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1. 发明申请

WO2003074230A1 金属板の表面処理設備および金属板の製造方法审中-公开
标题翻译：金属板的表面处理设备及生产金属板的方法
公开(公告)号：WO2003074230A1
公开(公告)日：2003-09-12
申请号：PCT/JP2002/007895
申请日：2002-08-02
申请人： JFEスチール株式会社 , 木村幸雄 , 植野雅康 , 曽谷保博 , 冨田省吾
发明人：木村幸雄 , 植野雅康 , 曽谷保博 , 冨田省吾
IPC分类号： B24C3/32
CPC分类号： B24C9/00 , B24C3/14
摘要： A surface treatment facility of metal plate comprising a projector for projecting solid state particles having mean particle size not larger than 300 mum toward metal plates being carried continuously, a projection chamber in which the projector is disposed, and means for cleaning the surface of the metal plate disposed on the downstream side of the projection chamber. Means for removing deposits on the surface of the metal plate may be disposed on the inlet side of the projector.
摘要翻译：一种金属板的表面处理设备，包括投影仪，用于投射平均粒径不大于300μm的固态颗粒朝着金属板连续运送，投影室设置在投影室中，以及用于清洁金属表面的装置设置在投影室的下游侧的板。用于去除金属板表面上的沉积物的装置可以设置在投影仪的入口侧。

2. 发明申请

WO2003086708A1 金属板の表面処理設備、金属板の製造方法および金属板の製造装置审中-公开
标题翻译：金属板的表面处理设备，生产金属板的方法和用于生产金属板的系统
公开(公告)号：WO2003086708A1
公开(公告)日：2003-10-23
申请号：PCT/JP2003/003048
申请日：2003-03-14
申请人： JFEスチール株式会社 , 木村幸雄 , 植野雅康 , 曽谷保博
发明人：木村幸雄 , 植野雅康 , 曽谷保博
IPC分类号： B24C5/06
CPC分类号： B24C9/006 , B24C3/14 , C21D7/06 , Y02P70/179
摘要：連続して搬送される金属板に平均粒子径30～300μmの固体粒子を投射する少なくとも一台の遠心式投射装置を有する金属板の表面処理設備。前記投射装置は回転軸を有する遠心ロータからなり、前記回転軸に垂直な平面と金属板の面との交線が金属板の進行方向に対して平行に配置されているかまたは45゜以下の角をなすように傾けて配置されている。
摘要翻译：一种金属板的表面处理设备，包括至少一个用于将平均粒径为30-300μm的固态颗粒朝向连续承载的金属板投射的离心投影仪。所述投影机具有旋转轴的离心转子，所述旋转轴配置成使得垂直于所述旋转轴的平面与所述金属板的平面之间的交线与所述金属板的前进方向平行或倾斜45度或更少。

3. 发明专利

JP2016191574A 被膜損傷検知方法及び被膜損傷検知装置有权
标题翻译：薄膜损伤检测方法和薄膜损伤检测装置
公开(公告)号：JP2016191574A
公开(公告)日：2016-11-10
申请号：JP2015070578
申请日：2015-03-31
申请人： JFEスチール株式会社
发明人：梅垣嘉之 , 高城重宏 , 飯塚幸理 , 名越正泰 , 花澤和浩 , 戸田広朗 , 曽谷保博
IPC分类号： G01N21/62
摘要：【課題】熟練度を要することなく被膜の損傷を精度高く検知可能な被膜損傷検知方法及び被膜損傷検知装置を提供すること。【解決手段】本発明の一実施形態である被膜損傷検知装置は、電子ビームを照射している際に電子ビームが照射されている領域を含む鋼板Sの表面の画像を撮影し、撮影された画像から電子ビームが照射されている領域内の各位置における輝度を算出し、算出された輝度が所定の閾値以上である位置において被膜の損傷が発生していると判定するので、熟練度を要することなく被膜の損傷を精度高く検知できる。【選択図】図5
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够高精度地检测膜的损伤而不考虑操作者的熟练程度的薄膜损伤检测方法和薄膜损伤检测装置。解决方案：作为本发明的一个实施例的薄膜损伤检测装置拍摄在照射电子束的情况下，包含用电子束照射的区域的钢板S的表面的图像计算从拍摄图像照射电子束的区域中的各位置的亮度，确定膜的损伤发生在计算出的亮度超过预定阈值的位置，从而可以高精度地检测胶片的损伤，而不管操作者的熟练程度如何。图5

4. 发明专利

JP2016046068A 電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法有权
标题翻译：电子束辐射装置和电子束辐照方法
公开(公告)号：JP2016046068A
公开(公告)日：2016-04-04
申请号：JP2014168999
申请日：2014-08-22
申请人： JFEスチール株式会社
发明人：梅垣嘉之 , 高城重宏 , 飯塚幸理 , 名越正泰 , 臼井幸夫 , 花澤和浩 , 戸田広朗 , 曽谷保博
IPC分类号： H01J37/304 , H01J37/305 , H01J37/21 , H01J37/153 , H01J37/22 , H01J37/04 , H01J37/30
摘要：【課題】電子ビームの焦点位置のずれを効率良く評価、制御することによって走査領域全体で均一な強度で電子ビームを照射すること。【解決手段】画像処理装置7が、撮像装置6によって撮影された蛍光画像から電子ビームの各走査位置における蛍光の発光輝度分布を抽出し、抽出された蛍光の発光輝度分布に基づいて電子ビームの焦点位置のずれを評価する。ビーム制御装置5が、電子ビームの焦点位置のずれの評価結果に基づいて電磁レンズ3の制御電流のパターンを修正する。これにより、電子ビームの焦点位置のずれを効率良く評価、制御することによって走査領域全体で均一な強度で電子ビームを照射することができる。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：通过评估和控制电子束的焦点位置的偏差，在整个扫描区域上照射均匀强度的电子束。解决方案：图像处理装置7提取每次扫描时的荧光的亮度分布基于由成像装置6捕获的荧光图像的电子束的位置，并且基于由此提取的荧光的亮度分布来评估电子束的焦点位置的偏差。光束控制器5基于电子束的焦点位置的偏差的评估结果来校正电磁透镜3的控制电流的图案。因此，通过有效地评估和控制电子束的焦点位置的偏差，可以用均匀强度的电子束照射整个扫描区域。图1

5. 发明专利

JP6260570B2 被膜損傷検知方法及び被膜損傷検知装置有权
公开(公告)号：JP6260570B2
公开(公告)日：2018-01-17
申请号：JP2015070578
申请日：2015-03-31
申请人： JFEスチール株式会社
发明人：梅垣嘉之 , 高城重宏 , 飯塚幸理 , 名越正泰 , 花澤和浩 , 戸田広朗 , 曽谷保博
IPC分类号： G01N21/62

6. 发明专利

JP6221999B2 電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法有权
公开(公告)号：JP6221999B2
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：JP2014168999
申请日：2014-08-22
申请人： JFEスチール株式会社
发明人：梅垣嘉之 , 高城重宏 , 飯塚幸理 , 名越正泰 , 臼井幸夫 , 花澤和浩 , 戸田広朗 , 曽谷保博
IPC分类号： H01J37/305 , H01J37/21 , H01J37/22 , H01J37/04 , H01J37/30

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