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    • 3. 发明专利
    • 可直角轉向輸送基板的基板輸送裝置 APPARATUS CAPABLE OF TRANSPORTING WORKS IN VERTICAL DIRECTION
    • 可直角转向输送基板的基板输送设备 APPARATUS CAPABLE OF TRANSPORTING WORKS IN VERTICAL DIRECTION
    • TWI322788B
    • 2010-04-01
    • TW095142958
    • 2006-11-21
    • DMS有限公司
    • 文熙錫李碩周
    • B65G
    • 本發明涉及一種在基板處理線之間直角輸送基板的基板輸送裝置,該裝置安裝在基板處理線的直角轉向部中,其包括:框架部,具有相互對置的二框架,而其中一框架鉛直方向上的位置高於另一側框架鉛直方向上的位置;轉動輥部,可轉動地安裝於上述框架部上,並用於輸送基板;輥驅動部,一體安裝於上述框架部上,為輸送基板向轉動輥部施加轉動力並控制轉動速度;框架驅動部,可轉動地結合於上述框架部的底部,當基板以傾斜狀態搬送到上述框架部上時,直角轉動上述框架部,並從另一側輸出基板。 【創作特點】 本發明鑒於上述問題而作,其目的在於提供一種在傾斜設置基板的狀態下,能夠同時進行輸送和轉動的基板直角轉向輸送裝置。
      另外,本發明的另一個目的在於提供一種一體具備用於輸送基板的轉動輥部和用於驅使該轉動輥部旋轉的驅動部,由此簡化結構而能夠減少維護及製造時間的基板直角轉向輸送裝置。
      另外,本發明的另一個目的在於提供一種以傾斜的狀態輸送基板,由此能夠置換藥液的基板直角轉向輸送裝置。
      為實現如上所述的目的,本發明的一個較佳實施例提供一種基板輸直角轉向輸送裝置,該裝置安裝在直角轉向部中,其包括:框架部,具有相互對置的二框架,而其中一框架鉛直方向上的位置高於另一側框架鉛直方向上的位置;轉動輥部,可轉動地安裝在上述框架部上,並輸送基板;輥驅動部,連接在上述框架部上,且為輸送基板而向轉動輥部施加轉動力並用於控制轉動速度;框架驅動部,結合於上述框架部的底部,當基板以傾斜狀態搬入到上述框架部上時,可直角轉動上述框架部,並從另一側搬出基板。
      另外,本發明的一種基板直角轉向輸送裝置另一個較佳實施例如下。該裝置安裝在直角轉向部,其包括:框架部,具有相互對置的二框架,且其上端呈水平平行狀;轉動輥部,可轉動地安裝在上述框架部上,並用於輸送基板;輥驅動部,連接在上述框架部上,且為輸送基板而向轉動輥部施加轉動力,並用於控制轉動速度;框架驅動部,可旋轉地結合於上述一對框架部的底部,當基板以傾斜狀態搬入到上述框架部上時,直角轉動上述框架部,並從另一側搬出基板;以及傾斜單元,安裝在上述轉動輥部的底部,而且擡起上述框架部的一側而使其傾斜。
      採用本發明,通過一體設置用於輸送基板的框架部和用於轉動該框架部的框架驅動部來簡化結構,從而不僅能夠減少維護及製造時間,還能夠節約製造成本。
      另外,當直角輸送基板時,在傾斜配置基板的狀態,同時實現輸送和轉動,因此可以減少輸送時間,而且由於基板以傾斜狀態被傳送,因此具有置換藥液的效果。
    • 本发明涉及一种在基板处理线之间直角输送基板的基板输送设备,该设备安装在基板处理线的直角转向部中,其包括:框架部,具有相互对置的二框架,而其中一框架铅直方向上的位置高于另一侧框架铅直方向上的位置;转动辊部,可转动地安装于上述框架部上,并用于输送基板;辊驱动部,一体安装于上述框架部上,为输送基板向转动辊部施加转动力并控制转动速度;框架驱动部,可转动地结合于上述框架部的底部,当基板以倾斜状态搬送到上述框架部上时,直角转动上述框架部,并从另一侧输出基板。 【创作特点】 本发明鉴于上述问题而作,其目的在于提供一种在倾斜设置基板的状态下,能够同时进行输送和转动的基板直角转向输送设备。 另外,本发明的另一个目的在于提供一种一体具备用于输送基板的转动辊部和用于驱使该转动辊部旋转的驱动部,由此简化结构而能够减少维护及制造时间的基板直角转向输送设备。 另外,本发明的另一个目的在于提供一种以倾斜的状态输送基板,由此能够置换药液的基板直角转向输送设备。 为实现如上所述的目的,本发明的一个较佳实施例提供一种基板输直角转向输送设备,该设备安装在直角转向部中,其包括:框架部,具有相互对置的二框架,而其中一框架铅直方向上的位置高于另一侧框架铅直方向上的位置;转动辊部,可转动地安装在上述框架部上,并输送基板;辊驱动部,连接在上述框架部上,且为输送基板而向转动辊部施加转动力并用于控制转动速度;框架驱动部,结合于上述框架部的底部,当基板以倾斜状态搬入到上述框架部上时,可直角转动上述框架部,并从另一侧搬出基板。 另外,本发明的一种基板直角转向输送设备另一个较佳实施例如下。该设备安装在直角转向部,其包括:框架部,具有相互对置的二框架,且其上端呈水平平行状;转动辊部,可转动地安装在上述框架部上,并用于输送基板;辊驱动部,连接在上述框架部上,且为输送基板而向转动辊部施加转动力,并用于控制转动速度;框架驱动部,可旋转地结合于上述一对框架部的底部,当基板以倾斜状态搬入到上述框架部上时,直角转动上述框架部,并从另一侧搬出基板;以及倾斜单元,安装在上述转动辊部的底部,而且抬起上述框架部的一侧而使其倾斜。 采用本发明,通过一体设置用于输送基板的框架部和用于转动该框架部的框架驱动部来简化结构,从而不仅能够减少维护及制造时间,还能够节约制造成本。 另外,当直角输送基板时,在倾斜配置基板的状态,同时实现输送和转动,因此可以减少输送时间,而且由于基板以倾斜状态被发送,因此具有置换药液的效果。
    • 4. 发明专利
    • 蝕刻氣體的控制系統
    • 蚀刻气体的控制系统
    • TW201108327A
    • 2011-03-01
    • TW099128219
    • 2010-08-24
    • DMS有限公司
    • 高誠庸金珉植李炳日文熙錫李洸旼金起鉉李元默
    • H01L
    • G05D7/0641H01J37/32449
    • 本發明涉及一種蝕刻氣體的控制系統,所述的控制系統包括一個品質流動控制單元,一個流率控制單元和一個調節氣體控制單元;所述的品質流動控制單元控制輸入到內室中的蝕刻氣體的品質流動;所述的流率控制單元將蝕刻氣體輸配給與品質流動控制單元相連、並安裝在內室中的一個頂部氣體注射器和一個側部氣體注射器;所述的調節氣體控制單元向品質流動控制單元和流率控制單元輸配並補充一種外加氣體和調節氣體,這些氣體能調節內室中等離子體的離子密度和分佈。
    • 本发明涉及一种蚀刻气体的控制系统,所述的控制系统包括一个品质流动控制单元,一个流率控制单元和一个调节气体控制单元;所述的品质流动控制单元控制输入到内室中的蚀刻气体的品质流动;所述的流率控制单元将蚀刻气体输配给与品质流动控制单元相连、并安装在内室中的一个顶部气体注射器和一个侧部气体注射器;所述的调节气体控制单元向品质流动控制单元和流率控制单元输配并补充一种外加气体和调节气体,这些气体能调节内室中等离子体的离子密度和分布。