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1. 发明申请

WO2014006324A1 DISPOSITIF DE CHARGEMENT ET INSTALLATION POUR LA DENSIFICATION DE PRÉFORMES POREUSES TRONCONIQUES EMPILABLES. 审中-公开
标题翻译：充电装置和安装用于扩大堆叠式多孔预制件
公开(公告)号：WO2014006324A1
公开(公告)日：2014-01-09
申请号：PCT/FR2013/051562
申请日：2013-07-03
申请人： HERAKLES
发明人： GOUJARD, Stéphane , BERTRAND, Sébastien , DELCAMP, Adrien , BEAUVAIS, Franck
IPC分类号： C23C16/04 , C23C16/458 , C23C16/46 , C04B35/00
CPC分类号： C23C16/045 , C04B35/806 , C04B35/83 , C04B2235/614 , C04B2235/94 , C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/46
摘要： Dispositif de chargement (100) pour la densification, par infiltration chimique en phase vapeur en flux dirigé, dans une chambre de réaction d'un four d'infiltration, de préformes poreuses (160-163) de forme empilable, le dispositif comprenant : - un plateau support (110), - un premier empilement d'une pluralité de couronnes inférieures (140-144) disposé sur le plateau support (110) et comportant une pluralité d'orifices d'injection s'étendant entre la périphérie externe et la périphérie interne de chaque couronne, - un deuxième empilement d'une pluralité de couronnes supérieures (150-154) comportant une pluralité d'orifices d'évacuation s'étendant entre la périphérie externe et la périphérie interne de chaque couronne, - une première paroi non poreuse (130) de forme et de dimensions identiques à celles des préformes poreuses à densifier (160- 163) disposée sur le plateau support (110) à l'intérieur des couronnes inférieures (140-144) du premier empilement, ladite première paroi non poreuse s'étendant entre le plateau support et la couronne supérieure située à la base du deuxième empilement, - une deuxième paroi non poreuse (170) de forme et de dimensions identiques à celles des préformes poreuses à densifier (160- 163), ladite deuxième paroi non poreuse s'étendant entre la couronne inférieure (143) située au sommet du premier empilement et la couronne supérieure (154) située au sommet du deuxième empilement.
摘要翻译：一种用于通过受控流化学气相渗透在渗透炉的反应室中致密化多层预型件（160-163）的充电装置（100），所述装置包括： - 支撑板（110）， - 第一堆叠多个下环（140-144）放置在支撑板（110）上并且包括在每个环的外周和内周之间延伸的多个注入孔， - 多个上环（150- 154），包括在每个环的外周和内周之间延伸的多个排放孔; - 第一无孔壁（130），其形状和尺寸与多孔预型件（160-163）的形状和尺寸相同，被致密化并布置在第一堆叠的下环（140-144）内的支撑板（110）上，所述第一无孔壁在支撑板和位于第二堆叠的基部的上环之间延伸， - 第二无孔壁（170）形状和尺寸与要被致密化的多孔预成型件（160-163）的形状和尺寸相同，所述第二无孔壁在位于第一堆叠的顶部的下环（143）和上环之间延伸（ 154）位于第二堆叠的顶部。

2. 发明授权

EP2870272B1 DISPOSITIF DE CHARGEMENT ET INSTALLATION POUR LA DENSIFICATION DE PRÉFORMES POREUSES TRONCONIQUES EMPILABLES. 有权转让
标题翻译：装载机和系统进行压缩STACKABLE多孔预制成圆锥台形
公开(公告)号：EP2870272B1
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：EP13744678.7
申请日：2013-07-03
申请人： HERAKLES
发明人： GOUJARD, Stéphane , BERTRAND, Sébastien , DELCAMP, Adrien , BEAUVAIS, Franck
IPC分类号： C23C16/04 , C23C16/46 , C04B35/00 , C23C16/455 , C23C16/458
CPC分类号： C23C16/045 , C04B35/806 , C04B35/83 , C04B2235/614 , C04B2235/94 , C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/46

3. 发明公开

EP2870272A1 DISPOSITIF DE CHARGEMENT ET INSTALLATION POUR LA DENSIFICATION DE PRÉFORMES POREUSES TRONCONIQUES EMPILABLES. 有权转让
标题翻译：装载机和系统进行压缩STACKABLE多孔预制成圆锥台形
公开(公告)号：EP2870272A1
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：EP13744678.7
申请日：2013-07-03
申请人： HERAKLES
发明人： GOUJARD, Stéphane , BERTRAND, Sébastien , DELCAMP, Adrien , BEAUVAIS, Franck
IPC分类号： C23C16/04 , C23C16/458 , C23C16/46 , C04B35/00
CPC分类号： C23C16/045 , C04B35/806 , C04B35/83 , C04B2235/614 , C04B2235/94 , C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/46
摘要： Charging device (100) for densifying porous preforms (160-163) of stackable shape in a reaction chamber of an infiltration furnace by controlled flow chemical vapour infiltration, the device comprising: - a support plate (110), - a first stack of a plurality of lower rings (140-144) placed on the support plate (110) and comprising a plurality of injection orifices extending between the outer periphery and the inner periphery of each ring, - a second stack of a plurality of upper rings (150-154) comprising a plurality of discharge orifices extending between the outer periphery and the inner periphery of each ring, - a first non-porous wall (130) of a shape and size identical to those of the porous preforms (160-163) that are to be densified and arranged on the support plate (110) inside the lower rings (140-144) of the first stack, said first non-porous wall extending between the support plate and the upper ring situated at the base of the second stack, - a second non-porous wall (170) of a shape and size identical to those of the porous preforms (160-163) that are to be densified, said second non-porous wall extending between the lower ring (143) situated at the top of the first stack and the upper ring (154) situated at the top of the second stack.

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