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    • 3. 发明专利
    • Adhesive sheet for producing semiconductor device, adhesive sheet for producing dicing film-integrated semiconductor device, and semiconductor device having adhesive sheet for producing the semiconductor device
    • 用于制造半导体器件的粘合片,用于制造定影膜的集成半导体器件的粘合片,以及具有用于生产半导体器件的粘合片的半导体器件
    • JP2013028679A
    • 2013-02-07
    • JP2011164522
    • 2011-07-27
    • Nitto Denko Corp日東電工株式会社
    • AMANO YASUHIROKIMURA TAKEHIRO
    • C09J7/02C09J11/00C09J201/00H01L21/301H01L21/52
    • H01L24/29H01L24/27H01L2224/83191H01L2924/10253H01L2924/181H01L2924/00
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an adhesive sheet for producing a semiconductor device, which can reduce effects due to α-rays; an adhesive sheet for producing a dicing film-integrated semiconductor device; and a semiconductor device having an adhesive sheet for producing the semiconductor device.SOLUTION: There are provided: an adhesive sheet 3 for producing a semiconductor device with α-ray emission amount of 0.002 c/cm; an adhesive sheet 3 for producing a semiconductor device, including an inorganic filler and an ion scavenger; an adhesive sheet 3 for producing a semiconductor where the ion scavenger is at least one organic complex-forming compound selected from the group consisting of a nitrogen-containing compound, a hydroxy group-containing compound and a carboxy group-containing compound. A semiconductor wafer 4 is press-bonded on the part 3a to be pasted with the semiconductor wafer of the adhesive sheet 3 in the dicing film-integrated adhesive sheet 10, and adhered and held to be fixed. Here the dicing film 11 has a structure where a self-adhesive layer 2 is laminated on the substrate 1.
    • 解决的问题:提供一种能够减少由于α射线引起的影响的半导体装置的制造用粘合片; 一种用于制造切割膜集成半导体器件的粘合片; 以及具有用于制造半导体器件的粘合片的半导体器件。 解决方案:提供一种用于制造α射线发射量为0.002c / cm 2的半导体器件的粘合片3 2 ; 用于制造包括无机填料和离子清除剂的半导体器件的粘合片3; 用于制造半导体的粘合片3,其中离子清除剂是选自含氮化合物,含羟基的化合物和含羧基的化合物中的至少一种选自有机络合物的化合物。 将半导体晶片4压接在部分3a上以与切割膜一体的粘合片10中的粘合片3的半导体晶片粘合,并且被固定。 这里,切割膜11具有在基板1上层压自粘层2的结构。版权所有(C)2013,JPO&INPIT
    • 7. 发明专利
    • Film for semiconductor device and semiconductor device
    • 半导体器件薄膜和半导体器件
    • JP2012059768A
    • 2012-03-22
    • JP2010199027
    • 2010-09-06
    • Nitto Denko Corp日東電工株式会社
    • AMANO YASUHIROKIMURA TAKEHIRO
    • H01L21/301C09J7/02C09J201/00H01L21/52
    • C09J7/30C09J7/22C09J2203/326H01L23/293H01L2924/0002H01L2924/00
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an adhesive film with a dicing sheet excellent in reliability and capable of easily performing cover film leader leading-out (leader leading-out) while maintaining a transfer mark suppression function when a film for a semiconductor device comprising a cover film on which an adhesive film with a dicing sheet having the adhesive film laminated on a dicing film is laminated at predetermined intervals is rewound in a roll form.SOLUTION: A film for a semiconductor device comprises a cover film on which an adhesive film with a dicing sheet having the adhesive film laminated on a dicing film is laminated at predetermined intervals. In this film, a ratio Ea/Eb of a tensile storage elastic modulus Ea of the dicing film at 23°C to a tensile storage elastic modulus Eb of the cover film at 23°C is within 0.001 to 100.
    • 要解决的问题:为了提供具有优异的可靠性并且能够容易地执行覆盖膜引导件引出(引导引出)同时保持转印标记抑制功能的切割片的粘合膜,当半导体膜 其特征在于,具有覆盖膜,在其上以规定的间隔层叠有具有层叠在切割膜上的粘合膜的切割片的粘合膜以卷状卷绕。 解决方案:一种用于半导体器件的膜包括覆盖膜,在其上以预定间隔层叠具有层压在切割膜上的粘合膜的切割片的粘合剂膜。 在该膜中,23℃下的切割膜的拉伸储存弹性模量Ea与23℃下的覆盖膜的拉伸储存弹性模量Eb的比率Ea / Eb为0.001〜100倍。权利要求: (C)2012,JPO&INPIT
    • 9. 发明专利
    • ダイシング・ダイボンディングフィルム
    • 定影/贴膜
    • JP2015005636A
    • 2015-01-08
    • JP2013130272
    • 2013-06-21
    • 日東電工株式会社Nitto Denko Corp
    • KIMURA TAKEHIROMISUMI SADAHITOONISHI KENJISUGAO YUKISHISHIDO YUICHIRO
    • H01L21/301
    • H01L2224/45124H01L2224/45144H01L2224/45147H01L2224/48091H01L2224/73265H01L2924/181H01L2924/00H01L2924/00012H01L2924/00014
    • 【課題】ダイシングブレードの切れ味の低下を抑制できるとともに、ヒゲの発生を抑制できるダイシング・ダイボンディングフィルムを提供する。【解決手段】接着剤層3に厚さ100μmのウェハ4を貼り合わせた状態で、第1のダイシングブレードが切り込み深さ50μmでウェハを100m切り込んだ後、第1のダイシングブレードの切り込みに沿って、第2のダイシングブレードが少なくとも粘着剤層2に達する切り込み深さでウェハ及び接着剤層を100m切断したときの第2のダイシングブレードの摩耗量が20〜200μmであり、第2のダイシングブレードの幅は、第1のダイシングブレードのド幅より小さく、第1のダイシングブレードによる切り込み形成条件が、速度50mm/sec、回転数40000rpmであり、第2のダイシングブレードによる切断条件が、速度50mm/sec、回転数45000rpmである。【選択図】図1
    • 要解决的问题:提供一种能够抑制切割刀的锐度劣化并且还能够抑制晶须的发生的切割/芯片接合薄膜。解决方案:第二切割刀片的磨损量为20-200μm,当 第一切割刀片将切片深度为50μm的厚度为100μm的晶片4切割,同时将晶片粘合到粘合剂层3,然后第二切割刀将晶片和粘合剂层切割100μm 在切割深度处至少沿着第一切割刀片的切口到达压敏粘合剂层2。 第二切割刀片的宽度小于第一切割刀片的宽度。 通过第一切割刀片的切割成形条件为50mm / sec的转速和40,000rpm的转数,并且第二切割刀片的切割条件为50mm / sec的速度和45,000rpm的转速 rpm。