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1. 发明申请

WO2005124274A2 KALIBRIERVERFAHREN, MESSVERFAHREN, OPTISCHE MESSVORRICHTUNG UND BETRIEBSVERFAHREN 审中-公开
标题翻译：校准，测量方法，光学测量装置和操作方法
公开(公告)号：WO2005124274A2
公开(公告)日：2005-12-29
申请号：PCT/EP2005/006577
申请日：2005-06-17
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHELLHORN, Uwe , MANGER, Matthias , KEIL, Michael , EMER, Wolfgang
发明人： SCHELLHORN, Uwe , MANGER, Matthias , KEIL, Michael , EMER, Wolfgang
IPC分类号： G01B9/00
CPC分类号： G01B21/042
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Kalibrierung einer Messvorrichtung, die eine Senderanordnung mit mehreren Senderelementen zum Aussenden von Messsignalen zu Feldelementen des Prüflings und eine Empfängeranordnung mit mehreren Empfängerelementen zum Empfangen von Messsignalen von den Feldelementen des Prüflings umfasst, auf ein zugehöriges Verfahren zur Messung an einem Prüfling, auf eine damit kalibrierbare optische Messvorrichtung zur Passeprüfung und auf ein Verfahren zum Betrieb der optischen Messvorrichtung. Bei einem erfindungsgemäßen Kalibrierverfahren wird eine erste Zuordnung von Empfängerelementen, Senderelementen und Prüflingsfeldelementen eingestellt und ein erster Messvorgang zur Gewinnung eines ersten Satzes von Messwerten durchgeführt, dann eine neue Zuordnung eingestellt und ein erneuter Messvorgang durchgeführt, bis eine vorgebbare Anzahl von Messwertsätzen vorliegt, wonach rechnerisch Kalibrierdaten der Senderelemente und/oder der Empfängerelemente aus einem vorgebbaren Gleichungssystem bestimmt werden. Verwendung z.B. zur Kalibrierung einer Wellenfrontvermessungsvorrichtung für ein Projektionsobjektiv einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage und zur Kalibrierung einer optischen Messvorrichtung zur Passeprüfung.
摘要翻译：本发明涉及一种用于校准测量装置，其包括具有多个发射器元件的用于发送测量信号到样本和一个接收器装置具有多个接收器元件的阵列元件上的相关方法从DUT的阵列元件接收的测量信号用于测量发射器阵列被测器件，使得用于检查轭和所述光学测量装置的操作的方法校准的光学测量装置。在根据本发明的校准方法，接收器元件的第一分配，发射机元件和Prüflingsfeldelementen被设置并且用于获得第一组进行的测量的第一测量处理，然后设定新的映射和直到当前测定值与块的预定数量，执行新的测量过程，然后计算校准发射器元件和/或接收器元件从预定等式系统确定。例如使用用于校准的波前测量装置用于微光刻投射曝光设备的投射物镜以及用于光学测量装置的校准检查轭。

2. 发明申请

WO2006125576A2 OPTIKGITTERANORDNUNG, VERMESSUNGSVORRICHTUNG, VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR MEHRFACHBELICHTUNG 审中-公开
标题翻译：光晶格排列，测量设备，支持多种曝光装置及方法
公开(公告)号：WO2006125576A2
公开(公告)日：2006-11-30
申请号：PCT/EP2006/004810
申请日：2006-05-20
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SCHELLHORN, Uwe , MANGER, Matthias , KEIL, Michael
发明人： SCHELLHORN, Uwe , MANGER, Matthias , KEIL, Michael
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/706 , G03F7/70375 , G03F7/70466
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf eine Optikgitteranordnung mit wenigstens einem Optikgitter (3a, 3b) mit einem Gittersubstrat, auf eine Vorrichtung zur Moiré-Vermessung eines optischen Prüflings sowie auf eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Substratstrukturierung durch Mehrfachbelichtung. Erfindungsgemäß wird wenigstens eine Gitterstruktur durch eine Wellenanregung im Gittersubstrat erzeugt, insbesondere mit variabel einstellbarer Phase und/oder mit vorgebbarem Wellenlängen- oder Frequenzverhältnis der Wellenanregungen für zwei Optikgitter, z. B. für Moiré-Verzeichnungsmessungen. Verwendung z. B. in der Messtechnik und der Mehrfachbelichtungstechnik von Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlagen.
摘要翻译：本发明涉及一种光学栅格阵列与至少一个光栅（3A，3B），其具有一个光栅基片，以用于测试，以及用于通过多个曝光衬底图案化的装置和方法的光学装置的莫尔测量的装置。光栅结构是至少根据通过在衬底晶格波激励而产生，特别是与可变地可调节相位和/或波激发的两个光栅可预定的波长或频率比，例如本发明。至于莫尔失真测量。使用ž。作为计量和微光刻投射曝光系统的多次曝光技术。

3. 发明申请

WO2008110212A1 OPTICAL IMAGING ARRANGEMENT 审中-公开
标题翻译：光学成像装置
公开(公告)号：WO2008110212A1
公开(公告)日：2008-09-18
申请号：PCT/EP2007/052434
申请日：2007-03-15
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HOF, Albrecht , NEUGEBAUER, Dietmar , JÄNKER, Bernd , LAUER, Steffen , DEBITSCH, Rasmus , MANGER, Matthias
发明人： HOF, Albrecht , NEUGEBAUER, Dietmar , JÄNKER, Bernd , LAUER, Steffen , DEBITSCH, Rasmus , MANGER, Matthias
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/709
摘要： There is provided an optical imaging arrangement (101) comprising an optical projection unit (102), at least one of a mask unit (103) and a substrate unit (104), a first imaging arrangement component, a second imaging arrangement component and a metrology arrangement (107). The mask unit (103) is adapted to receive a mask comprising a pattern. The substrate unit (104) is adapted to receive a substrate. The optical projection unit (102) comprises a group of optical element units holding an optical element group (106), the optical element group (106) being adapted to transfer an image of the pattern onto the substrate. The first imaging arrangement component is a component of the optical projection unit (102) while the second imaging arrangement component is a component of one of the mask unit (103) and the substrate unit (104). The metrology arrangement (107) captures a spatial relationship between the first imaging arrangement component and the second imaging arrangement component. The metrology arrangement (107) comprises a reference element (107.5), the reference element (107.5) being mechanically connected to the first imaging arrangement component.
摘要翻译：提供了包括光学投影单元（102），掩模单元（103）和基板单元（104）中的至少一个的光学成像装置（101），第一成像布置部件，第二成像布置部件和计量安排（107）。掩模单元（103）适于接收包括图案的掩模。衬底单元（104）适于接收衬底。光学投影单元（102）包括保持光学元件组（106）的一组光学元件单元，所述光学元件组（106）适于将图案的图像转印到基板上。第一成像布置部件是光学投影单元（102）的部件，而第二成像布置部件是掩模单元（103）和基板单元（104）之一的部件。计量装置（107）捕获第一成像布置部件和第二成像布置部件之间的空间关系。计量装置（107）包括参考元件（107.5），参考元件（107.5）机械连接到第一成像装置部件。

4. 发明申请

WO2009141033A1 OPTISCHES SYSTEM FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：光学系统，微光刻
公开(公告)号：WO2009141033A1
公开(公告)日：2009-11-26
申请号：PCT/EP2009/002544
申请日：2009-04-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KRAEMER, Daniel , ULRICH, Wilhelm , MANGER, Matthias , GELLRICH, Bernhard
发明人： KRAEMER, Daniel , ULRICH, Wilhelm , MANGER, Matthias , GELLRICH, Bernhard
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70308
摘要： Ein optisches System (10), insbesondere Projektionsobjektiv (12), für die Mikrolithographie weist eine optische Achse und zumindest eine optische Korrekturanordnung (44) auf, die ein erstes optisches Korrekturelement und zumindest ein zweites optisches Korrekturelement aufweist, wobei das erste Korrekturelement mit einer ersten asphärischen Oberflächenkontur versehen ist, und wobei das zweite Korrekturelement mit einer zweiten asphärischen Oberflächenkontur versehen ist, wobei sich die erste Oberflächenkontur und die zweite Oberflächenkontur zumindest näherungsweise zu null addieren, wobei die Korrekturanordnung (44) zumindest einen Antrieb zum Bewegen zumindest eines der beiden Korrekturelemente aufweist. Dabei ist zumindest eines der beiden Korrekturelemente um eine Drehachse drehbar, die zumindest näherungsweise parallel zur optischen Achse ist, und der zumindest eine Antrieb ist ein Drehantrieb zum Drehen des einen oder beider Korrekturelemente um die Drehachse.
摘要翻译：用于微光刻的光学系统（10），尤其是投影透镜（12）包括具有第一校正光学元件和至少一个第二光学校正元件，光轴和至少一个光学校正阵列（44），其中所述第一校正元件首先用非球面表面轮廓被提供，并且其中所述第二校正元件设置有第二非球面表面轮廓，所述第一表面轮廓和所述的至少大约第二表面轮廓加起来为零，其特征在于，所述校正组件（44）包括用于移动所述两个校正元件中的至少一个上的至少一个驱动，在这种情况下，两个校正元件中的至少一个可绕一个旋转轴，其至少近似平行于光轴，并且所述至少一个驱动器用于转动围绕旋转轴线的修正元件的一方或双方的旋转驱动。

5. 发明申请

WO2009156111A1 PROJECTION EXPOSURE SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY AND METHOD OF MONITORING A LATERAL IMAGING STABILITY 审中-公开
标题翻译：用于微观计算的投影曝光系统和监测横向成像稳定性的方法
公开(公告)号：WO2009156111A1
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：PCT/EP2009/004493
申请日：2009-06-23
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MANGER, Matthias , SCHÖCH, Armin , MÜLLER, Ulrich
发明人： MANGER, Matthias , SCHÖCH, Armin , MÜLLER, Ulrich
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70258 , G03F7/70591 , G03F7/7085
摘要： A projection exposure system (10) for microlithography comprises projection optics (12) for imaging mask structures into a substrate plane (16), an input diffraction element (28) which is configured to convert irradiated measurement radiation (21 ) into at least two test waves (30) directed onto the projection optics (12) with different propagation directions, a detection diffraction element (34; 28) which is disposed in the optical path of the test waves (30) after the latter have passed through the projection optics (12) and is configured to produce a detection beam (36) from the test waves (30) which has a mixture of radiation portions of both test waves (30), a photo detector (38) disposed in the optical path of the detection beam (36) which is configured to record the radiation intensity of the detection beam (36), time resolved, and an evaluation unit which is configured to determine the lateral imaging stability of the projection optics (12) from the radiation intensity recorded.
摘要翻译：用于微光刻的投影曝光系统（10）包括用于将掩模结构成像到基板平面（16）中的投影光学器件（12），被配置为将照射的测量辐射（21）转换成至少两个测试的输入衍射元件（28）以不同的传播方向指向投影光学器件（12）的波（30）;检测衍射元件（34; 28），其被布置在经过投影光学器件的测试波（30）的光路中 12），并且被配置为从具有两个测试波的辐射部分的混合物的测试波（30）产生检测光束（36），设置在检测光束的光路中的光电检测器（38）（36），其被配置为记录检测光束（36）的辐射强度，时间分辨率，以及评估单元，其被配置为根据记录的辐射强度来确定投影光学器件（12）的横向成像稳定性。

6. 发明申请

WO2008122338A1 APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING THE POSITIONS OF MARKS ON A MASK 审中-公开
标题翻译：用于测量标记标记位置的装置和方法
公开(公告)号：WO2008122338A1
公开(公告)日：2008-10-16
申请号：PCT/EP2008/001936
申请日：2008-03-11
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , KLOSE, Gerd , ARNZ, Michael , HOF, Albrecht , KRAUSE, Helmut , STROESSNER, Ulrich , MANGER, Matthias , SCHELLHORN, Uwe , BECHSTEIN, Karl-Heinz
发明人： KLOSE, Gerd , ARNZ, Michael , HOF, Albrecht , KRAUSE, Helmut , STROESSNER, Ulrich , MANGER, Matthias , SCHELLHORN, Uwe , BECHSTEIN, Karl-Heinz
IPC分类号： G03F1/00
CPC分类号： G01N21/95692 , G01N2021/95676 , G03F1/84
摘要： An apparatus (1 ) for measuring the positions of marks (M) on a mask (2) is provided, said apparatus comprising a mask holder (3) for holding the mask (2), a recording unit (7) for recording the marks (M) of the mask (2) held by the mask holder (3), an actuating module (12) for moving the mask holder (3) and the recording unit (7) relative to each other, and an evaluating module (17), which numerically calculates the gravity-induced sagging of the mask (2) in the mask holder (3) and determines the positions of the marks (M) on the mask (2), based on the calculated sagging, the recordings made by the recording unit (7) and the relative movement between the mask holder (3) and the recording unit (7), wherein, prior to calculating said sagging, the present position of the mask (2) in the mask holder (3) is determined and is taken into consideration in said numerical calculation, and/or the geometrical dimensions of the mask (2) are taken into consideration in said numerical calculation of sagging.
摘要翻译：提供一种用于测量掩模（2）上的标记（M）的位置的装置（1），所述装置包括用于保持掩模（2）的掩模支架（3），用于记录标记的记录单元（7）（3）和由所述记录单元（7）相对移动的驱动模块（12），以及评估模块（17）），其数值计算掩模保持器（3）中的面罩（2）的重力引起的下垂，并且基于所计算的下垂来确定掩模（2）上的标记（M）的位置，由记录单元（7）和掩模保持器（3）和记录单元（7）之间的相对运动，其中，在计算所述下垂之前，掩模（2）在掩模保持器（3）中的当前位置是在所述数值计算中确定并考虑到，并且在所述数值计算中考虑掩模（2）的几何尺寸下垂。

7. 发明申请

WO2008071295A1 CALIBRATING METHOD FOR A MASK WRITER 审中-公开
标题翻译： MASK WRITER的校准方法
公开(公告)号：WO2008071295A1
公开(公告)日：2008-06-19
申请号：PCT/EP2007/010046
申请日：2007-11-20
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , MANGER, Matthias , SCHELLHORN, Uwe
发明人： MANGER, Matthias , SCHELLHORN, Uwe
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/14
CPC分类号： G03F7/70783 , G03F1/68 , G03F1/70 , G03F7/70383 , G03F7/70433
摘要： A calibrating method for a mask writer is provided, said method comprising the steps of: a) measuring the existing deformation of a first mask when writing a first mask structure of the first mask using the mask writer; b) measuring the distortion of the written first mask structure as well as the existing deformation of the first mask when measuring the distortion; c) measuring the deformation of the first mask in the holder of an exposure device; d) deriving a correction for the mask writer from the deformations of the first mask which were measured in steps a)-c) and from the distortion measured in step b), said correction causing the mask writer, when writing a second mask structure of a second mask, to pre-distort said second mask structure to be written, such that the second mask structure's deformation-induced distortion appearing in the holder of the exposure device is compensated for at least partially.
摘要翻译：提供一种用于掩模写入器的校准方法，所述方法包括以下步骤：a）使用掩模写入器写入第一掩模的第一掩模结构时，测量第一掩模的现有变形; b）当测量失真时，测量所写入的第一掩模结构的失真以及第一掩模的现有变形; c）测量曝光装置的保持器中的第一掩模的变形; d）从步骤a）-c）中测量的第一掩模的变形和从步骤b）中测量的失真导出掩模写入器的校正，当写入掩模写入器的第二掩模结构时，第二掩模，用于预先变形要写入的所述第二掩模结构，使得出现在所述曝光装置的所述保持器中的所述第二掩模结构的变形引起的变形被至少部分地补偿。

8. 发明申请

WO2019025218A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM BESTIMMEN VON DURCH EIN PROJEKTIONSOBJEKTIV VERURSACHTEN WELLENFRONTABERRATIONEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2019025218A1
公开(公告)日：2019-02-07
申请号：PCT/EP2018/069885
申请日：2018-07-23
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , SCHELLHORN, Uwe , MANGER, Matthias , HETTICH, Carmen
发明人： SCHELLHORN, Uwe , MANGER, Matthias , HETTICH, Carmen
IPC分类号： G03F7/20 , G01M11/02
CPC分类号： G03F7/706 , G01M11/0264 , G03F7/7085
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Bestimmen von durch ein Projektionsobjektiv verursachten Wellenfrontaberrationen. Ein erfindungsgemäßes Verfahren weist folgende Schritte auf: Bestrahlen eines Retikels (130) mit Strahlung, wobei das Retikel (130) eine Mehrzahl von strukturierten Bereichen aufweist und wobei von wenigstens einigen dieser strukturierten Bereiche ein Messstrahl ausgeht, Projizieren dieser Messstrahlen, mit einem Projektionsobjektiv (120), auf eine in der Bildebene des Projektionsobjektivs befindliche Sensoranordnung (140), und Messen der auf die Sensoranordnung (140) auftreffenden Strahlung zum Bestimmen von durch das Projektionsobjektiv (120) verursachten Wellenfrontaberrationen, wobei die genannten Schritte in einer Mehrzahl von Messstellungen durchgeführt werden, welche sich hinsichtlich der Relativposition zwischen dem aus Retikel (130) und Sensoranordnung (140) gebildeten Messsystem und dem Projektionsobjektiv (120) voneinander unterscheiden, und wobei in wenigstens einigen dieser Messstellungen Retikel (130) und/oder Sensoranordnung (140) einerseits und Projektionsobjektiv (120) andererseits relativ zueinander verdreht angeordnet werden, wobei diese Verdrehung innerhalb der Bildebene oder einer parallel zur Bildebene liegenden Ebene erfolgt.

9. 发明申请

WO2008055589A3 METHOD FOR DETERMINATION OF RESIDUAL ERRORS 审中-公开
公开(公告)号：WO2008055589A3
公开(公告)日：2008-05-15
申请号：PCT/EP2007/009201
申请日：2007-10-23
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , SCHELLHORN, Uwe , MANGER, Matthias
发明人： SCHELLHORN, Uwe , MANGER, Matthias
IPC分类号： G03F7/20
摘要： There is provided a method for determining residual errors, comprising the following steps: in a first step, a test plate comprising a first pattern is used, and in a second step, a test plate comprising a second pattern which is reflected and/or rotated with respect to the first step is used.

10. 发明申请

WO2015169937A1 SYSTEM UND VERFAHREN ZUR ANALYSE EINES VON EINER STRAHLFÜHRUNGSOPTIK GEFÜHRTEN LICHTSTRAHLS 审中-公开
标题翻译：系统和方法的指导束看出来梁分析
公开(公告)号：WO2015169937A1
公开(公告)日：2015-11-12
申请号：PCT/EP2015/060145
申请日：2015-05-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , MANGER, Matthias , BAUMER, Florian
发明人： MANGER, Matthias , BAUMER, Florian
IPC分类号： G01J1/42 , H01S3/00 , G01J1/04 , B23K26/30 , H05G2/00
CPC分类号： G01J1/4257 , B23K26/705 , G01J1/0418 , G02B5/205 , H05G2/005 , H05G2/008
摘要： Die Erfindung betrifft ein System und ein Verfahren zur Analyse eines von einer Strahlführungsoptik geführten Lichtstrahls. Ein erfindungsgemäßes System weist eine Grauverlaufsfilter-Anordnung (120, 520), welche in einer Fernfeldebene der Strahlführungsoptik angeordnet ist und wenigstens einen Grauverlaufsfilter (121, 521, 522, 523) mit örtlich variierender Transmission aufweist, und eine Lichtintensitätssensor-Anordnung mit mindestens einem Lichtintensitätssensor (140, 540) auf, welche in einer Nahfeldebene der Strahlführungsoptik angeordnet ist und für jeden Grauverlaufsfilter (121, 521, 522, 523) der Grauverlaufsfilter-Anordnung (120, 520) jeweils die durch den Grauverlaufsfilter transmittierte Lichtintensität misst (141, 541, 542, 543).
摘要翻译：本发明涉及一种用于分析光束传输光学光束的运行的系统和方法。根据本发明的系统包括：中性密度过滤器组件，其与局部变化的传输排列在光束引导装置的远场平面和至少一个中性密度滤光器（121，521，522，523），和在与至少一个光强度传感器的光强度的传感器装置（120，520）（140，540），其被布置在Nahfeldebene光束引导装置，并且对于所述中性密度过滤器组件（120，520）分别，光通过中性密度滤光器的光强度测量（141，541发送的各中性密度滤光器（121，521，522，523）， 542，543）。

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