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    • 3. 发明申请
    • 低反射ガラス板の製造方法および低反射ガラス板
    • 生产低反射玻璃板和低反射玻璃板的方法
    • WO2004067465A1
    • 2004-08-12
    • PCT/JP2004/000937
    • 2004-01-30
    • 旭硝子株式会社三ツ星ベルト株式会社木村 幸雄筒井 義也後藤 和生
    • 木村 幸雄筒井 義也後藤 和生
    • C03C17/34
    • C03C17/3417C03C1/008C03C17/007C03C17/008C03C2217/445C03C2217/479
    • 60°入射角の光に対しても反射率低減効果が十分な低反射ガラス板を生産性よく提供する。 樹脂B1と、金微粒子と、鉄、チタンおよびジルコニウムからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属(M1)の有機金属化合物と、有機溶剤とを含む処理液(1)と、膜形成用化合物と、樹脂B1と同じ分解温度または樹脂B1よりも分解温度が高い樹脂B2と、有機溶剤とを含む処理液(2)とを用い、上記処理液(1)を透明ガラス基板の表面に塗布し、その後、50~250℃で乾燥して有機溶剤を除去し、次いで、さらにその上に処理液(2)を塗布し、その後、50~250℃で乾燥して有機溶剤を除去し、次いで、処理された透明ガラス基板を400~800℃で焼成することを特徴とする低反射ガラス板の製造方法。
    • 低反射玻璃板的生产率高,即使对于60°的入射角也能表现出令人满意的反射降低效果。 特别是一种低反射玻璃板的制造方法,其特征在于,使用由树脂B1构成的处理液(1),金微粒,至少一种金属(M1)的有机金属化合物,选自: 的铁,钛和锆以及有机溶剂与由成膜化合物组成的处理液(2),分解温度与树脂B1的分解温度相同或更高的树脂B2和有机溶剂,该方法包括将 将处理液(1)的透明玻璃板表面,在50〜250℃下干燥,除去有机溶剂,进一步在其上涂布处理液(2),在50〜250℃下干燥, 去除有机溶剂,并将所得透明玻璃板烧成400〜800℃。
    • 7. 发明申请
    • 反射防止膜付き基体
    • 带抗反射涂层的基板
    • WO2006080502A1
    • 2006-08-03
    • PCT/JP2006/301471
    • 2006-01-30
    • 旭硝子株式会社矢尾板 和也片山 佳人木村 幸雄
    • 矢尾板 和也片山 佳人木村 幸雄
    • G02B1/11
    • G02B1/115
    •  可視光の透過率が高く、反射率が低く、膜抵抗率が高く、熱処理を受けてもクラックが発生しない反射防止膜付き基体の提供。  透明基体と、屈折率が1.90以上の高屈折率材料からなる被膜と屈折率が1.56以下の低屈折率材料からなる被膜とを前記透明基体側からこの順に偶数層積層してなる反射防止膜とを有する反射防止膜付き基体であって、前記高屈折率材料からなる被膜の少なくとも1層が、酸窒化チタン層の単層膜(a)、酸化チタン層と酸化ジルコニウム層とを含む積層膜(b)または酸窒化チタン層と酸化ジルコニウム層とを含む積層膜(c)である、反射防止膜付き基体。
    • 本发明提供一种具有防反射涂层的基板,其对可见光具有高透射率,低反射率和高电阻率,并且即使在进行热处理时也没有出现裂纹。 具有抗反射涂层的基板,其包括透明基板,并且从透明基板侧按顺序层压在其上,总共包含折射率为1.90以上的高折射材料的涂膜和涂层的涂层 包括折射率为1.56或更低的低折射材料的薄膜,其中包含高折射材料的上述涂膜中的至少一种是氮氧化钛层的单层涂层(a),含有 氧化钛层和氧化锆层,或含有氮氧化钛层和氧化锆层的层叠覆膜(c)。