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1. 发明申请

WO2012041339A1 OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF REDUCING IMAGE PLACEMENT ERRORS 审中-公开
标题翻译：微型投影曝光装置的光学系统和减少图像放置误差的方法
公开(公告)号：WO2012041339A1
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/EP2010/005901
申请日：2010-09-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , RUOFF, Johannes , NEUMANN, Jens Timo , ZIMMERMANN, Jörg , HELLWEG, Dirk , JÜRGENS, Dirk
发明人： RUOFF, Johannes , NEUMANN, Jens Timo , ZIMMERMANN, Jörg , HELLWEG, Dirk , JÜRGENS, Dirk
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70141 , G03F7/70116 , G03F7/70466 , G03F7/70566 , G03F7/70633
摘要： A method of reducing image placement errors in a microlithographic projection exposure apparatus comprises the steps of providing a mask (16), a light sensitive layer (22) and a microlithographic projection exposure apparatus (10) which images features (19) contained in the mask (16) onto the light sensitive surface (22) using projection light. In a next step image placement errors associated with an image of the features (10) formed on the light sensitive surface (22) are determined either by simulation or metrologically. Then an input state of polarization of the projection light is changed to an elliptical output state of polarization which is selected such that the image placement errors are reduced.
摘要翻译：一种在微光刻投影曝光装置中减少图像放置误差的方法包括以下步骤：提供掩模（16），光敏层（22）和微影印制投影曝光装置（10），其对包含在掩模中的特征（19）进行成像（16）使用投影光到达光敏表面（22）。在下一步骤中，通过模拟或计量确定与形成在光敏表面（22）上的特征（10）的图像相关联的图像放置误差。然后，投影光的输入偏振状态变为偏振的椭圆输出状态，其被选择为使得图像放置误差减小。

2. 发明申请

WO2008064859A3 OPTICAL SYSTEM WITH AN EXCHANGEABLE, MANIPULABLE CORRECTION ARRANGEMENT FOR REDUCING IMAGE ABERRATIONS 审中-公开
标题翻译：具有可更换，可调节的校正装置的光学系统，用于减少图像错误
公开(公告)号：WO2008064859A3
公开(公告)日：2008-08-21
申请号：PCT/EP2007010286
申请日：2007-11-27
申请人： ZEISS CARL SMT AG , XALTER STEFAN , MEYER PETER , LIMBACH GUIDO , SORG FRANZ , SCHOEPPACH ARMIN , WEBER ULRICH , LOERING ULRICH , HELLWEG DIRK , KUGLER JENS , GELLRICH BERNHARD , HEMBACHER STEFAN , GEUPPERT BERNHARD , GOEHNERMEIER AKSEL
发明人： XALTER STEFAN , MEYER PETER , LIMBACH GUIDO , SORG FRANZ , SCHOEPPACH ARMIN , WEBER ULRICH , LOERING ULRICH , HELLWEG DIRK , KUGLER JENS , GELLRICH BERNHARD , HEMBACHER STEFAN , GEUPPERT BERNHARD , GOEHNERMEIER AKSEL
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/14
CPC分类号： G02B7/004 , G02B27/0068 , G03F7/70191 , G03F7/70258 , G03F7/70308 , G03F7/70825
摘要： The invention relates to a projection exposure apparatus for semiconductor lithography, comprising at least one manipulator (14) for reducing image aberrations, wherein the manipulator (14) contains at least one optical element (8) which can be manipulated by means of at least one actuator (13), and wherein the manipulator (14) is formed in changeable fashion together with an actuator (13).
摘要翻译：本发明涉及一种用于半导体光刻的投影曝光设备，包括至少一个用于减少像差的操纵器（14），其中操纵器（14）包含至少一个光学元件（8），该光学元件可以通过至少一个致动器（13），并且其中所述操纵器（14）与致动器（13）一起以可变方式形成。

3. 发明申请

WO2008064859A2 OPTICAL SYSTEM WITH AN EXCHANGEABLE, MANIPULABLE CORRECTION ARRANGEMENT FOR REDUCING IMAGE ABERRATIONS 审中-公开
标题翻译：光学系统具有可交换的可操作的校正装置，用于减少图像抖动
公开(公告)号：WO2008064859A2
公开(公告)日：2008-06-05
申请号：PCT/EP2007/010286
申请日：2007-11-27
申请人： CARL ZEISS SMT AG , XALTER, Stefan , MEYER, Peter , LIMBACH, Guido , SORG, Franz , SCHOEPPACH, Armin , WEBER, Ulrich , LOERING, Ulrich , HELLWEG, Dirk , KUGLER, Jens , GELLRICH, Bernhard , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , GÖHNERMEIER, Aksel
发明人： XALTER, Stefan , MEYER, Peter , LIMBACH, Guido , SORG, Franz , SCHOEPPACH, Armin , WEBER, Ulrich , LOERING, Ulrich , HELLWEG, Dirk , KUGLER, Jens , GELLRICH, Bernhard , HEMBACHER, Stefan , GEUPPERT, Bernhard , GÖHNERMEIER, Aksel
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B7/004 , G02B27/0068 , G03F7/70191 , G03F7/70258 , G03F7/70308 , G03F7/70825
摘要： The invention relates to a projection exposure apparatus for semiconductor lithography, comprising at least one manipulator (14) for reducing image aberrations, wherein the manipulator (14) contains at least one optical element (8) which can be manipulated by means of at least one actuator (13), and wherein the manipulator (14) is formed in changeable fashion together with an actuator (13).
摘要翻译：本发明涉及一种用于半导体光刻的投影曝光装置，包括至少一个用于减小图像像差的操纵器（14），其中所述操纵器（14）包含至少一个光学元件（8），所述至少一个光学元件可通过至少一个致动器（13），并且其中所述操纵器（14）与致动器（13）一起以可变方式形成。

4. 发明申请

WO2009026970A1 CONTROLLABLE OPTICAL ELEMENT AND METHOD FOR OPERATING AN OPTICAL ELEMENT WITH THERMAL ACTUATORS AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：可控光学元件和用于使用半导体光刻机的热致动器和投影曝光装置操作光学元件的方法
公开(公告)号：WO2009026970A1
公开(公告)日：2009-03-05
申请号：PCT/EP2008/003616
申请日：2008-05-06
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HAUF, Markus , SCHOENHOFF, Ulrich , TAYEBATI, Payam , THIER, Michael , HEIL, Tilmann , FLUEGGE, Ole , KAZI, Arif , SAUERHOEFER, Alexander , FOCHT, Gerhard , WEBER, Jochen , GRUNER, Toralf , GOEHNERMEIER, Aksel , HELLWEG, Dirk
发明人： HAUF, Markus , SCHOENHOFF, Ulrich , TAYEBATI, Payam , THIER, Michael , HEIL, Tilmann , FLUEGGE, Ole , KAZI, Arif , SAUERHOEFER, Alexander , FOCHT, Gerhard , WEBER, Jochen , GRUNER, Toralf , GOEHNERMEIER, Aksel , HELLWEG, Dirk
IPC分类号： G02F7/00 , G03F7/20
CPC分类号： G02B7/008 , G02B7/1815 , G02B26/06 , G02B27/0025 , G03F7/70191 , G03F7/70308 , G03F7/70825 , G03F7/70891
摘要： The invention relates to an optical correction device (208, 600) with thermal actuators (205) for influencing the temperature distribution in the optical correction device (208, 600). The optical correction device (208, 600) is constructed from at least two partial elements (201, 202, 604) which differ with regard to their ability to transport heat. Furthermore, the invention relates to methods for influencing the temperature distribution in an optical element (208).
摘要翻译：本发明涉及具有用于影响光学校正装置（208,600）中的温度分布的热致动器（205）的光学校正装置（208,600）。光学校正装置（208,600）由至少两个部分元件（201,202,604）构成，其不同于它们传输热量的能力。此外，本发明涉及影响光学元件（208）中的温度分布的方法。

5. 发明申请

WO2022171321A1 VERFAHREN ZUM HEIZEN EINES OPTISCHEN ELEMENTS IN EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE, SOWIE OPTISCHES SYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2022171321A1
公开(公告)日：2022-08-18
申请号：PCT/EP2021/080878
申请日：2021-11-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HELLWEG, Dirk
发明人： HELLWEG, Dirk
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie optisches System Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie ein optisches System. Bei einem Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage wird in das optische Element eine Heizleistung unter Verwendung einer Heizanordnung (25) eingebracht, wobei diese Heizleistung auf Basis eines Sollwerts geregelt wird, und wobei dieser Sollwert während des Betriebs der Projektionsbelichtungsanlage (1) zeitlich variiert wird, wobei das Variieren des Sollwerts für die Heizleistung eine Simulation der jeweiligen Auswirkung von Änderungen der Heizleistung gegenüber deren Ist-Wert auf Basis eines Modells für das thermische Verhalten des optischen Elements umfasst.

6. 发明申请

WO2007101774A1 PROJEKTIONSOBJEKTIV EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：投影镜头的微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2007101774A1
公开(公告)日：2007-09-13
申请号：PCT/EP2007/051497
申请日：2007-02-16
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HELLWEG, Dirk , FELDMANN, Heiko
发明人： HELLWEG, Dirk , FELDMANN, Heiko
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70316
摘要： Die Erfindung betrifft ein Projektionsobjektiv einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, zur Abbildung einer in einer Objektebene positionierbaren Maske auf eine in einer Bildebene positionierbare lichtempfindliche Schicht, wobei das Projektionsobjektiv (108) ein bildebenenseitig letztes optisches Element (113) mit einer Lichteintrittsfläche und einer Lichtaustrittsfläche aufweist und für einen Immersionsbetrieb ausgelegt ist, in welchem in einem Bereich zwischen der Lichtaustrittsfläche und der Bildebene (IP) eine Immersionsflussigkeit (114) angeordnet ist, und wobei wenigstens eine zwischen der Lichteintrittsfläche des bildebenenseitig letzten optischen Elements (113) und der Immersionsflussigkeit (114) befindliche Grenzfläche wenigstens bereichsweise eine Mikrostrukturierung (117, 217, 313a, 413a, 515a, 615a) aufweist.
摘要翻译：本发明涉及微光刻投射曝光设备的投射物镜用于光敏层的图像平面中，其中，所述投射物镜（108）具有包括光入射表面和光出射表面和一个像面侧最后光学元件（113）上的定位在物平面掩模成像的定位浸没模式被设置，其中，在所述光出射表面和像平面（IP）的浸没液体（114）之间的区域被设置，并且其中，位于所述界面处的像面侧的光入射面末级光学元件（113）之间的至少一个和至少浸没液体（114）区域，微结构（117，217，313A，413A，515A，615A）具有。

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