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热词
    • 1. 发明申请
    • MICROWAVE PLASMA SOURCE AND METHOD FOR FORMING A LINEARLY EXTENDED PLASMA UNDER ATMOSPHERIC PRESSURE CONDITIONS
    • 微波等离子体源及在大气压力条件下形成线性长运行等离子体的方法
    • WO2010066247A3
    • 2010-11-11
    • PCT/DE2009001765
    • 2009-12-08
    • FRAUNHOFER GES FORSCHUNGROCH JULIUSDANI INESKASKEL STEFAN
    • ROCH JULIUSDANI INESKASKEL STEFAN
    • H05H1/24
    • H05H1/46H05H2001/463
    • The invention relates to a microwave plasma source and to a method for forming a linearly extended plasma under atmospheric pressure conditions. The aim of the invention is to provide a possibility for a large-scale modification of substrate surfaces using a plasma formed under atmospheric pressure conditions, wherein constant conditions can be maintained over the entire surface to be modified. For a microwave plasma source according to the invention, at least one plasma outlet nozzle and at least one inlet for a plasma gas are present at a plasma chamber. At least two units, each having at least one magnetron and a slit antenna, are disposed outside of the plasma chamber at two diametrically opposite sides on a plasma chamber having non-rotationally symmetrical cross sections. The magnetrons can be operated in alternating pulsed mode.
    • 微波等离子体源和用于在大气压条件下形成线性伸长的等离子体的方法 本发明的目的是提供用大气压条件下形成的等离子体对衬底表面进行大规模改性的可能性,其中可在整个待改性表面上保持恒定条件。 在根据本发明的微波等离子体源中,等离子体室上存在至少一个等离子体出口喷嘴和至少一个等离子体气体供应源。 被连接到等离子体腔室具有非旋转对称的横截面的至少两个单元,它们与至少一种磁控管,和一个缝隙天线形成的,设置在所述等离子体腔室外侧的两个在直径上相对的两侧。 Magentrons将交替脉冲运行。
    • 2. 发明申请
    • METHOD AND DEVICE FOR IGNITING AN ARC
    • 用于点燃电弧闪光的方法和装置
    • WO2009124542A2
    • 2009-10-15
    • PCT/DE2009000498
    • 2009-04-07
    • FRAUNHOFER GES FORSCHUNGGRABAU PATRICKROCH JULIUSHOPFE VOLKMARDANI INES
    • GRABAU PATRICKROCH JULIUSHOPFE VOLKMARDANI INES
    • H05H1/24
    • H05H1/2406H05H2001/2412H05H2001/3426
    • The invention relates to a method and a device for igniting an arc between an anode and a cathode of a plasma source at ambient atmosphere conditions, said cathode being arranged at a distance to the anode and the plasma source being suitable to produce a substrate surface modification. The aim of the invention is to reduce the effort required for igniting an arc and to make the ignition process safer. The invention is characterized in that a barrier discharge is ignited by means of a supplied gas by means of two electrodes that are arranged in parallel to the longitudinal axis between the anode and the cathode, the electrodes being connected to a high voltage generator and being supplied with high-frequency alternating current voltage during ignition. When a direct current voltage is applied to the anode and the cathode, the charge carriers present due to the barrier discharge between the anode and the cathode allow ignition of an arc.
    • 本发明涉及一种用于点燃在等离子体源一定距离处布置的阳极和阴极之间的电弧的方法和装置,其可以用于在环境大气条件下进行衬底表面改性。 本发明的目的是降低点燃等离子体源电弧的费用并使点火过程更安全。 在本发明中,该过程是这样的,即通过两个平行于与高压发生器连接的阳极和阴极排列的电极之间的纵向轴线并且在利用高频交流电压点燃时采用供应气体点燃阻挡放电。 结果,当施加施加到阳极和阴极的直流电压时,在由阳极和阴极之间的阻挡放电所携带的电荷载流子的情况下,电弧可以被点燃。
    • 10. 发明专利
    • Abscheidevorrichtung
    • DE102017205613B4
    • 2018-10-11
    • DE102017205613
    • 2017-04-03
    • FRAUNHOFER GES FORSCHUNG
    • ROCH JULIUSMÄDER GERRIT
    • C23C16/511C23C16/27
    • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Abscheidevorrichtung und ein Verfahren zum Abscheiden. Die Abscheidevorrichtung weist eine Prozesskammer (1), in der ein Probenhalter (2) und dem Probenhalter (2) gegenüberliegend eine Antenne (3) und eine Kurzschlussplatte (4) angeordnet sind, einen Mikrowellengenerator (5), der elektrisch mit der Antenne (3) verbunden ist, und eine Gaszuführvorrichtung (6) zum Zuführen mindestens eines Prozessgases in die Prozesskammer (1) auf. Die Antenne (3) ist derart angeordnet, dass ein elektromagnetisches Mikrowellenfeld mit einer festen Mode in der Prozesskammer (1) ausgebildet ist, so dass sich oberhalb des Probenhalters (2) ein Plasma (7) aus dem Prozessgas ausbildet, mit dem eine Beschichtung einer Oberfläche einer am Probenhalter (2) angeordneten Probe (11) erreichbar ist. Die Antenne (3) und/oder die Kurzschlussplatte (4) ist gegenüber einer Längsachse (8) der Prozesskammer (1) durch eine Antriebsvorrichtung (9) in mindestens einer translatorischen Bewegung rechtwinklig zu der Längsachse (8) der Prozesskammer (1) und/oder mindestens einer rotatorischen Bewegung um eine von der Längsachse (8) der Prozesskammer (1) abgewinkelte Achse beweglich.