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1. 发明专利

JP2010189753A Plating bath and plating method using the same 有权
标题翻译：使用它的镀锌浴和镀层方法
公开(公告)号：JP2010189753A
公开(公告)日：2010-09-02
申请号：JP2009038368
申请日：2009-02-20
申请人： Daiwa Fine Chemicals Co Ltd (Laboratory) , Kyoto Ichi , Metek Kitamura Co Ltd , Yasushi Mizutani , Toshihiro Nakamura , メテック北村株式会社 , 俊博中村 , 京都市 , 株式会社大和化成研究所 , 泰水谷
发明人： YOSHIMOTO MASAKAZU , KITAMURA SHINGO , KAWAGUCHI KEIKO , INOUE NAOYA , NAKAMURA TOSHIHIRO , MIZUTANI YASUSHI , NAKAI YOJI , NAWAFUNE HIDEMI
IPC分类号： C25D3/58
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plating bath achieving good performance of a plating film and to provide a plating method using the bath. SOLUTION: The plating bath does not substantially contain a cyanide compound but contains: (A) a thiourea compound expressed by chemical formula (1), X 1 X 2 NC(=S)NX 3 X 4 ; and (B) at least one of water-soluble salt or water-soluble complex of a metal, as a plating metal, selected from elements in groups 8 to 11, group 12 except for mercury, group 13, group 14 and group 15 in the fourth to sixth periods of the periodical table. In formula (1), X 1 , X 2 , X 3 and X 4 each represents hydrogen, an alkyl or allyl group, or a group expressed by chemical formula (2), -(CHZ 1 -CH 2 -S) n -Y. In formula (2), Z 1 represents hydrogen or a methyl group; n represents an integer of 0 to 10; Y represents a group expressed by chemical formula (3), -CHZ 2 -CH 2 -D. In formula (3), Z 2 represents hydrogen or a methyl group; D represents SH, OH, NX 5 X 6 or COOH; X 5 and X 6 may be identical or different from each other; and at least one in X 1 , X 2 , X 3 and X 4 is a group expressed by formula (2). COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种获得镀膜性能良好的电镀浴，并提供使用该浴的电镀方法。电镀液基本上不含有氰化物，但含有：（A）由化学式（1）表示的硫脲化合物，X 1 X 2 NC（= S）NX 3 X 4 ; 和（B）除了汞，第13族，第14族和第15族之外，选自第8组至第11组，第12组的元素的金属的金属溶液盐或水溶性复合物中的至少一种作为电镀金属期刊第四至第六期。在式（1）中，X 1 ，X 2 ，X 3 和X 4 分别表示氢，烷基或烯丙基，或由化学式（2）表示的基团， - （CHZ 1 -S 。在式（2）中，Z 1表示氢或甲基; n表示0〜10的整数， Y表示由化学式（3）表示的基团，-CHZ 2 -CH 2 。在式（3）中，Z 2表示氢或甲基; D表示SH，OH，NX X 6或COOH; X 5 和X 6 可以相同或不同; X 1 ，X 2 ，X 3 和X 4 中的至少一个是由式（2）。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

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