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1. 发明申请

WO2008012022A1 OPTISCHE VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR KORREKTUR BZW. VERBESSERUNG DES ABBILDUNGSVERHALTENS EINER SOLCHEN VORRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：光学装置和方法纠正或改善PICTURE行为这种装置
公开(公告)号：WO2008012022A1
公开(公告)日：2008-01-31
申请号：PCT/EP2007/006407
申请日：2007-07-19
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHRIEVER, Martin , WEGMANN, Ulrich , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , HUBER, Jürgen , KERWIEN, Norbert , TOTZECK, Michael , HAUF, Markus
发明人： SCHRIEVER, Martin , WEGMANN, Ulrich , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , HUBER, Jürgen , KERWIEN, Norbert , TOTZECK, Michael , HAUF, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70825 , G03F7/70041 , G03F7/70266
摘要： Eine optische Vorrichtung weist eine Lichtquelle, die Licht in Form von Lichtpulsen mit einer Pulsfrequenz abstrahlt, und mindestens ein optisches Element auf, das mit Vorrichtungen zur Anregung einer Schwingung mit einer Schwingungsfrequenz verbunden ist. Die Schwingung des optischen Elements führt zu einer zeitlich periodischen Modulation zumindest eines für die optische Abbildung relevanten Parameters des optischen Elements. Die Schwingungsfrequenz ist mittels der Vorrichtungen zur Anregung einer Schwingung des optischen Elements so einstellbar, dass sie mit der Pulsfrequenz der Lichtquelle synchronisiert ist. Es ist ein Taktgeber für die Pulsfrequenz der Lichtpulse vorgesehen, wobei mit dem Taktgeber zumindest ein Frequenzvervielfacher verbunden ist, dessen Ausgang mit den Vorrichtungen zur Anregung einer Schwingung verbunden ist. Des Weiteren wird ein Verfahren zur Korrektur bzw. Verbesserung des Abbildungsverhaltens einer optischen Vorrichtung beschrieben.
摘要翻译：一种光学器件，包括：在具有脉冲频率的光脉冲的形式发射光的光源，和其中至少一个是在振荡频率连接到用于振荡的激发光学元件。该光学元件的振动导致相关的光学元件的光学成像参数的至少一个的时间上周期性的调制。使得它由设备用于光学元件的振荡的激励的装置与所述光源的脉冲频率同步的振荡频率是可调整的。提供了一种用于在光脉冲的脉冲频率，其中至少一个倍频器连接到所述时钟，其输出被连接到所述装置用于振荡的激励一个时钟发生器。此外，用于校正或改善所述的光学器件的成像特性的方法。

2. 发明申请

WO2004099877A1 OPTISCHE MESSVORRICHTUNG UND BETRIEBSVERFAHREN FÜR EIN OPTISCHES ABBILDUNGSSYSTEM 审中-公开
标题翻译：光学测量装置及其操作方法将光学图像系统
公开(公告)号：WO2004099877A1
公开(公告)日：2004-11-18
申请号：PCT/EP2003/004932
申请日：2003-05-12
申请人： CARL ZEISS SMT AG , EMER, Wolfgang , WEGMANN, Ulrich , SCHRIEVER, Martin , HOCH, Rainer
发明人： EMER, Wolfgang , WEGMANN, Ulrich , SCHRIEVER, Martin , HOCH, Rainer
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G01M11/0264 , G01M11/0271 , G03F7/706 , G03F7/70875 , G03F7/70891
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf eine Messvorrichtung zur optischen, z.B. interferometrischen, Vermessung eines optischen Abbildungssystems (1), das zur Abbildung eines Nutzmusters vorgesehen ist, mit Mitteln (2, 5) zur Erzeugung von abbildungsfehlerindikativer Interferenzinformation Strahlungsinformation, mit z.B. Interferenzinformation, mit Maskenstrukturmitteln, die ein Messmuster (6) beinhalten, und mit Detektions- und Auswertemitteln (10) zur Erfassung und Auswertung der abbildungsfehlerindikativen Interferenzinformation sowie auf eine Vorrichtung zum abbildungsfehlerkorrektiven Betrieb des optischen Abbildungssystems. Erfindungsgemäß weisen die Maskenstrukturmittel (5) zusätzlich zum Messmuster (6) ein objektseitiges Aufheizbestrahlungsmuster (7) auf, das so gewählt ist, dass die Aufheizwirkung der von ihm durchgelassenen Strahlung für das zu vermessende optische Abbildungssystem innerhalb eines vorgebbaren Toleranzbereichs der Aufheizwirkung der Strahlung entspricht, die im Betrieb des optischen Abbildungssystems vom Nutzmuster durchgelassen wird. Die dadurch gewonnene abbildungsfehlerindikative Interferenzinformation Strahlungsinformation kann anschließend zur abbildungsfehlerkorrektiven Steuerung oder Regelung des optischen Abbildungssystems beim Abbilden des Nutzmusters herangezogen werden. Verwendung z.B. für Projektionsobjektive in Mikrolithographieanlagen zur Waferbelichtung.
摘要翻译：本发明涉及一种用于光学，例如一个测量装置其被设置用于生成干扰信息abbildungsfehlerindikativer用例如辐射信息成像有用的模式，装置（2,5）的光学成像系统（1）的干涉测量干扰的信息，与掩模结构单元，其包括用于检测和评估abbildungsfehlerindikativen干扰信息，以及一种用于光学成像系统的操作abbildungsfehlerkorrektiven测量模式（6）中，用检测和评估装置（10）。根据本发明，掩模图案在除了测量图案装置（5）（6）的物体侧Aufheizbestrahlungsmuster（7），其被选择为使得由他的辐射的热效应可预先确定的公差范围内的对应于测量的光学成像系统发射的辐射的光的热效应，即在从实用新型成像光学系统的操作传送。将如此得到的abbildungsfehlerindikative干扰信息辐射信息可以用于随后的成像有用的模式时abbildungsfehlerkorrektiven所述光学成像系统的控制或调节。例如使用在用于晶片曝光微光刻系统的投影透镜。

3. 发明申请

WO2003087945A3 INTERFEROMETRISCHE MESSVORRICHTUNG UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT DERARTIGER MESSVORRICHTUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2003087945A3
公开(公告)日：2003-10-23
申请号：PCT/EP2003/003566
申请日：2003-04-05
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHRIEVER, Martin , WEGMANN, Ulrich , HAIDNER, Helmut
发明人： SCHRIEVER, Martin , WEGMANN, Ulrich , HAIDNER, Helmut
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Eine Messvorrichtung zur interferometrischen Vermessung eines optischen Abbildungssystems, das zur Abbildung eines an einer Maske vorgesehenen Nutzmusters in die Bildebene des Abbildungssystems vorgesehen ist, hat eine Wellenfrontquelle zur Erzeugung mindestens einer das Abbildungssystem durchlaufenden Wellenfront, ein hinter dem Abbildungssystem anordenbares Beugungsgitter zur Wechselwirkung mit der vom dem Abbildungssystem umgeformten Wellenfront und einen dem Beugungsgitter zugeordneten, ortsauflösenden Detektor zur Erfassung von interferometrischer Information. Die Wellenfrontquelle umfasst mindestens ein Messmuster (34), das zusätzlich zu dem Nutzmuster (35) an der Maske (8) ausgebildet ist.

4. 发明申请

WO2003087945A2 INTERFEROMETRISCHE MESSVORRICHTUNG UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT DERARTIGER MESSVORRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：干涉测量装置和投影曝光系统，这样的测量装置
公开(公告)号：WO2003087945A2
公开(公告)日：2003-10-23
申请号：PCT/EP2003/003566
申请日：2003-04-05
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHRIEVER, Martin , WEGMANN, Ulrich , HAIDNER, Helmut
发明人： SCHRIEVER, Martin , WEGMANN, Ulrich , HAIDNER, Helmut
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B5/0221 , G02B5/0252 , G03F7/70075 , G03F7/706
摘要： Eine Messvorrichtung zur interferometrischen Vermessung eines optischen Abbildungssystems, das zur Abbildung eines an einer Maske vorgesehenen Nutzmusters in die Bildebene des Abbildungssystems vorgesehen ist, hat eine Wellenfrontquelle zur Erzeugung mindestens einer das Abbildungssystem durchlaufenden Wellenfront, ein hinter dem Abbildungssystem anordenbares Beugungsgitter zur Wechselwirkung mit der vom dem Abbildungssystem umgeformten Wellenfront und einen dem Beugungsgitter zugeordneten, ortsauflösenden Detektor zur Erfassung von interferometrischer Information. Die Wellenfrontquelle umfasst mindestens ein Messmuster (34), das zusätzlich zu dem Nutzmuster (35) an der Maske (8) ausgebildet ist.
摘要翻译：用于光学成像系统的干涉测量的测量装置提供了一种用于成像的设置在所述成像系统的图像平面的掩模有用图案具有用于产生所述成像系统中的至少一个传递的波前一个可被布置在成像系统衍射光栅相互作用与从后面的波前的源成像系统变形的波前，以及衍射光栅相关联，用于检测干涉信息，解决位置检测器。波前源包括至少一个测量模式（34）中除实用新型（35）上的掩模（8）形成。

5. 发明申请

WO2005098543A1 VERFAHREN ZUR STRUKTURIERUNG EINES SUBSTRATS DURCH MEHRFACHBELEUCHTUNG 审中-公开
标题翻译：方法构建以衬底由多个照明
公开(公告)号：WO2005098543A1
公开(公告)日：2005-10-20
申请号：PCT/EP2005/003780
申请日：2005-04-11
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GÖHNERMEIER, Aksel , WEGMANN, Ulrich , REISINGER, Gerd , MAUL, Manfred , GRÄUPNER, Paul , SCHRIEVER, Martin
发明人： WEGMANN, Ulrich , REISINGER, Gerd , MAUL, Manfred , GRÄUPNER, Paul , SCHRIEVER, Martin
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70466 , G03F7/2022 , G03F7/70258 , G03F7/70266 , G03F7/706
摘要： 1. Verfahren zur Strukturierung eines Substrats durch Mehrfachbelichtung. 2.1. Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Strukturierung eines Substrats unter Verwendung von Belichtungsvorgängen eines einstellbaren optischen Systems, wobei zur Erzeugung eines Strukturbildes auf dem Substrat eine Mehrfachbelichtung verwendet wird. 2.2. Erfindungsgemäß wird für wenigstens eine der mehreren Belichtungen die Abbildungsqualität des optischen Systems durch einen jeweiligen Vermessungsschritt ermittelt und abhängig davon wenigstens ein die Abbildungsqualität beeinflussender Parameter des optischen Systems eingestellt. 2.3. Verwendung z.B. zur Strukturierung von Halbleiterwafern in Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen.
摘要翻译： 1，一种用于通过多个曝光衬底图案化的方法。 2.1。本发明涉及一种用于图案化使用可调光学系统，其中多重曝光被用来在衬底上创建的图像的结构的曝光处理的衬底的方法。 2.2。根据本发明的光学系统的成像质量由各自的测量步骤确定的，并且其中至少一组图像质量参数影响光学系统，这取决于多个曝光量中的至少一个的。 2.3。例如使用在微光刻投射曝光系统的半导体晶片的图案化。

6. 发明申请

WO2005031466A1 METHOD OF DETERMINING OPTICAL PROPERTIES AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM COMPRISING A WAVE FRONT DETECTION SYSTEM 审中-公开
标题翻译：确定光学特性的方法和包括波前检测系统的投影曝光系统
公开(公告)号：WO2005031466A1
公开(公告)日：2005-04-07
申请号：PCT/EP2003/010720
申请日：2003-09-26
申请人： CARL ZEISS SMT AG , LAUER, Steffen , WEGMANN, Ulrich , EMER, Wolfgang , SAKOWSKI, Harald , SCHRIEVER, Martin
发明人： LAUER, Steffen , WEGMANN, Ulrich , EMER, Wolfgang , SAKOWSKI, Harald , SCHRIEVER, Martin
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/706 , G03F7/70258
摘要： A method of determining optical properties of a projection exposure system which comprises: a beam delivery system including a light source for generating an exposure optical beam having light of a first wavelength (λ 1 ) and a second wavelength (λ 2 ), wherein a first ratio is defined as an intensity of light of λ 2 to an intensity of light of λ 1 in the exposure optical beam; the method comprising: supplying at least one measuring optical beam comprising light of at least λ 1 having wavefronts to a projection optical system; detecting wavefronts having passed the projection optical system and determining the optical properties in dependence of the detected wavefronts; wherein a second ratio of an intensity of light of λ 2 to an intensity of light of λ 1 in the measuring optical beam being incident on the detector of the wavefront detection system is less than the first ratio.
摘要翻译：一种确定投影曝光系统的光学特性的方法，包括：光束传播系统，包括用于产生具有第一波长（λ1）和第二波长（λ2）的光的曝光光束的光源，其中第一比率为定义为曝光光束中λ2的光强度与λ1的光强度; 该方法包括：向投影光学系统提供包括具有至少λ1的具有波前的光的至少一个测量光束; 检测已经通过投影光学系统的波前，并根据所检测的波前确定光学特性; 其中入射在所述波前检测系统的检测器上的所述测量光束中的λ2的光强度与λ1的光强度的第二比率小于所述第一比率。

7. 发明申请

WO2005003862A1 VORRICHTUNG ZUR POLARISATIONSSPEZIFISCHEN UNTERSUCHUNG EINES OPTISCHEN SYSTEMS 审中-公开
标题翻译：设备中，用于光偏振具体检查系统
公开(公告)号：WO2005003862A1
公开(公告)日：2005-01-13
申请号：PCT/EP2003/007203
申请日：2003-07-05
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WEGMANN, Ulrich , MENGEL, Markus
发明人： WEGMANN, Ulrich , MENGEL, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B5/3058 , G01J4/04 , G02B5/1809 , G02B5/3091 , G02B27/4222 , G02B27/4255 , G02B27/4261 , G02B27/4277 , G03F7/70566 , G03F7/70591
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur polarisationsspezifischen Untersuchung eines optischen Systems mit einem Detektorteil, der Polarisationsdetektormittel zur Erfassung des Austritts-Polarisationszustands von aus dem optischen System austretender Strahlung (6) aufweist. Erfindungsgemäß beinhalten die Polarisationsdetektormittel eine polarisierende Gitterstruktur (4). Verwendung z.B. zur Bestimmung der Beeinflussung des Polarisationszustands von UV-Strahlung durch ein Mikrolithographie-Projektionsobjektiv.
摘要翻译：本发明涉及一种用于与检测器部分的光学系统的特定偏振检查的设备，该偏振检测器装置，用于从所述光学系统出射的辐射（6）检测偏振的出射状态。根据本发明的偏振检测器装置包括一个偏振光栅结构（4）。例如使用以确定紫外辐射的偏振态的通过微光刻投射透镜的影响。

8. 发明申请

WO2004057423A1 MESSVERFAHREN UND MESSSYSTEM ZUR VERMESSUNG DER ABBILDUNGSQUALITÄT EINES OPTISCHEN ABBILDUNGSSYSTEMS 审中-公开
标题翻译：测量方法和测量系统测量的光学图像系统的图像质量
公开(公告)号：WO2004057423A1
公开(公告)日：2004-07-08
申请号：PCT/EP2002/014559
申请日：2002-12-19
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WEGMANN, Ulrich
发明人： WEGMANN, Ulrich
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/706
摘要： Bei einem Messverfahren zur Vermessung der Abbildungsqualität eines optischen Abbildungssystems (10) wird eine Messmaske bereitgestellt, die eine Maskenstruktur (20) umfasst, die im Bereich einer Objektfläche des Abbildungssystems angeordnet werden kann. Weiterhin wird eine an die Maskenstruktur angepasste Referenzstruktur (23) bereitgestellt, die in der Bildfläche (12) des Abbildungssystems anzuordnen ist, sowie ein flächig ausgedehntes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmedium (24), das derart in einer Aufzeichnungsposition angeordnet wird, dass ein bei Abbildung der Maskenstruktur auf die Referenzstruktur entstehendes Überlagerungsmuster vom Aufzeichnungsmedium erfasst werden kann. Zur Auswertung des Aufzeichnungsmediums wird das Aufzeichnungsmedium aus der Aufzeichnungsposition in eine davon entfernte Auswerteposition gebracht. Das Messverfahren und das zugehörige Messsystem eignen sich besonders zur schnellen, hochgenauen Vermessung von Projektionsobjektiven im eingebauten Zustand in Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen.
摘要翻译：在用于测量的光学成像系统的图像质量的测量方法提供了（10）的测量掩模，其包括可以被布置在所述成像系统的物面的区域中的掩模结构（20）。此外，形状适合于掩模图案的参考结构（23）被提供，其将被布置在所述成像系统的图像表面（12），以及一个表面延伸的辐射敏感记录介质（24），其布置在一个记录位置上成像掩模图案时所产生的重叠图形参考结构可以从记录介质进行检测。用于记录介质的评价，从记录位置到它们的远程分析位置的记录介质放置。的测量方法和相关联的测量系统是特别适合于安装在微光刻投射曝光系统时投影物镜快速，高精度测量。

9. 发明申请

WO2006097330A1 METHODS AND APPARATUS FOR MEASURING WAVEFRONTS AND FOR DETERMINING SCATTERED LIGHT, AND RELATED DEVICES AND MANUFACTURING METHODS 审中-公开
标题翻译：用于测量波形和确定散射光的方法和装置，以及相关设备和制造方法
公开(公告)号：WO2006097330A1
公开(公告)日：2006-09-21
申请号：PCT/EP2006/002494
申请日：2006-03-17
申请人： CARL ZEISS SMT AG , EMER, Wolfgang , HAIDNER, Helmut , WEGMANN, Ulrich
发明人： EMER, Wolfgang , HAIDNER, Helmut , WEGMANN, Ulrich
CPC分类号： G03F7/706 , G01J9/0215 , G03F7/70941
摘要： 1. Methods and apparatus for measuring wavefronts and for de-termining scattered light, and related devices and manufacturing methods. 2.1. The invention relates to a method and apparatus for spatially resolved wavefront measurement on a test specimen, a method and apparatus for spatially resolved scattered light determination, a dif-fraction structure support and a coherent structure support therefor, and also to an objective or other radiation exposure device manufac-tured using such a method, and an associated manufacturing method. 2.2. An embodiment of the invention involves carrying out, for the wavefront measurement, a first shearing measuring operation, which comprises a plurality of individual measurements with at least two first shearing directions and spatially resolved detection of shearing interferograms generated, and an analogous second shearing measuring operation with at least one second shearing direction, at least one second shearing direction being non-parallel to at least one first shearing direction. From the shearing interferograms de-tected, it is possible e.g. to determine a wavefront spatial frequency spectrum and/or a point response of the test specimen and to carry out a spatially resolved scattered light determination by means of the point spread function. 2.3. Use e.g. for the spatially resolved scattered light determination of projection objectives for microlithography.
摘要翻译： 1.波前测量和散射光测定方法及装置及相关装置及制造方法。 2.1。本发明涉及一种用于测试样本上的空间分辨波前测量的方法和装置，用于空间分辨散射光测定的方法和装置，二维分数结构支持及其相干结构支持，以及目标或其他辐射使用这种方法制造曝光装置，以及相关的制造方法。 2.2。本发明的一个实施例涉及对于波前测量执行第一剪切测量操作，该测量操作包括具有至少两个第一剪切方向的多个单独测量并且产生的剪切干涉图的空间分辨检测以及类似的第二剪切测量操作具有至少一个第二剪切方向，至少一个第二剪切方向不平行于至少一个第一剪切方向。从剪切干涉图可以看出，以确定测试样本的波前空间频谱和/或点响应，并且通过点扩散函数进行空间分辨的散射光确定。 2.3。使用例如用于空间分辨散射光确定微光刻的投影物镜。

10. 发明申请

WO2005069080A3 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR OPTISCHEN VERMESSUNG EINES OPTISCHEN SYSTEMS, MESSSTRUKTURTRÄGER UND MIKROLITHOGRAPHIE-PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
公开(公告)号：WO2005069080A3
公开(公告)日：2005-07-28
申请号：PCT/EP2005/000184
申请日：2005-01-12
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WEGMANN, Ulrich
发明人： WEGMANN, Ulrich
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur optischen Vermessung eines optischen Systems, das in einer Nutzbetriebsart Nutzstrahlung auf einer Nutzstrahlungseintrittsseite empfängt und auf einer Nutzstrahlungsaustrittsseite abgibt mit einer Messstrahlungsquelle, von der wenigstens ein austrittsseitiges Element, das Messstrahlung zum optischen System emittiert, auf der Nutzstrahlungsaustrittsseite des optischen Systems positionierbar ist, und einem Detektor, von dem wenigstens ein eintrittsseitiges Element, das vom optischen System kommende Messstrahlung empfängt, auf der Nutzstrahlungseintrittseite des optischen Systems positionierbar ist, auf einen für eine solche Vorrichtung verwendbaren Messstrukturträger, auf eine mit einer solchen Vorrichtung ausgerüstete Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage sowie auf ein zugehöriges Verfahren. Erfindungsgemäß umfasst die Messstrahlungsquelle eine quellenseitige Messstrukturmaske zur Positionierung auf der Nutzstrahlungsaustrittsseite und/oder der Detektor eine detektorseitige Messstrukturmaske zur Positionierung auf der Nutzstrahlungseintrittsseite. Verwendung z.B. zur Wellenfrontvermessung von Projektionsobjektiven von Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen.

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