）具有光出射面，所述光出射面位于或平行于à场平面（OP）或瞳平面并被配置为单独激活。集光元件，例如蝇眼透镜的微透镜或圆柱透镜阵列可以用于收集由光发射元件（24）发射的光束。可以提供均匀化装置，例如棒状积分器或光学光栅元件（40），以改善光罩平面（RP）中的强度均匀性。

6. 发明申请

WO2005026843A3 ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHY PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION 审中-公开
标题翻译：用于微观投影曝光安装的照明系统
公开(公告)号：WO2005026843A3
公开(公告)日：2005-05-26
申请号：PCT/EP2004010188
申请日：2004-09-13
申请人： ZEISS CARL SMT AG , KOEHLER JESS , WANGLER JOHANNES , BROTSACK MARKUS , SINGER WOLFGANG , FIOLKA DAMIAN , MAUL MANFRED
发明人： KOEHLER JESS , WANGLER JOHANNES , BROTSACK MARKUS , SINGER WOLFGANG , FIOLKA DAMIAN , MAUL MANFRED
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70116 , G03F7/702
摘要： An illumination system for a microlithography projection exposure installation is used to illuminate an illumination field with the light from a primary light source (11). The illumination system has a light distribution device (25) which receives light from the primary light source and, from this light, produces a two-dimensional intensity distribution which can be set variably in a pupil-shaping surface (31) of the illumination system. The light distribution device has at least one optical modulation device (20) having a two-dimensional array of individual elements (21) that can be controlled individually in order to change the angular distribution of the light incident on the optical modulation device. The device permits the variable setting of extremely different illuminating modes without replacing optical components.
摘要翻译：用于微光刻投影曝光装置的照明系统用于利用来自主光源（11）的光照亮照明场。照明系统具有从主光源接收光的光分配装置（25），并且从该光产生二维强度分布，其可以可变地设置在照明系统的瞳孔成形表面（31）中。配光装置具有至少一个光学调制装置（20），其具有能独立控制的各个元件（21）的二维阵列，以便改变入射在光调制装置上的光的角分布。该装置允许在不更换光学部件的情况下可变地设置不同的照明模式。

7. 发明申请

WO2004031854A2 ILLUMINATION SYSTEM FOR A WAVELENGTH = 193 NM, COMPRISING SENSORS FOR DETERMINING THE ILLUMINATION 审中-公开
标题翻译：照明系统用于波长<= 193 nm的传感器，用于确定所述照明
公开(公告)号：WO2004031854A2
公开(公告)日：2004-04-15
申请号：PCT/EP0310605
申请日：2003-09-24
申请人： ZEISS CARL SMT AG , ASML NETHERLANDS BV , SINGER WOLFGANG , ANTONI MARTIN , WANGLER JOHANNES , WEISS MARKUS , BANINE VADIM YEVGENYEVICH , DIERICHS MARCEL , MOORS ROEL , SCHUSTER KARL-HEINZ
发明人： SINGER WOLFGANG , ANTONI MARTIN , WANGLER JOHANNES , WEISS MARKUS , BANINE VADIM YEVGENYEVICH , DIERICHS MARCEL , MOORS ROEL , SCHUSTER KARL-HEINZ
IPC分类号： G03F7/20 , G03F
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70141 , G03F7/70558
摘要： The invention relates to an illumination system for wavelengths
摘要翻译：本发明涉及一种用于波长的照明系统<= 193纳米，其中所述照明系统包括一个光源，其提供可用的预定照明在一个平面和a）用第一光栅元件，其特征在于，所述第一光栅元件被布置在支撑元件上和第一光学部件所述第一光学部件被布置在或在其上提供照明的平面附近。本发明的特征在于：i）中设置在第一光学元件的至少一个传感器，用于在承载元件上的检测入射光的支撑元件上。 ⅱ）的照明系统的反射镜由传感器信号，使得Beleuctung的位置和强度被保持恒定的评价提供。

8. 发明申请

WO2005059617A3 PROJECTION OBJECTIVE HAVING A HIGH APERTURE AND A PLANAR END SURFACE 审中-公开
标题翻译：具有高孔径和平面端面的投影目标
公开(公告)号：WO2005059617A3
公开(公告)日：2006-02-09
申请号：PCT/EP2004014062
申请日：2004-12-10
申请人： ZEISS CARL SMT AG , BEDER SUSANNE , SINGER WOLFGANG
发明人： BEDER SUSANNE , SINGER WOLFGANG
IPC分类号： G02B17/00 , G03F7/20
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B17/0828 , G03F7/70225 , G03F7/70341 , G03F7/7035 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： A projection objective for imaging a pattern provided in an object plane of the projection objective onto an image plane of the projection objective suitable for microlithography projection exposure machines has a plurality of optical elements transparent for radiation at an operating wavelength of the projection objective. At least one optical element is a high-index optical element made from a high-index material with a refractive index n = 1.6 at the operating wavelength.
摘要翻译：用于将设置在投影物镜的物平面中的图案成像到投影物镜的适合于微光刻投影曝光机的投影物镜的平面上的投影物镜具有在投影物镜的工作波长处对于辐射而透明的多个光学元件。至少一个光学元件是在工作波长处由折射率n = 1.6的高折射率材料制成的高折射率光学元件。

9. 发明申请

WO2004057424A3 ILLUMINATION SYSTEM HAVING A MORE EFFICIENT COLLECTOR OPTIC 审中-公开
标题翻译：照明系统具有更高效的集光器光学
公开(公告)号：WO2004057424A3
公开(公告)日：2004-10-28
申请号：PCT/EP0308968
申请日：2003-08-13
申请人： ZEISS CARL SMT AG , SINGER WOLFGANG
发明人： SINGER WOLFGANG
IPC分类号： G02B27/00 , G03F7/20
CPC分类号： B82Y10/00 , G02B2207/123 , G03F7/70166
摘要： An illumination system having a light source is disclosed, the light source having a source size and emitting radiant power in a spatial angle element ohm(alpha), alpha indicating the aperture angle, a collector, which collects radiant power from the source up to a first maximum aperture angle alphamax(1), a first geometric flux G1 being defined by the source size Q and the first maximum aperture angle alphamax(1), a plane to be illuminated having an area A and a numerical aperture NA to be illuminated, the numerical aperture NA to be illuminated defining a second aperture angle alpha(2), and a second geometric flux G2 being defined by the area A and the second aperture angle alpha(2), distinguished in that the collector has a first maximum aperture angle alphamax(1), which is selected in such a way that the first geometric flux G1 is equal to or larger than, particular preferably more than 15 % larger than the second geometric flux G2.
摘要翻译：公开了一种具有光源的照明系统，所述光源具有在空间角度元件欧姆（α），α表示所述孔径角度的发射辐射功率的光源尺寸并且发射辐射功率，集光器收集来自辐射源的辐射功率直到第一最大孔径角αmax（1），由源尺寸Q和第一最大孔径角αmax（1）限定的第一几何光通量G1，具有面积A和待照射的数值孔径NA的待照明平面，限定第二孔径角度α（2）的要被照明的数值孔径NA以及由区域A和第二孔径角度α（2）限定的第二几何通量G2，区别在于收集器具有第一最大孔径角度 αmax（1），其被选择为使得第一几何通量G1等于或大于第二几何通量G2，特别优选大于15％。

10. 发明申请

WO03093902A2 LIGHTING SYSTEM, PARTICULARLY FOR USE IN EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：照明系统，尤其是对于EUV光刻
公开(公告)号：WO03093902A2
公开(公告)日：2003-11-13
申请号：PCT/EP0303616
申请日：2003-04-08
申请人： ZEISS CARL SMT AG , MELZER FRANK , SINGER WOLFGANG
发明人： MELZER FRANK , SINGER WOLFGANG
IPC分类号： G02B17/00 , G02B26/08 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B26/0816 , G03F7/70141 , G03F7/702
摘要： A lighting system, particularly for use in extreme ultraviolet (EUV) lithography, comprising a projection lens for producing semiconductor elements for wavelengths = 193 nm is provided with a light source (1), an object plane (12), an exit pupil (15), a first optical element (5) having first screen elements (6) for producing light channels, and with a second optical element (7) having second screen elements (8). A screen element (8) of the second optical element (7) is assigned to each light channel that is formed by one of the first screen elements (6) of the first optical element (5). The screen elements (6) of the first optical element (5) and of the second optical element (7) can be configured or arranged so that they produce, for each light channel, a continuous beam course from the light source (1) up to the object plane (12). The angles of the first screen elements (6) of the first optical element (5) can be adjusted in order to modify a tilt. The location and/or angles of the second screen elements (8) of the second optical element (7) can be adjusted individually and independently of one another in order to realize another assignment of the first screen elements (6) of the first optical element (5) to the second screen elements (8) of the second optical element (7) by displacing and/or tilting the first and second screen elements (8).
摘要翻译：一种照明系统，特别是用于与投影物镜EUV光刻制造用于波长半导体元件<有光源（1）= 193纳米，具有出射光瞳（15）的物平面（12）和具有第一光学元件（5）与第一光栅元件（6），用于产生光信道，并用与设置第二光栅元件（8）的第二光学元件（7）。形成为从所述第一光学元件（5）的所述第一光栅元件（6）中的一个的每个光信道，格栅元件（8）的第二光学元件（7）被分配。所述第一光学元件（5）和所述第二光学元件（7）的栅格元件（6）可以被配置或布置为使得它提供了连续的光束从光源1传递到目标平面（12），用于每一个光通道。所述第一光学元件（5）的所述第一光栅元件（6）是角度可调节的以改变Kippes。第二光学元件（7）的所述第二光栅元件（8）可单独地和独立地在位置和/或以一角度由第一光栅元件的移动和/或倾斜的第一和第二栅极元件（8）（一个不同的分配来调整实现第一光学元件的6）（5）到所述第二光栅元件（8）的第二光学元件（7）。

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