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1. 发明申请

WO2007112997A1 REFLECTING OPTICAL ELEMENT WITH ECCENTRIC OPTICAL PASSAGEWAY 审中-公开
标题翻译：用偏心光学通道反射光学元件
公开(公告)号：WO2007112997A1
公开(公告)日：2007-10-11
申请号：PCT/EP2007/002951
申请日：2007-04-02
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHERLE, Hans-Jürgen , KWAN, Yim-Bun, Patrick , XALTER, Stefan , LIPPERT, Johannes , WEBER, Ulrich , GEUPPERT, Bernhard , GELLRICH, Bernhard , KUGLER, Jens , SORG, Franz , HEINTEL, Willi , KIRCHNER, Harald , KELLER, Wolfgang , FROMMEYER, Andreas , MORRISON, Fraser, G.
发明人： SCHERLE, Hans-Jürgen , KWAN, Yim-Bun, Patrick , XALTER, Stefan , LIPPERT, Johannes , WEBER, Ulrich , GEUPPERT, Bernhard , GELLRICH, Bernhard , KUGLER, Jens , SORG, Franz , HEINTEL, Willi , KIRCHNER, Harald , KELLER, Wolfgang , FROMMEYER, Andreas , MORRISON, Fraser, G.
IPC分类号： G02B17/08 , G03F7/20 , G02B7/182
CPC分类号： G02B17/0812 , G03F7/70225 , G03F7/70825
摘要： There is provided an optical element comprising an optical element body (107.1, 108.1), a reflecting area (107.4, 108.4) and an optical passageway (107.6, 108.6). The optical element body defines an axis of rotational symmetry (107.3, 108.3). The reflecting area is disposed on the optical element body and adapted to be optically used in an exposure process. The optical passageway is arranged within the optical element body and allows light to pass the optical element body, the optical passageway being arranged eccentrically with respect to the axis of rotational symmetry.
摘要翻译：提供了一种光学元件，包括光学元件主体（107.1,108.1），反射区域（107.4,108.4）和光学通道（107.6,108.6）。光学元件主体限定旋转对称轴（107.3,108.3）。反射区域设置在光学元件主体上并且适于在曝光过程中被光学地使用。光学通道布置在光学元件主体内并允许光通过光学元件主体，光学通道相对于旋转对称轴线偏心地布置。

2. 发明申请

WO2007006577A1 OPTICAL ELEMENT 审中-公开
标题翻译：光学元件
公开(公告)号：WO2007006577A1
公开(公告)日：2007-01-18
申请号：PCT/EP2006/006874
申请日：2006-07-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , RAU, Johannes , SCHOEPPACH, Armin , GEUPPERT, Bernhard
发明人： RAU, Johannes , SCHOEPPACH, Armin , GEUPPERT, Bernhard
IPC分类号： G02B7/02 , F16F7/00
CPC分类号： G02B7/001 , F16F7/01 , F16F7/108 , G02B7/02 , G02B27/646 , G03F7/70825 , G03F7/709
摘要： An optical element has at least one additional element fitted thereon which dissipates the vibrational energy of the optical element by friction.
摘要翻译：光学元件具有安装在其上的至少一个附加元件，其通过摩擦消散光学元件的振动能。

3. 发明申请

WO2009089999A1 PROJECTION EXPOSURE SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY WITH A MEASUREMENT DEVICE 审中-公开
标题翻译：用于具有测量装置的微观计算的投影曝光系统
公开(公告)号：WO2009089999A1
公开(公告)日：2009-07-23
申请号：PCT/EP2009/000006
申请日：2009-01-02
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MÜLLER, Ulrich , STÜHLER, Joachim , GROMER, Oswald , FREIMANN, Rolf , KAUFMANN, Paul , GEUPPERT, Bernhard
发明人： MÜLLER, Ulrich , STÜHLER, Joachim , GROMER, Oswald , FREIMANN, Rolf , KAUFMANN, Paul , GEUPPERT, Bernhard
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70775 , G03F7/70258 , G03F7/706 , G03F7/70633 , G03F7/70725 , G03F7/7085 , G03F7/70891
摘要： A projection exposure system (10) for microlithography is provided. The latter comprises: a mask holding device (14) for holding a mask (18) with mask structures (20) disposed on the latter, a substrate holding device (36) for holding a substrate (30), projection optics (26) for imaging the mask structures (20) onto the substrate (30) during an exposure process, and a measurement structure (48) which is disposed in a defined position with respect to a reference element (16) of the projection exposure system (10), which defined position is mechanically uncoupled from the position of the mask holding device (14). The projection exposure system (10) further comprises a detector (52) arranged for recording an image of the measurement structure (48) produced by imaging of the latter by means of the projection optics (26), the projection exposure system (10) being configured such that during operation of the projection exposure system (10) the imaging the mask structures (20) and the imaging of the measurement structure (48) take place at the same time respectively by means of the projection optics (26), and an evaluation device (54) which is configured to establish a lateral position of the image of the measurement structure (48) in the area of the detector (52) during the exposure process.
摘要翻译：提供了一种用于微光刻的投影曝光系统（10）。后者包括：用于保持具有设置在其上的掩模结构（20）的掩模（18）的掩模保持装置（14），用于保持基板（30）的基板保持装置（36），用于在曝光处理期间将掩模结构（20）成像到基板（30）上，以及相对于投影曝光系统（10）的参考元件（16）设置在限定位置的测量结构（48）所述限定位置与所述掩模保持装置（14）的位置机械地脱离。投影曝光系统（10）还包括检测器（52），其被布置用于通过投影光学器件（26）对由后者进行成像而产生的测量结构（48）的图像进行记录，所述投影曝光系统（10）被配置为使得在投影曝光系统（10）的操作期间，分别通过投影光学器件（26）同时进行掩模结构（20）的成像和测量结构（48）的成像，并且评估装置（54），其被配置为在曝光处理期间在所述检测器（52）的区域中建立所述测量结构（48）的图像的横向位置。

4. 发明申请

WO2006037651A1 OPTICAL PROJECTION SYSTEM 审中-公开
标题翻译：光学投影系统
公开(公告)号：WO2006037651A1
公开(公告)日：2006-04-13
申请号：PCT/EP2005/010819
申请日：2005-10-01
申请人： CARL ZEISS SMT AG , RAU, Johannes , SCHÖPPACH, Armin , GELLRICH, Bernhard , KUGLER, Jens , MAHLMANN, Martin , GEUPPERT, Bernhard , PETASCH, Thomas , FÜRTER, Gerhard
发明人： RAU, Johannes , SCHÖPPACH, Armin , GELLRICH, Bernhard , KUGLER, Jens , MAHLMANN, Martin , GEUPPERT, Bernhard , PETASCH, Thomas , FÜRTER, Gerhard
IPC分类号： G02B7/00 , G03F7/20 , G02B17/08
CPC分类号： G03F7/7015 , G02B7/00 , G02B7/008 , G02B7/021 , G02B7/028 , G02B7/22 , G02B17/08 , G02B17/0804 , G02B17/0812 , G02B17/0892 , G03F7/70808 , G03F7/70825 , G03F7/70833 , G03F7/70883
摘要： An optical projection unit comprising a first optical element module and at least one second optical element module is provided. The first optical element module comprises a first housing unit and at least a first optical element, the first optical element being received within the first housing unit and having an optically used first region defining a first optical axis. The at least one second optical element module is located adjacent to the first optical element module and comprises at least one second optical element, the second optical element defining a second optical axis of the optical projection unit. The first housing unit has a central first housing axis and an outer wall extending in a circumferential direction about the first housing axis. The first optical axis is at least one of laterally offset and inclined with respect to the first housing axis. Furthermore, the first housing axis is substantially collinear with the second optical axis.
摘要翻译：提供了包括第一光学元件模块和至少一个第二光学元件模块的光学投影单元。第一光学元件模块包括第一壳体单元和至少第一光学元件，第一光学元件被接收在第一壳体单元内并且具有限定第一光轴的光学使用的第一区域。所述至少一个第二光学元件模块位于与所述第一光学元件模块相邻并且包括至少一个第二光学元件，所述第二光学元件限定所述光学投影单元的第二光轴。第一壳体单元具有中心的第一壳体轴线和围绕第一壳体轴线在圆周方向上延伸的外壁。第一光轴是相对于第一壳体轴线的横向偏移和倾斜中的至少一个。此外，第一壳体轴线与第二光轴基本共线。

5. 发明申请

WO2008049926A2 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM AUSTAUSCH VON OBJEKTIVTEILEN 审中-公开
标题翻译：方法和设备交换镜头各部
公开(公告)号：WO2008049926A2
公开(公告)日：2008-05-02
申请号：PCT/EP2007/061563
申请日：2007-10-26
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GEUPPERT, Bernhard , LIMBACH, Guido , WÖLFLE, Harald , DEUFEL, Peter
发明人： GEUPPERT, Bernhard , LIMBACH, Guido , WÖLFLE, Harald , DEUFEL, Peter
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925 , B08B3/12 , B08B7/0035 , B23P6/00 , G03F7/70808 , G03F7/70825 , G03F7/70833 , G03F7/70916 , G03F7/70975 , Y10T29/49723
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Austausch von Objektivteilen insbesondere eines Projektions- oder Beleuchtungsobjektivs für die Mikrolithographie, bei welchem ein Objektiv mit einem Objektivinnenraum und darin vorgesehenen Objektivteilen bereitgestellt wird, bei welchem mindestens ein Objektivteil austauschbar im Objektiv aufgenommen ist und wobei das austauschbare Objektivteil unmittelbar vor dem Einbau in das Objektiv außerhalb des Objektivinnenraums in mindestens einem von der Umgebungsatmosphäre abgeschlossenen Reinigungsraum gereinigt wird und sofort nach der Reinigung ohne Kontakt mit der Umgebungsatmosphäre in das Objektiv eingebaut wird.
摘要翻译：本发明涉及一种方法和用于特别是用于微光刻的投射或照明物镜部件交换的装置，其特征在于，设置有透镜的内部和设置于其中的目标部分的透镜，其特征在于，其中至少一个目标的是可更换的透镜中，并且其中所述可互换镜头部分在透镜清洁的透镜内部空间的外部到从环境大气立即安装之前至少一个封闭的清洗腔室，并清洗，而不与周围大气接触到透镜后，立即安装。

6. 发明申请

WO2008064859A2 OPTICAL SYSTEM WITH AN EXCHANGEABLE, MANIPULABLE CORRECTION ARRANGEMENT FOR REDUCING IMAGE ABERRATIONS 审中-公开
标题翻译：光学系统具有可交换的可操作的校正装置，用于减少图像抖动
公开(公告)号：WO2008064859A2
公开(公告)日：2008-06-05
申请号：PCT/EP2007/010286
申请日：2007-11-27
申请人： CARL ZEISS SMT AG , XALTER, Stefan , MEYER, Peter , LIMBACH, Guido , SORG, Franz , SCHOEPPACH, Armin , WEBER, Ulrich , LOERING, Ulrich , HELLWEG, Dirk , KUGLER, Jens , GELLRICH, Bernhard , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , GÖHNERMEIER, Aksel
发明人： XALTER, Stefan , MEYER, Peter , LIMBACH, Guido , SORG, Franz , SCHOEPPACH, Armin , WEBER, Ulrich , LOERING, Ulrich , HELLWEG, Dirk , KUGLER, Jens , GELLRICH, Bernhard , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , GÖHNERMEIER, Aksel
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B7/004 , G02B27/0068 , G03F7/70191 , G03F7/70258 , G03F7/70308 , G03F7/70825
摘要： The invention relates to a projection exposure apparatus for semiconductor lithography, comprising at least one manipulator (14) for reducing image aberrations, wherein the manipulator (14) contains at least one optical element (8) which can be manipulated by means of at least one actuator (13), and wherein the manipulator (14) is formed in changeable fashion together with an actuator (13).
摘要翻译：本发明涉及一种用于半导体光刻的投影曝光装置，包括至少一个用于减小图像像差的操纵器（14），其中所述操纵器（14）包含至少一个光学元件（8），所述至少一个光学元件可通过至少一个致动器（13），并且其中所述操纵器（14）与致动器（13）一起以可变方式形成。

7. 发明申请

WO2008022797A1 PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE UND OPTISCHES SYSTEM 审中-公开
标题翻译：投影曝光系统及光学系统
公开(公告)号：WO2008022797A1
公开(公告)日：2008-02-28
申请号：PCT/EP2007/007448
申请日：2007-08-24
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BLEIDISTEL, Sascha , GEUPPERT, Bernhard
发明人： BLEIDISTEL, Sascha , GEUPPERT, Bernhard
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70833 , G02B7/023 , G03F7/70258 , G03F7/70825 , H01L41/0913 , H02N2/0095 , H02N2/021 , H02N2/028
摘要： Eine Projektionsbelichtungsanlage (1) ist mit einer Beleuchtungseinrichtung (3) und einem Projektionsobjektiv (7) versehen. Wenigstens ein optisches Element (10) ist mit einem eine Antriebseinrichtung (11) aufweisenden Manipulator versehen. Die Antriebseinrichtung (11) weist wenigstens ein bewegliches Teilelement (12) und wenigstens ein feststehendes Teilelement (13) auf, welche relativ zueinander in wenigstens einer Bewegungsrichtung beweglich sind. Die Antriebseinrichtung (11) ist als Direktantrieb derart ausgebildet, dass das optische Element (10) bis zu 1.000 μm mit einer Genauigkeit von 10nm in wenigstens zwei Freiheitsgraden verschiebbar ist.
摘要翻译：一种投影曝光装置（1）设置有照明装置（3）和投射透镜（7）。至少一个光学元件（10）设置有驱动装置（11），其具有机械手。驱动装置（11）包括至少一个可移动部件（12）和至少一个固定部元件（13）相对于彼此在运动中的至少一个方向上移动它们。作为直接驱动以这样的方式构成，即所述光学元件（10）到1.000微米，10nm的精度是在至少两个自由度移动的设置在所述驱动装置（11）。

8. 发明申请

WO2008012022A1 OPTISCHE VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR KORREKTUR BZW. VERBESSERUNG DES ABBILDUNGSVERHALTENS EINER SOLCHEN VORRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：光学装置和方法纠正或改善PICTURE行为这种装置
公开(公告)号：WO2008012022A1
公开(公告)日：2008-01-31
申请号：PCT/EP2007/006407
申请日：2007-07-19
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHRIEVER, Martin , WEGMANN, Ulrich , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , HUBER, Jürgen , KERWIEN, Norbert , TOTZECK, Michael , HAUF, Markus
发明人： SCHRIEVER, Martin , WEGMANN, Ulrich , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , HUBER, Jürgen , KERWIEN, Norbert , TOTZECK, Michael , HAUF, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70825 , G03F7/70041 , G03F7/70266
摘要： Eine optische Vorrichtung weist eine Lichtquelle, die Licht in Form von Lichtpulsen mit einer Pulsfrequenz abstrahlt, und mindestens ein optisches Element auf, das mit Vorrichtungen zur Anregung einer Schwingung mit einer Schwingungsfrequenz verbunden ist. Die Schwingung des optischen Elements führt zu einer zeitlich periodischen Modulation zumindest eines für die optische Abbildung relevanten Parameters des optischen Elements. Die Schwingungsfrequenz ist mittels der Vorrichtungen zur Anregung einer Schwingung des optischen Elements so einstellbar, dass sie mit der Pulsfrequenz der Lichtquelle synchronisiert ist. Es ist ein Taktgeber für die Pulsfrequenz der Lichtpulse vorgesehen, wobei mit dem Taktgeber zumindest ein Frequenzvervielfacher verbunden ist, dessen Ausgang mit den Vorrichtungen zur Anregung einer Schwingung verbunden ist. Des Weiteren wird ein Verfahren zur Korrektur bzw. Verbesserung des Abbildungsverhaltens einer optischen Vorrichtung beschrieben.
摘要翻译：一种光学器件，包括：在具有脉冲频率的光脉冲的形式发射光的光源，和其中至少一个是在振荡频率连接到用于振荡的激发光学元件。该光学元件的振动导致相关的光学元件的光学成像参数的至少一个的时间上周期性的调制。使得它由设备用于光学元件的振荡的激励的装置与所述光源的脉冲频率同步的振荡频率是可调整的。提供了一种用于在光脉冲的脉冲频率，其中至少一个倍频器连接到所述时钟，其输出被连接到所述装置用于振荡的激励一个时钟发生器。此外，用于校正或改善所述的光学器件的成像特性的方法。

9. 发明申请

WO2005081029A2 HOUSING STRUCTURE FOR MOUNTING OPTICAL ELEMENTS 审中-公开
标题翻译：用于安装光学元件的住房结构
公开(公告)号：WO2005081029A2
公开(公告)日：2005-09-01
申请号：PCT/EP2005/001826
申请日：2005-02-22
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ASML NETHERLANDS B.V. , KWAN, Yim-Bun, Patrick , GEUPPERT, Bernhard , KEMPER, Nico
发明人： KWAN, Yim-Bun, Patrick , GEUPPERT, Bernhard , KEMPER, Nico
IPC分类号： G02B7/02
CPC分类号： G02B7/02 , G03F7/70833

10. 发明申请

WO2004019104A1 VORRICHTUNG ZUR AUFNAHME EINER OPTISCHEN BAUGRUPPE IN EINER ABBILDUNGSEINRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：装置可用来记录光学组件在图片设置
公开(公告)号：WO2004019104A1
公开(公告)日：2004-03-04
申请号：PCT/EP2003/007257
申请日：2003-07-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , RAU, JOHANNES , SCHOEPPACH, Armin , GEUPPERT, Bernhard
发明人： RAU, JOHANNES , SCHOEPPACH, Armin , GEUPPERT, Bernhard
IPC分类号： G02B7/02
CPC分类号： G03F7/70833 , G02B7/021 , G02B13/143 , G03F7/70825
摘要： Eine Vorrichtung dient zur Aufnahme einer optischen Baugruppe (12) in einer mehrere optische Baugruppen umfassenden Abbildungseinrichtung (7,7'). Insbesondere dient die Vorrichtung zur Aufnahme einer Linsengruppe in einem Objektiv. Die optische Baugruppe (12) ist über wenigstens ein Entkopplungselement (14,14',16) in wenigstens einem Bereich in einer Tragstruktur (13) aufgehängt. Das wenigstens eine Entkopplungselement (14,14',16) ist in dem wenigstens einen Bereich in seiner resultierenden Wirkung eine mögliche Bewegung in wenigstens einer geeigneten von drei orthogonalen Raumrichtungen hinsichtlich Rotation oder Translation behindert ist, sodass zumindest eine statisch bestimmte Lagerung entsteht.
摘要翻译：使用一种设备，以适应多个包含成像装置（7,7“）的光学组件的光学组件（12）。特别地，该装置中所使用的透镜保持的透镜组。所述光学组件（12）经由至少一个脱扣元件（14,14”，16）在至少一个区域中的支撑结构（13）悬挂。在至少至少一个合适的在空间的三个正交方向相对于旋转受阻或翻译的可能的运动的其产生的效果的至少一个脱扣元件（14,14”，16）在所述一个区域中，从而形成至少一个静态定义的轴承。

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