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1. 发明申请

WO2013013947A2 OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, AND MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE METHOD 审中-公开
标题翻译：微型投影曝光装置的光学系统及微型曝光方法
公开(公告)号：WO2013013947A2
公开(公告)日：2013-01-31
申请号：PCT/EP2012/063102
申请日：2012-07-05
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , SÄNGER, Ingo , ZIMMERMANN, Jörg , RUOFF, Johannes , MEIER, Martin , SCHLESENER, Frank , HENNERKES, Christoph
发明人： SÄNGER, Ingo , ZIMMERMANN, Jörg , RUOFF, Johannes , MEIER, Martin , SCHLESENER, Frank , HENNERKES, Christoph
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/10 , G02B27/28 , G02B5/09
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B27/283 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/70566
摘要： The disclosure relates to optical systems of a microlithographic projection exposure apparatus, and to a microlithographic exposure method. According to an aspect of the disclosure, an optical system has a light source, a ray-splitting optical element (110, 310, 410, 510, 706), which splits a light ray incident on this element when the projection exposure apparatus is in operation into a first partial ray (S101, S301, S401, S501, S701) and a second partial ray (S102, S302, S402, S502, S702), with the first and the second partial ray having mutually orthogonal polarization directions, and at least one ray-deflecting optical element (205, 206, 330, 340, 350, 360, 370, 470, 530, 540, 710, 720, 730, 810, 820, 830) for generating a desired polarized illumination setting from the first partial ray (S101, S301, S401, S501, S701) and the second partial ray (S102, S302, S402, S502, S702), wherein the ray-splitting optical element (110, 310, 410, 510, 706) is arranged such that light incident on this ray-splitting optical element when the projection exposure apparatus is in operation has a degree of polarization of less than one.
摘要翻译：本公开涉及微光刻投影曝光设备的光学系统，并且涉及微光刻曝光方法。根据本公开的一个方面，光学系统具有光源，当投影曝光设备处于入射时将入射在该元件上的光线分开的光线分离光学元件（110,310,410,510,706）在第一和第二部分光线具有相互正交的偏振方向的情况下将第一部分光线（S101，S301，S401，S501，S701）和第二部分光线（S102，S302，S402，S502，S702）至少一个用于从第一个偏振照明装置产生期望的偏振照明设置的光线偏转光学元件（205,206,330,340,350,360,370,470,530,540,710,720,730,810,820,830）（110,310,410,510,706）排列的部分光线（S101，S301，S401，S501，S701）和第二部分光线（S102，S302，S402，S502，S702）使得当投影曝光装置在操作中时入射到该光线分离光学元件上的光具有小于1的偏振度。

2. 发明申请

WO2013007731A1 ILLUMINATION OPTICAL UNIT FOR PROJECTION LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：投影光刻照明光学单元
公开(公告)号：WO2013007731A1
公开(公告)日：2013-01-17
申请号：PCT/EP2012/063520
申请日：2012-07-11
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , HENNERKES, Christoph , SÄNGER, Ingo , ZIMMERMANN, Jörg , RUOFF, Johannes , MEIER, Martin , SCHLESENER, Frank
发明人： HENNERKES, Christoph , SÄNGER, Ingo , ZIMMERMANN, Jörg , RUOFF, Johannes , MEIER, Martin , SCHLESENER, Frank
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B7/1815 , G02B17/06 , G02B26/0816 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/70891
摘要： An illumination optical unit for projection lithography has a first polarization mirror device (16) for the reflection and polarization of illumination light (3). A second mirror device (22), which is disposed downstream of the polarization mirror device (16), serves for the reflection of an illumination light beam (25). At least one drive device (21; 27) is operatively connected to at least one of the two mirror devices (16; 22). The two mirror devices (16; 22) are displaceable relative to one another with the aid of the drive device (21; 27) between a first relative position, which leads to a first beam geometry of the illumination light beam (25) after reflection at the second mirror device (22), and a second relative position, which leads to a second beam geometry of the illumination light beam (25) after reflection at the second mirror device (22), which is different from the first beam geometry. This results in a flexible predefinition of different illumination geometries, in particular of different illumination geometries with rotationally symmetrical illumination.
摘要翻译：用于投影光刻的照明光学单元具有用于照明光（3）的反射和偏振的第一偏振镜装置（16）。设置在偏振镜装置（16）下游的第二镜装置（22）用于照明光束（25）的反射。至少一个驱动装置（21; 27）可操作地连接到两个反射镜装置（16; 22）中的至少一个。借助于驱动装置（21; 27），两个反射镜装置（16; 22）可相对于彼此移动，该第一相对位置在第一相对位置之间，该第一相对位置在反射之后导致照明光束（25）的第一光束几何形状在第二反射镜装置（22）和第二相对位置，其在第二反射镜装置（22）反射之后导致照明光束（25）的第二光束几何形状，其与第一光束几何形状不同。这导致不同照明几何形状的灵活预定义，特别是具有旋转对称照明的不同照明几何形状。

3. 发明申请

WO2012041339A1 OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND METHOD OF REDUCING IMAGE PLACEMENT ERRORS 审中-公开
标题翻译：微型投影曝光装置的光学系统和减少图像放置误差的方法
公开(公告)号：WO2012041339A1
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/EP2010/005901
申请日：2010-09-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , RUOFF, Johannes , NEUMANN, Jens Timo , ZIMMERMANN, Jörg , HELLWEG, Dirk , JÜRGENS, Dirk
发明人： RUOFF, Johannes , NEUMANN, Jens Timo , ZIMMERMANN, Jörg , HELLWEG, Dirk , JÜRGENS, Dirk
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70141 , G03F7/70116 , G03F7/70466 , G03F7/70566 , G03F7/70633
摘要： A method of reducing image placement errors in a microlithographic projection exposure apparatus comprises the steps of providing a mask (16), a light sensitive layer (22) and a microlithographic projection exposure apparatus (10) which images features (19) contained in the mask (16) onto the light sensitive surface (22) using projection light. In a next step image placement errors associated with an image of the features (10) formed on the light sensitive surface (22) are determined either by simulation or metrologically. Then an input state of polarization of the projection light is changed to an elliptical output state of polarization which is selected such that the image placement errors are reduced.
摘要翻译：一种在微光刻投影曝光装置中减少图像放置误差的方法包括以下步骤：提供掩模（16），光敏层（22）和微影印制投影曝光装置（10），其对包含在掩模中的特征（19）进行成像（16）使用投影光到达光敏表面（22）。在下一步骤中，通过模拟或计量确定与形成在光敏表面（22）上的特征（10）的图像相关联的图像放置误差。然后，投影光的输入偏振状态变为偏振的椭圆输出状态，其被选择为使得图像放置误差减小。

4. 发明申请

WO2013050198A1 METHOD FOR SETTING THE INTENSITY DISTRIBUTION IN AN OPTICAL SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, AND OPTICAL SYSTEM 审中-公开
标题翻译：用于设置微观投影曝光装置和光学系统的光学系统中的强度分布的方法
公开(公告)号：WO2013050198A1
公开(公告)日：2013-04-11
申请号：PCT/EP2012/065827
申请日：2012-08-13
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ZIMMERMANN, Jörg
发明人： ZIMMERMANN, Jörg
IPC分类号： G02B5/20 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70066 , G02B26/02 , G03F7/70091 , G03F7/70133 , G03F7/70191 , G03F7/70916
摘要： The invention relates to a method for setting the intensity distribution in an optical system of a microlithographic projection exposure apparatus, and to an optical system. A method according to the invention comprises the following steps: producing a transmission-influencing layer (140, 240, 340) on at least one surface of an optical element (122, 223, 322, 508, 509, 512, 716, 816) arranged in the optical system, and partially eliminating said layer (140, 240, 340) by irradiating a part of the layer in such a way that the optical element (122, 223, 322, 508, 509, 512, 716, 816) has a predetermined transmission distribution owing to the remaining portion (140a, 240a, 340a) of the layer.
摘要翻译：本发明涉及一种用于设置微光刻投影曝光装置的光学系统中的强度分布的方法以及光学系统。根据本发明的方法包括以下步骤：在光学元件（122,223,322,508,509,512,716,816）的至少一个表面上产生透射影响层（140,240,340）布置在光学系统中，并且通过以使得光学元件（122,223,322,508,509,512,716,816）的方式照射该层的一部分来部分地去除所述层（140,240,340）由于该层的剩余部分（140a，240a，340a）具有预定的传输分布。

5. 发明申请

WO2018010887A1 VERFAHREN ZUR MIKROLITHOGRAPHISCHEN HERSTELLUNG MIKROSTRUKTURIERTER BAUELEMENTE, SOWIE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：方法微光刻生产结构的单元和微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2018010887A1
公开(公告)日：2018-01-18
申请号：PCT/EP2017/063001
申请日：2017-05-30
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , KORB, Thomas , DEGÜNTHER, Markus , ZIMMERMANN, Jörg , FENGLER, Stephanus
发明人： KORB, Thomas , DEGÜNTHER, Markus , ZIMMERMANN, Jörg , FENGLER, Stephanus
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70125 , G03F7/706 , G03F9/7046
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur mikrolithographischen Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente sowie eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage. Bei einem Verfahren zur mikrolithographischen Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente werden auf einer Maske befindliche Nutzstrukturen und auf der Maske befindliche Markerstrukturen mit einer Beleuchtungseinrichtung beleuchtet und mit einem Projektionsobjektiv auf einen mit einem Photoresist versehenen Wafer unter Erzeugung entsprechender Markerstrukturbilder und Nutzstrukturbilder abgebildet. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Ermitteln einer Mehrzahl von jeweils unterschiedlichen Zeitpunkten zugeordneten Versatzwerten, wobei jeder dieser Versatzwerte jeweils einen zu dem betreffenden Zeitpunkt durch das Projektionsobjektiv erzeugten Versatz zwischen einem Markerstrukturbild und einem Nutzstrukturbild charakterisiert, und Positionieren der Nutzstrukturbilder in aufeinanderfolgenden Lithographieschritten relativ zueinander auf Basis dieser Versatzwerte.
摘要翻译：
本发明涉及一种用于微光刻生产微结构元件的和微光刻投射曝光系统的方法。在用于微光刻生产微结构元件的方法有用的结构和位于所述掩模位于标记结构用照明装置照射并且通过投影透镜上设置有光刻胶的晶片一个成像以形成在掩模上相应标记结构的图像和Nutzstrukturbilder。的发明＆AUML;道路有方法包括以下步骤：确定多个从时间偏移值的各自的不同的点，其中在该时间表征值是由投影透镜的标记结构图像和Nutzstrukturbild，和定位Nutzstrukturbilder在之间的偏移产生的每个各自的这些偏移分配基于这些偏移值相对于彼此的连续光刻步骤。

6. 发明申请

WO2019048200A1 OPTISCHES SYSTEM FÜR EINE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
公开(公告)号：WO2019048200A1
公开(公告)日：2019-03-14
申请号：PCT/EP2018/072118
申请日：2018-08-15
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： WINKLER, Alexander , LENZ, Daniel , ZIMMERMANN, Jörg
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Die Erfindung betrifft ein optisches System für eine Projektionsbelichtungsanlage mit einer Eintrittspupille und/oder einer Austrittspupille, wobei die Eintrittspupille und/oder die Austrittspupille einen Flächeninhalt A und einen Mittelpunkt M aufweist und es mindestens drei Bereiche in der Eintrittspupille und/oder der Austrittspupille mit r` > r (A) gibt, wobei r` der Abstand zum Mittelpunkt M ist und wobei r(A) der Radius eines Kreises mit dem Flächeninhalt A ist, und die mindestens drei Bereiche untereinander nicht zusammenhängend sind.

7. 发明申请

WO2014131604A1 OPTICAL ASSEMBLY FOR ROTATING POLARIZATION 审中-公开
标题翻译：旋转偏振光学装置
公开(公告)号：WO2014131604A1
公开(公告)日：2014-09-04
申请号：PCT/EP2014/052523
申请日：2014-02-10
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： RUOFF, Johannes , ZIMMERMANN, Jörg , KRÄHMER, Daniel , HENNERKES, Christoph , SÄNGER, Ingo , SCHLESENER, Frank
IPC分类号： G02B27/28 , G03F7/20
CPC分类号： G02B27/286 , G02B5/3083 , G03F7/70308 , G03F7/70566
摘要： An optical assembly (28) serves for rotating the polarization of linearly polarized incident input light (3a) and for generating linearly polarized emergent output light (3b). The assembly (28) is embodied such that a polarization of the input light (3 a) is rotated by a polarization rotation angle that is greater than 10°. At least one p-mirror (M2) is arranged for reflecting p-polarized incident light such that the p-polarized light is incident with an angle (a) of incidence that deviates from a 45° angle by at least 10°. This results in an optical assembly which provides linearly polarized output light having a predefined polarization direction with the lowest possible throughput losses.
摘要翻译：光学组件（28）用于旋转线性偏振入射输入光（3a）的偏振并用于产生线偏振的出射光输出光（3b）。组件（28）被实施为使得输入光（3a）的偏振旋转大于10°的偏振旋转角度。至少一个p镜（M2）布置用于反射p偏振入射光，使得p偏振光以与45°角偏离至少10°的入射角（a）入射。这导致光学组件，其提供具有预定极化方向的线偏振输出光，具有尽可能低的吞吐量损失。

8. 发明申请

WO2016074930A1 METHOD FOR PREDICTING AT LEAST ONE ILLUMINATION PARAMETER FOR EVALUATING AN ILLUMINATION SETTING 审中-公开
标题翻译：用于预测最小一个照明参数的方法，用于评估照明设置
公开(公告)号：WO2016074930A1
公开(公告)日：2016-05-19
申请号：PCT/EP2015/075011
申请日：2015-10-28
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： GEHRKE, Ralf , HENNERKES, Christoph , HÖGELE, Wolfgang , ZIMMERMANN, Jörg
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70125 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/702 , G03F7/70516
摘要： In a method for predicting at least one illumination parameter for evaluating an illumination setting for illuminating an object field of a projection exposure apparatus, illumination parameters are measured at a number n of calibration settings (j Ka1 ), correction terms (f i ) for prediction values of the illumination parameters (p) are determined from the measured values and then at least one illumination parameter (p*) of at least one illumination setting (j*), which is not contained in the set of n calibration settings (j Ka1 ), is predicted.
摘要翻译：在用于预测用于照射投影曝光装置的对象场的照明设定的至少一个照明参数的方法中，照射参数以n个校准设定（jKa1），校正项（fi）根据测量值确定照明参数（p），然后至少一个不包含在n个校准设置（jKa1）组中的照明设置（j *）的照明参数（p *）为预料到的。

9. 发明申请

WO2014012912A1 VERFAHREN ZUM EINSTELLEN EINES BELEUCHTUNGSSETTINGS 审中-公开
标题翻译：方法用于设置灯光设置
公开(公告)号：WO2014012912A1
公开(公告)日：2014-01-23
申请号：PCT/EP2013/064963
申请日：2013-07-16
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： ZIMMERMANN, Jörg , STÜTZLE, Ralf , GRÄUPNER, Paul , CONRADI, Olaf
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70141 , G02B26/0833 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70191 , G03F7/702
摘要： Verfahren zum Einstellen eines Beleuchtungssettings in einer Beleuchtungsoptik (4) mit mindestens einer steuerbaren Korrektureinrichtung (23, 27), welche eine Vielzahl von verstellbaren Korrektur-Elementen zur Beeinflussung der Transmission aufweist, wobei das Beleuchtungssetting zur Anpassung eines vorgegebenen Abbildungs-Parameters im Bereich eines Bildfelds (8) variiert wird.
摘要翻译：一种用于在照明光学系统（4）具有至少一个可控制的校正装置（23，27）调节的照明设置，具有多个可调节的校正元件的用于影响传输，方法，其中，所述照明设置用于在图像场的区域调整的预定的成像参数（8）是变化的。

10. 发明申请

WO2013053692A1 COLLECTOR 审中-公开
标题翻译：集电极
公开(公告)号：WO2013053692A1
公开(公告)日：2013-04-18
申请号：PCT/EP2012/069939
申请日：2012-10-09
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： SÄNGER, Ingo , ZIMMERMANN, Jörg , KRÄHMER, Daniel , RUOFF, Johannes , MEIER, Martin , SCHLESENER, Frank , HENNERKES, Christoph , SINGER, Wolfgang
IPC分类号： G02B5/09 , G03F7/70 , G21K1/06 , G21K1/16
CPC分类号： G03F7/702 , B82Y10/00 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B19/0071 , G02B19/0095 , G02B27/286 , G03F7/70166 , G03F7/70175 , G03F7/70566 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064 , G21K2201/067
摘要： A collector (15) for a projection exposure apparatus (1) for micro-lithography comprises a plurality of reflective sections (24) which are embodied and arranged in such a way that they can be impinged upon during the focusing of radiation (14) from a first focus (26) into a second focus (27) with angles (f) of impingement in a predefined angular spectrum.
摘要翻译：用于微光刻的投影曝光设备（1）的收集器（15）包括多个反射部分（24），其被实施和布置成使得它们可以在辐射（14）的聚焦过程中被撞击第一焦点（26）进入具有预定角度光谱中的冲击角度（f）的第二焦点（27）。

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