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热词
    • 8. 发明申请
    • VERFAHREN UND SYSTEM ZUM INFEKTIONSSCHUTZ IN EINEM ZUGANGSBESCHRÄNKTEN BEREICH
    • WO2021254568A1
    • 2021-12-23
    • PCT/DE2021/200036
    • 2021-03-18
    • FISCHER, Joachim
    • FISCHER, Joachim
    • G07C9/20G06F21/31G01N33/48G06F21/32C12Q1/70C12Q1/00C12Q1/686G01N2469/00G06Q50/22G07C2209/02G07C2209/08G07C9/22G07C9/27G07C9/28G16H40/20G16H50/80
    • Es ist ein System zum Infektionsschutz in zugangsbeschränkten Bereichen offenbart. Dieses System umfasst: eine Testeinrichtung zum Testen einer Probe auf das Vorhandensein mindestens eines Krankheitserregers in der Probe, wobei zumindest ein Teil der Probe von einer Person stammt, die sich in dem zugangsbeschränkten Bereich befindet oder in den zugangsbeschränkten Bereich möchte, eine Eingabeschnittstelle zum Eingeben eines Testergebnisses, das durch die Testeinrichtung mittels Testens der Probe gewonnen worden ist, eine Probendatenbank, die dazu ausgebildet ist, eine Probe einer Identifikationskennung und/oder einer Person zuzuordnen, eine Freigabedatenbank, die dazu ausgebildet ist, einer Identifikationskennung und/oder einer Person eine Freigabeberechtigung zuzuordnen, ein Freigabeverwaltungssystem, das dazu ausgebildet ist, das in die Eingabeschnittstelle eingegebene Testergebnis mit einem Sollergebnis zu vergleichen und bei Erhalt eines gewünschten Vergleichsergebnisses unter Nutzung der Probedatenbank eine Freigabeberechtigung in der Freigabedatenbank zu setzen, ein Lesegerät zum Gewinnen einer ausgelesenen Identifikationskennung durch Auslesen einer in einem Identifikationsmittel codierten Identifikationskennung, eine Abfrageeinrichtung, die dazu ausgebildet ist, basierend auf der ausgelesenen Identifikationskennung eine vorhandene oder nicht vorhandene Freigabeberechtigung aus der Freigabedatenbank aufzulesen, und eine Signalisierungseinrichtung, die kommunizierend mit der Abfrageeinrichtung verbunden ist und die dazu ausgebildet ist, bei einer vorhandenen Freigabeberechtigung eine Freigabe des zugangsbeschränkten Bereichs zu signalisieren. Ferner ist ein entsprechendes Verfahren offenbart.
    • 9. 发明申请
    • PHOTOSENSITIVE SUBSTANZ MIT THIOXANTHONEN ALS PHOTODEAKTIVIERBAREM PHOTOINITIATOR ZUR HERSTELLUNG VON KLEINEN STRUKTUREN
    • 用硫代蒽作为光活化光引发剂用于生产小型结构的光敏材料
    • WO2011089157A2
    • 2011-07-28
    • PCT/EP2011/050692
    • 2011-01-19
    • KARLSRUHER INSTITUT FÜR TECHNOLOGIEFISCHER, JoachimVON FREYMANN, GeorgWEGENER, Martin
    • FISCHER, JoachimVON FREYMANN, GeorgWEGENER, Martin
    • C09D4/00
    • C09D4/00G03F7/001G03F7/031G03F7/2022G03F7/2053
    • Verfahren zur optischen Lithographie unterhalb des Beugungslimits bei dem a)ein optischer Formkörper oder ein Lack enthaltend oder bestehend aus (i)mindestens einem polymerisierbaren Monomeren, (ii)mindestens einem photodeaktiverbaren Photoinitiator, (iii)gegebenenfalls ein Lösemittel oder Lösemittelgemisch, (iv)gegebenenfalls weiteren Hilfsstoffen, bereitgestellt oder auf ein Substrat aufgebracht wird, b)die Polymerisation durch Einstrahlung von Licht, bevorzugt eines Lasers, einer ersten, den Photoinitiator aktivierenden, Wellenlänge an einem ausgewählten Ort initiiert wird, und c)die Polymerisation durch Einstrahlung von Licht, bevorzugt eines Lasers, einer zweiten, den Photoinitiator deaktivierenden, Wellenlänge in der unmittelbaren Umgebung des ausgewählten Ortes unterdrückt wird, wobei mit dem eingestrahlten Abregungslicht ein Interferenz-Muster erzeugt wird, welches an dem ausgewählten Ort ein Intensitätsminimum oder null Intensität besitzt, die Verwendung von Thioxanthonen, bevorzugt Isopropyl-thioxanthone, und/oder Cumarine, bevorzugt Cumarin-30 und/oder bis-(Di-N-alkylierte) Aminobenzophenone, insbesondere Isopropylthioxanthone, als photodeaktivierbare Photoinitiatoren in Lacken zur optischen Lithographie unterhalb des Beugungslimits, ein Verfahren zur Verkleinerung des Lithographiemaßstabs und/oder der Lithographieauflösung bei der optischen Lithographie und die Verwendung für bestimmte technische Bereiche, sowie ein Lack für optischen Lithographie unterhalb des Beugungslimits.
    • 一种低于衍射极限的光学光刻方法,其中a)一种光学成型Ö体或含有或由(i)至少一种可聚合单体的涂层,(ii)至少一个photodeaktiverbaren光引发剂,(III) 是semittelgemisch,(iv)任选的其它赋形剂,提供或施加到基底上,b)将聚合通过光的照射,最好是一个激光器,一个第一,光引发剂活化,波长BEAR;任选的一种Lö semittel或L&oUML长度在一个 选择Ä hlten网站发起的,和c)聚合通过光,优选激光,第二照射引发,去激活在选定BEAR hlten地图抑制导航使用紧邻该光引发剂的波长BEAR长度是CKT,其中,所述照射的去激发 产生干涉图案,其在所选位置处具有最小或最大的强度 ř零强度Ä T具有,使用噻吨酮,优选异丙基噻吨酮,和/或香豆素类,优选地,香豆素30和/或双 - (二-N-烷基化)aminobenzophenones,特别是异丙基噻吨酮类,如在用于光学涂层材料photodeaktivierbare的光引发剂 低于衍射极限光刻,用于减小Lithographiema ROAD的方法刺和/或Lithographieaufl&oUML;在光学光刻和使用f导航用途液R某些技术领域,以及用于低于衍射极限导航使用R型光光刻的涂料。