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1. 发明申请

WO2009089999A1 PROJECTION EXPOSURE SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY WITH A MEASUREMENT DEVICE 审中-公开
标题翻译：用于具有测量装置的微观计算的投影曝光系统
公开(公告)号：WO2009089999A1
公开(公告)日：2009-07-23
申请号：PCT/EP2009/000006
申请日：2009-01-02
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MÜLLER, Ulrich , STÜHLER, Joachim , GROMER, Oswald , FREIMANN, Rolf , KAUFMANN, Paul , GEUPPERT, Bernhard
发明人： MÜLLER, Ulrich , STÜHLER, Joachim , GROMER, Oswald , FREIMANN, Rolf , KAUFMANN, Paul , GEUPPERT, Bernhard
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70775 , G03F7/70258 , G03F7/706 , G03F7/70633 , G03F7/70725 , G03F7/7085 , G03F7/70891
摘要： A projection exposure system (10) for microlithography is provided. The latter comprises: a mask holding device (14) for holding a mask (18) with mask structures (20) disposed on the latter, a substrate holding device (36) for holding a substrate (30), projection optics (26) for imaging the mask structures (20) onto the substrate (30) during an exposure process, and a measurement structure (48) which is disposed in a defined position with respect to a reference element (16) of the projection exposure system (10), which defined position is mechanically uncoupled from the position of the mask holding device (14). The projection exposure system (10) further comprises a detector (52) arranged for recording an image of the measurement structure (48) produced by imaging of the latter by means of the projection optics (26), the projection exposure system (10) being configured such that during operation of the projection exposure system (10) the imaging the mask structures (20) and the imaging of the measurement structure (48) take place at the same time respectively by means of the projection optics (26), and an evaluation device (54) which is configured to establish a lateral position of the image of the measurement structure (48) in the area of the detector (52) during the exposure process.
摘要翻译：提供了一种用于微光刻的投影曝光系统（10）。后者包括：用于保持具有设置在其上的掩模结构（20）的掩模（18）的掩模保持装置（14），用于保持基板（30）的基板保持装置（36），用于在曝光处理期间将掩模结构（20）成像到基板（30）上，以及相对于投影曝光系统（10）的参考元件（16）设置在限定位置的测量结构（48）所述限定位置与所述掩模保持装置（14）的位置机械地脱离。投影曝光系统（10）还包括检测器（52），其被布置用于通过投影光学器件（26）对由后者进行成像而产生的测量结构（48）的图像进行记录，所述投影曝光系统（10）被配置为使得在投影曝光系统（10）的操作期间，分别通过投影光学器件（26）同时进行掩模结构（20）的成像和测量结构（48）的成像，并且评估装置（54），其被配置为在曝光处理期间在所述检测器（52）的区域中建立所述测量结构（48）的图像的横向位置。

2. 发明申请

WO2005015313A1 ILLUMINATION MASK FOR RANGE-RESOLVED DETECTION OF SCATTERED LIGHT 审中-公开
标题翻译：用于散射光的范围检测的照明面具
公开(公告)号：WO2005015313A1
公开(公告)日：2005-02-17
申请号：PCT/EP2003/010604
申请日：2003-09-24
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ARNZ, Michael , GROMER, Oswald , KLOSE, Gerd , STÜHLER, Joachim
发明人： ARNZ, Michael , GROMER, Oswald , KLOSE, Gerd , STÜHLER, Joachim
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70591 , G03F7/70941
摘要： The invention relates to an illumination mask (10) for a device for range-resolved determination of scattered light, having one or more scattered-light measuring structures (11) which respectively include an inner dark-field zone (22) which defines a minimum scattering range, to a corresponding device, to an associated method for determining scattered light, and to a microlithographic projection exposure apparatus having such a device. According to the invention, in the case of the illumination mask the scattered-light measuring structure has a scattered-light marker zone (20) in the form of a bright-field zone which on the one hand borders the inner dark-field zone and on the other hand borders an outer dark-field zone (21) which defines a maximum scattering range.
摘要翻译：本发明涉及一种用于范围分辨确定散射光的装置的照明掩模（10），其具有一个或多个散射光测量结构（11），其分别包括限定最小值的内部暗场区域（22）散射范围，到相应的装置，到用于确定散射光的相关方法，以及具有这种装置的微光刻投影曝光装置。根据本发明，在照明掩模的情况下，散射光测量结构具有明亮区域形式的散射光标记区域（20），该区域一方面与内部暗场区域接合，并且另一方面边界限定了最大散射范围的外部暗场区域（21）。

3. 发明申请

WO2011101331A1 ILLUMINATION SYSTEM AND PROJECTION OBJECTIVE OF A MASK INSPECTION APPARATUS 审中-公开
标题翻译：面罩检测装置的照明系统和投影目标
公开(公告)号：WO2011101331A1
公开(公告)日：2011-08-25
申请号：PCT/EP2011/052184
申请日：2011-02-15
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , FELDMANN, Heiko , SOHMEN, Erik Matthias , STÜHLER, Joachim , GROMER, Oswald , MÜLLER, Ulrich , LAYH, Michael , SCHWAB, Markus
发明人： FELDMANN, Heiko , SOHMEN, Erik Matthias , STÜHLER, Joachim , GROMER, Oswald , MÜLLER, Ulrich , LAYH, Michael , SCHWAB, Markus
IPC分类号： G03F1/00 , G03F7/20 , G01N21/00
CPC分类号： G03F7/70091 , G01N21/956 , G01N2021/95676 , G03F1/84
摘要： The invention concerns an illumination system and a projection objective of a mask inspection apparatus. In accordance with an aspect of the invention an illumination system (610) in operation of the mask inspection apparatus illuminates a mask (630) with an illumination bundle of rays (615) having a centroid ray, wherein said centroid ray has a direction dependent on the location of the incidence of the illumination bundle of rays (615) on the mask (630).
摘要翻译：本发明涉及一种面罩检查装置的照明系统和投影物镜。根据本发明的一个方面，在掩模检查设备的操作中的照明系统（610）用具有质心射线的照射光束（615）照射掩模（630），其中所述质心射线具有取决于照射光束束（615）入射到掩模（630）上的位置。

4. 发明申请

WO2004034923A1 MUNDDUSCHE UND SPRÜHDÜSE ZUR ERZEUGUNG EINES FLÜSSIGKEITSSTRAHLS SOWIE ZAHNREINIGUNGSSYSTEM 审中-公开
标题翻译：嘴淋浴和喷嘴制备液态的射线和牙齿清洁系统
公开(公告)号：WO2004034923A1
公开(公告)日：2004-04-29
申请号：PCT/EP2003/011431
申请日：2003-10-15
申请人： BRAUN GMBH , GROMER, Oswald , KRAMP, Andreas , SAUER, Michael , STOLPER, Michael , SCHAEFER, Norbert , HERZOG, Karl
发明人： GROMER, Oswald , KRAMP, Andreas , SAUER, Michael , STOLPER, Michael , SCHAEFER, Norbert , HERZOG, Karl
IPC分类号： A61C17/02
CPC分类号： F04B49/126 , A61C1/0092 , A61C17/0202 , B05B1/00 , B05B1/3421 , B05B1/3436
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf eine Sprühdüse (1) zur Erzeugung eines Flüssigkeitsstrahls für eine Munddusche, mit einem Düsenkörper (2), der eine Kammer (6) aufweist, in die ein Flüssigkeitskanal (5) zur Zufuhr von unter Druck stehender Reinigungsflüssigkeit mündet. Von der Kammer (6) geht ein Düsenauslass (18, 19) zum Austreten eines Reinigungsflüssigkeitsstrahls aus. Die Kammer (6) ist mit einer Wirbelkammer (15) etwa runden Querschnitts zum Erzeugen eines umlaufenden Stroms der Reinigungsflüssigkeit verbunden, von der zentrisch der Düsenausmass (18,19) ausgeht, der aus einer etwa zylindrischen Engstelle und einer sich daran anschliessenden insbesondere etwa kegelartigen Erweiterung besteht. Die Reinigungsflüssigkeit wird der Sprühdüse mit hohem Druck zugeführt, wobei von dem Düsenauslass ein Flüssigkeitsstrahl hoher Geschwindigkeit der austretenden Reinigungsflüssigkeit aus mikrofeinen Tropfen erzeugt wird.
摘要翻译：本发明涉及一种喷嘴（1），用于制造喷液用于口腔冲洗，与喷嘴主体（2），其具有腔室（6）到其中的液体流道（5），用于加压清洗液供给打开。从所述腔室（6），一个喷嘴出口变为（18，19），用于清洁液体射流的出口。所述腔室（6）设置有一个涡流室（15）大致圆形的横截面，用于从同心喷嘴程度产生清洗液的循环电流（18,19）熄灭，通常状锥体从大致圆筒状的喉部，以及随后的一个到它的特定扩展。清洗液被供给到喷射喷嘴在高压下，其特征在于，所述排出清洗液的速度高的液体射流从微细产生从喷嘴出口下降。

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