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1. 发明申请

WO2014170586A1 OUTILLAGE DE MAINTIEN, CHARGEMENT ET INSTALLATION POUR LA DENSIFICATION DE PRÉFORMES POREUSES DE RÉVOLUTION 审中-公开
标题翻译：保持和加载工具和设备，用于对多个旋转偏移进行识别
公开(公告)号：WO2014170586A1
公开(公告)日：2014-10-23
申请号：PCT/FR2014/050871
申请日：2014-04-10
申请人： HERAKLES
发明人： LONGUEVILLE, Laurent , DUCHARLET, Pascal , GOUJARD, Stéphane , MECUSON, Gautier , PHILIPPE, Eric
IPC分类号： C23C16/04 , C23C16/458
CPC分类号： C23C16/045 , C23C16/458
摘要： Un outillage de maintien (100) d'une préforme poreuse de révolution comprend une couronne inférieure (110) et une couronne supérieure (120) maintenue de manière coaxiale au-dessus de la couronne inférieure par au moins un élément d'écartement (130). Chaque couronne (110; 120) comporte sur sa surface externe une portée (111; 121) destinée à être en contact avec une partie d'une préforme poreuse (10). Au moins une (110) des deux couronnes (110, 120) comporte une portée de forme cylindrique, la surface externe de chaque couronne (110; 120) étant en outre revêtue d'un matériau compressible (112, 122) apte à créer un contact glissant avec la partie de la préforme poreuse en contact.
摘要翻译：用于保持多孔旋转预制件的保持工具（100）包括通过至少一个间隔件（130）同轴地保持在下环上方的下环（110）和上环（120）。每个环（110; 120）在其外表面上包括旨在与多孔预型件（10）的一部分接触的轴承（111; 121）。两个环（110,120）中的至少一个（110）包括圆柱形轴承，每个环（110; 120）的外表面进一步涂覆有可压缩材料（112,122），该可压缩材料能够与与其接触的多孔预型件的一部分。

2. 发明申请

WO2014006324A1 DISPOSITIF DE CHARGEMENT ET INSTALLATION POUR LA DENSIFICATION DE PRÉFORMES POREUSES TRONCONIQUES EMPILABLES. 审中-公开
标题翻译：充电装置和安装用于扩大堆叠式多孔预制件
公开(公告)号：WO2014006324A1
公开(公告)日：2014-01-09
申请号：PCT/FR2013/051562
申请日：2013-07-03
申请人： HERAKLES
发明人： GOUJARD, Stéphane , BERTRAND, Sébastien , DELCAMP, Adrien , BEAUVAIS, Franck
IPC分类号： C23C16/04 , C23C16/458 , C23C16/46 , C04B35/00
CPC分类号： C23C16/045 , C04B35/806 , C04B35/83 , C04B2235/614 , C04B2235/94 , C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/46
摘要： Dispositif de chargement (100) pour la densification, par infiltration chimique en phase vapeur en flux dirigé, dans une chambre de réaction d'un four d'infiltration, de préformes poreuses (160-163) de forme empilable, le dispositif comprenant : - un plateau support (110), - un premier empilement d'une pluralité de couronnes inférieures (140-144) disposé sur le plateau support (110) et comportant une pluralité d'orifices d'injection s'étendant entre la périphérie externe et la périphérie interne de chaque couronne, - un deuxième empilement d'une pluralité de couronnes supérieures (150-154) comportant une pluralité d'orifices d'évacuation s'étendant entre la périphérie externe et la périphérie interne de chaque couronne, - une première paroi non poreuse (130) de forme et de dimensions identiques à celles des préformes poreuses à densifier (160- 163) disposée sur le plateau support (110) à l'intérieur des couronnes inférieures (140-144) du premier empilement, ladite première paroi non poreuse s'étendant entre le plateau support et la couronne supérieure située à la base du deuxième empilement, - une deuxième paroi non poreuse (170) de forme et de dimensions identiques à celles des préformes poreuses à densifier (160- 163), ladite deuxième paroi non poreuse s'étendant entre la couronne inférieure (143) située au sommet du premier empilement et la couronne supérieure (154) située au sommet du deuxième empilement.
摘要翻译：一种用于通过受控流化学气相渗透在渗透炉的反应室中致密化多层预型件（160-163）的充电装置（100），所述装置包括： - 支撑板（110）， - 第一堆叠多个下环（140-144）放置在支撑板（110）上并且包括在每个环的外周和内周之间延伸的多个注入孔， - 多个上环（150- 154），包括在每个环的外周和内周之间延伸的多个排放孔; - 第一无孔壁（130），其形状和尺寸与多孔预型件（160-163）的形状和尺寸相同，被致密化并布置在第一堆叠的下环（140-144）内的支撑板（110）上，所述第一无孔壁在支撑板和位于第二堆叠的基部的上环之间延伸， - 第二无孔壁（170）形状和尺寸与要被致密化的多孔预成型件（160-163）的形状和尺寸相同，所述第二无孔壁在位于第一堆叠的顶部的下环（143）和上环之间延伸（ 154）位于第二堆叠的顶部。

3. 发明申请

WO2014049221A1 PROCEDE DE FABRICATION D'UNE PIECE EN CMC 审中-公开
标题翻译：制造CMC部件的方法
公开(公告)号：WO2014049221A1
公开(公告)日：2014-04-03
申请号：PCT/FR2013/052110
申请日：2013-09-13
申请人： HERAKLES
发明人： GOUJARD, Stéphane , BOUILLON, Eric , DELCAMP, Adrien , BERTRAND, Sébastien
IPC分类号： C04B35/628 , C04B35/80
CPC分类号： C04B35/806 , C04B35/565 , C04B35/571 , C04B35/583 , C04B35/584 , C04B35/62868 , C04B35/62884 , C04B41/0072 , C04B2235/428 , C04B2235/483 , C04B2235/5244 , C04B2235/614 , C04B2235/616 , C04B2235/723
摘要： Une pièce en matériau composite à matrice au moins majoritairement en céramique est fabriquée par un procédé comprenant : la réalisation d'une préforme fibreuse à partir de fibres de carbure de silicium contenant moins de l%at d'oxygène; le dépôt sur les fibres de la préforme d'une interphase en nitrure de bore, le dépôt étant effectué par infiltration chimique en phase gazeuse avec une cinétique de dépôt inférieure à 0,3um/h; la réalisation d'un traitement thermique de stabilisation du nitrure de bore de l'interphase, après dépôt de l'interphase, sans exposition préalable de celle-ci à une atmosphère oxydante et avant dépôt de couche de matrice sur l'interphase, le traitement thermique étant réalisé à une température supérieure à 1300°C et au moins égale à la température maximale rencontrée ensuite jusqu'à achèvement de la densification de la préforme par la matrice; et ensuite, la densification de la préforme par une matrice au moins majoritairement en céramique.
摘要翻译：由至少主要由陶瓷制成的基质复合材料制成的部分通过以下方法制造：包括：由含有小于1at％的氧的碳化硅纤维制备纤维预制品; 在预型体的纤维上沉积氮化硼相间，沉积物通过气相化学浸渗以沉积速率低于0.3um / h进行; 进行热处理以使相间的氮化硼稳定，在相间沉积之后，在相之间淀积基质层之前，不先将其暴露于氧化气氛，在1300℃以上的温度下进行热处理并且至少等于随后遇到的最大温度，直到通过基质致密化预成型体为止; 接下来，通过至少主要由陶瓷制成的基体致密化预成型体。

4. 发明申请

WO2014013168A1 INSTALLATION D'INFILTRATION CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR À HAUTE CAPACITÉ DE CHARGEMENT 审中-公开
标题翻译：具有高负载能力的化学气相沉积装置
公开(公告)号：WO2014013168A1
公开(公告)日：2014-01-23
申请号：PCT/FR2013/051674
申请日：2013-07-12
申请人： HERAKLES
发明人： BERTRAND, Sébastien , LAMOUROUX, Franck , GOUJARD, Stéphane , DESCAMPS, Cédric
IPC分类号： C23C16/458 , C23C16/46 , C23C16/04 , C23C16/26
CPC分类号： C23C16/045 , C23C16/26 , C23C16/458 , C23C16/46
摘要： Installation d'infiltration chimique en phase vapeur (600) de préformes poreuses (20) de forme tridimensionnelle s'étendant principalement dans une direction longitudinale, l'installation comprenant : - une chambre de réaction (610) de forme parallélépipédique, les parois latérales (612, 613) de la chambre de réaction comprenant des moyens de chauffage (615), - une pluralité de piles (50) de dispositifs de chargement (10) disposées dans la chambre de réaction (610), chaque dispositif de chargement (10) étant formé d'une enceinte parallélépipédique munie d'éléments de support destinés à recevoir des préformes poreuses (20) à infiltrer.
摘要翻译：用于渗透主要沿纵向方向延伸的三维多孔预型件（20）的化学气相渗透装置（600），该装置包括：平行六面体反应室（610），反应室的侧壁（612,613）包括加热（615）; 以及放置在反应室（610）中的多个装载装置（10）的堆叠（50），每个装载装置（10）由平行六面体接收器形成，该平行六面体容器装备有用于容纳多孔预型件（20）的支撑元件渗透。

5. 发明申请

WO2013045788A1 DISPOSITIF DE CHARGEMENT POUR LA DENSIFICATION PAR INFILTRATION CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR EN FLUX DIRIGE DE SUBSTRATS POREUX DE FORME TRIDIMENTIONNELLE 审中-公开
标题翻译：通过三维多孔基板的方向流中的蒸汽相中的化学浸渗进行浓缩的装载装置
公开(公告)号：WO2013045788A1
公开(公告)日：2013-04-04
申请号：PCT/FR2012/052066
申请日：2012-09-14
申请人： HERAKLES , BERTRAND, Sébastien , LAMOUROUX, Franck , GOUJARD, Stéphane
发明人： BERTRAND, Sébastien , LAMOUROUX, Franck , GOUJARD, Stéphane
IPC分类号： C23C16/04
CPC分类号： C23C16/045 , C23C16/455
摘要： Dispositif de chargement (10) pour la densification, par infiltration chimique en phase vapeur en flux dirigé, dans une chambre de réaction d'un four d'infiltration, de substrats poreux (20) de forme tridimensionnelle s'étendant principalement dans une direction longitudinale, le dispositif comprenant un étage de chargement annulaire (11) formé par des première et deuxième enceintes verticales annulaires (110, 111) disposées concentriquement l'une par rapport à l'autre et délimitant entre elles un espace de chargement annulaire (13) pour les substrats poreux à densifier. Des premier et deuxième plateaux (112, 113) couvrent respectivement la partie inférieure et la partie supérieure de l'espace de chargement annulaire (13). Les première et deuxième enceintes verticales annulaires (110, 111) comprennent chacune des éléments de support (1100, 1110) répartis dans l'espace de chargement annulaire (13) de manière à définir entre eux des cellules de chargement unitaire (14) destinées à recevoir chacune un substrat à densifier. Le dispositif comprend en outre des orifices d'alimentation en gaz (1102) et des orifices d'évacuation de gaz (1112) au voisinage de chaque cellule de chargement unitaire (14).
摘要翻译：装载装置（10）用于通过在蒸汽相中的化学渗透通过化学渗透在主要在纵向方向上延伸的三维多孔基材（20）的入渗炉的反应室中进行致密化，所述装置包括环状载荷水平由第一和第二环形垂直单元（110,111）形成，第一和第二环形垂直单元（110,111）相对于彼此同心地分布并且在彼此之间限定用于多孔基底的致密化的环形加载区域（13）。第一和第二板（112,113）分别覆盖下部元件和环形装载区域（13）的上部元件。第一和第二环形垂直单元（110,111）各自包括分布在环形加载区域（13）中的支撑构件（1100,1110），以便在它们之间限定单元加载单元（14），每个单元加载单元旨在用于接收待致密化的基底。该装置还包括在每个单元装载单元（14）附近的气体供应孔（1102）和排气孔（1112）。

6. 发明公开

EP2900623A1 PROCEDE DE FABRICATION D'UNE PIECE EN CMC 有权转让
标题翻译： VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES CMC BAUTEILS
公开(公告)号：EP2900623A1
公开(公告)日：2015-08-05
申请号：EP13773298.8
申请日：2013-09-13
申请人： HERAKLES
发明人： GOUJARD, Stéphane , BOUILLON, Eric , DELCAMP, Adrien , BERTRAND, Sébastien
IPC分类号： C04B35/628 , C04B35/80
CPC分类号： C04B35/806 , C04B35/565 , C04B35/571 , C04B35/583 , C04B35/584 , C04B35/62868 , C04B35/62884 , C04B41/0072 , C04B2235/428 , C04B2235/483 , C04B2235/5244 , C04B2235/614 , C04B2235/616 , C04B2235/723
摘要： The part made of a matrix composite at least mainly made of ceramic is manufactured by a method comprising: producing a fibrous preform from silicon carbide fibres containing less than 1 at% oxygen; depositing on the fibres of the preform a boron nitride interphase, the deposit being carried out by gaseous phase chemical infiltration with a deposition rate lower than 0.3 um/h; carrying out a heat treatment for stabilising the boron nitride of the interphase, after deposition of the interphase, without prior exposure of the latter to an oxidising atmosphere before depositing a matrix layer on the interphase, the heat treatment being carried out at a temperature above 1300°C and at least equal to the maximum temperature subsequently encountered until densification of the preform by the matrix is complete; and next, densification of the preform by a matrix at least mainly made of ceramic.
摘要翻译：至少大部分由具有由陶瓷制成的基体的复合材料部件通过包括由低于1at％氧气的碳化硅纤维制成纤维预制件的方法来制造; 在预成型体的纤维上沉积氮化硼相，通过化学气相渗透以小于0.3μm/ h的沉积速率进行沉积; 进行热处理以使界面中的氮化硼稳定化，在相间沉积之后，没有预先将界面暴露于氧化气氛之前，并且在层间淀积基质层之前，在高于1300℃的温度下进行热处理并且不小于随后将遇到的最大温度，直到具有基质的预成型体的致密化已经完成; 此后，至少大部分地用陶瓷制成的基体致密化预型件。

7. 发明授权

EP2870272B1 DISPOSITIF DE CHARGEMENT ET INSTALLATION POUR LA DENSIFICATION DE PRÉFORMES POREUSES TRONCONIQUES EMPILABLES. 有权转让
标题翻译：装载机和系统进行压缩STACKABLE多孔预制成圆锥台形
公开(公告)号：EP2870272B1
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：EP13744678.7
申请日：2013-07-03
申请人： HERAKLES
发明人： GOUJARD, Stéphane , BERTRAND, Sébastien , DELCAMP, Adrien , BEAUVAIS, Franck
IPC分类号： C23C16/04 , C23C16/46 , C04B35/00 , C23C16/455 , C23C16/458
CPC分类号： C23C16/045 , C04B35/806 , C04B35/83 , C04B2235/614 , C04B2235/94 , C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/46

8. 发明公开

EP2875167A1 INSTALLATION D'INFILTRATION CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR À HAUTE CAPACITÉ DE CHARGEMENT 有权转让
标题翻译： CHEMISCHE GASPHASENINFILTRATIONSVORRICHTUNG MIT HOHERBELADUNGSKAPAZITÄT
公开(公告)号：EP2875167A1
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：EP13744739.7
申请日：2013-07-12
申请人： HERAKLES
发明人： BERTRAND, Sébastien , LAMOUROUX, Franck , GOUJARD, Stéphane , DESCAMPS, Cédric
IPC分类号： C23C16/458 , C23C16/46 , C23C16/04 , C23C16/26
CPC分类号： C23C16/045 , C23C16/26 , C23C16/458 , C23C16/46
摘要： Chemical vapour infiltration apparatus (600) for infiltrating three-dimensional porous preforms (20) mainly extending in a longitudinal direction, the apparatus comprising: a parallelepipedal reaction chamber (610), the side walls (612, 613) of the reaction chamber comprising heating means (615); and a plurality of stacks (50) of loading devices (10) placed in the reaction chamber (610), each loading device (10) being formed from a parallelepipedal recipient equipped with supporting elements intended to receive the porous preforms (20) to be infiltrated.
摘要翻译：主要在纵向方向上延伸的三维形状的多孔预型件的化学气相渗透装置，该装置包括一个平行六面体形状的反应室，反应室的侧壁包括加热装置和多个堆叠的装载器装置，在反应室中。每个装载器装置为平行六面体形状的外壳形式，其具有用于接收用于渗透的多孔预型件的支撑元件。

9. 发明公开

EP2870272A1 DISPOSITIF DE CHARGEMENT ET INSTALLATION POUR LA DENSIFICATION DE PRÉFORMES POREUSES TRONCONIQUES EMPILABLES. 有权转让
标题翻译：装载机和系统进行压缩STACKABLE多孔预制成圆锥台形
公开(公告)号：EP2870272A1
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：EP13744678.7
申请日：2013-07-03
申请人： HERAKLES
发明人： GOUJARD, Stéphane , BERTRAND, Sébastien , DELCAMP, Adrien , BEAUVAIS, Franck
IPC分类号： C23C16/04 , C23C16/458 , C23C16/46 , C04B35/00
CPC分类号： C23C16/045 , C04B35/806 , C04B35/83 , C04B2235/614 , C04B2235/94 , C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/46
摘要： Charging device (100) for densifying porous preforms (160-163) of stackable shape in a reaction chamber of an infiltration furnace by controlled flow chemical vapour infiltration, the device comprising: - a support plate (110), - a first stack of a plurality of lower rings (140-144) placed on the support plate (110) and comprising a plurality of injection orifices extending between the outer periphery and the inner periphery of each ring, - a second stack of a plurality of upper rings (150-154) comprising a plurality of discharge orifices extending between the outer periphery and the inner periphery of each ring, - a first non-porous wall (130) of a shape and size identical to those of the porous preforms (160-163) that are to be densified and arranged on the support plate (110) inside the lower rings (140-144) of the first stack, said first non-porous wall extending between the support plate and the upper ring situated at the base of the second stack, - a second non-porous wall (170) of a shape and size identical to those of the porous preforms (160-163) that are to be densified, said second non-porous wall extending between the lower ring (143) situated at the top of the first stack and the upper ring (154) situated at the top of the second stack.

10. 发明公开

EP2761053A1 DISPOSITIF DE CHARGEMENT POUR LA DENSIFICATION PAR INFILTRATION CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR EN FLUX DIRIGE DE SUBSTRATS POREUX DE FORME TRIDIMENTIONNELLE 有权转让
标题翻译：装载机受压化学浸渗在气相中的三维多孔基材LOOKING FLOW
公开(公告)号：EP2761053A1
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：EP12773044.8
申请日：2012-09-14
申请人： HERAKLES
发明人： BERTRAND, Sébastien , LAMOUROUX, Franck , GOUJARD, Stéphane
IPC分类号： C23C16/04
CPC分类号： C23C16/045 , C23C16/455
摘要： Loading device (10) for densification via chemical infiltration in steam phase in directed flow, in a reaction chamber of an infiltration oven, of three-dimensional porous substrates (20) extending primarily in a longitudinal direction, said device comprising an annular loading level (11) formed by first and second annular vertical units (110, 111) distributed concentrically in relation to one another and delimiting between one another an annular loading area (13) for the porous substrates to be densified. First and second plates (112, 113) respectively cover the lower element and the upper element of the annular loading area (13). The first and second annular vertical units (110, 111) each comprise supporting members (1100, 1110) distributed in the annular loading area (13) in such a manner as to define between them unit loading cells (14), each unit loading cell being intended for receiving a substrate to be densified. The device additionally comprises gas supply orifices (1102) and gas evacuation orifices (1112) in the vicinity of each unit loading cell (14).

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