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1. 发明申请

WO2020069793A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR STRAHLWINKELMESSUNG EINES VON EINER STRAHLFÜHRUNGSOPTIK GEFÜHRTEN LICHTSTRAHLS 审中-公开
公开(公告)号：WO2020069793A1
公开(公告)日：2020-04-09
申请号：PCT/EP2019/071811
申请日：2019-08-14
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , BAUMER, Florian , MANGER, Matthias
发明人： BAUMER, Florian , MANGER, Matthias
IPC分类号： G02B27/64 , H05G2/00
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Strahlwinkelmessung eines von einer Strahlführungsoptik geführten Lichtstrahls. Eine erfindungsgemäße Vorrichtung weist eine Lichtintensitätssensor-Anordnung (20, 30, 40, 50, 60), eine Fokussiereinheit (21, 31, 41) zum Fokussieren des Lichtstrahls auf einen vorgegebenen Ort auf der Lichtintensitätssensor-Anordnung und eine Nachführeinheit (22, 32, 42) auf, welche bei Änderung des bei Eintritt in die Vorrichtung vorliegenden Strahlwinkels eine Relativposition des Intensitätsschwerpunkts des Lichtstrahls in Bezug auf einen vorgegebenen Ort auf der Lichtintensitätssensor-Anordnung nachführt, wobei die Nachführeinheit (22, 32, 42) dazu konfiguriert ist, die Relativposition des Intensitätsschwerpunkts des Lichtstrahls in Bezug auf den vorgegebenen Ort auf der Lichtintensitätssensor-Anordnung (20, 30, 40, 50, 60) bis auf eine vorgegebene maximale Abweichung konstant zu halten, und wobei diese maximale Abweichung der Hälfte des mittleren Strahldurchmessers beim Auftreffen auf der Lichtintensitätssensor-Anordnung (20, 30, 40, 50, 60) entspricht.

2. 发明申请

WO2020069792A1 METROLOGIESYSTEM UND VERFAHREN ZUR VERMESSUNG EINES ANREGUNGS-LASERSTRAHLS IN EINER EUV-PLASMAQUELLE 审中-公开
公开(公告)号：WO2020069792A1
公开(公告)日：2020-04-09
申请号：PCT/EP2019/071801
申请日：2019-08-14
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , MANGER, Matthias , BAUMER, Florian
发明人： MANGER, Matthias , BAUMER, Florian
IPC分类号： G01J9/02 , G03F7/20 , H05G2/00
摘要： Die Erfindung betrifft ein Metrologiesystem und ein Verfahren zur Vermessung eines Anregungs-Laserstrahls in einer EUV-Plasmaquelle, wobei der Anregungs-Laserstrahl in der EUV-Plasmaquelle von einem Anregungs-Laser über eine Strahlsteuereinheit und eine Fokussieroptik auf ein in einer Plasmazündungsposition befindliches Targetmaterial geführt wird. Ein erfindungsgemäßes Metrologiesystem weist ein erstes Strahlanalysesystem (8) zur Analyse wenigstens eines aus dem Anregungs-Laserstrahl vor Reflexion an dem Targetmaterial ausgekoppelten ersten Messstrahls und ein zweites Strahlanalysesystem (9) zur Analyse wenigstens eines aus dem Anregungs-Laserstrahl nach Reflexion an dem Targetmaterial ausgekoppelten zweiten Messstrahls auf, wobei sowohl das erste Strahlanalysesystem (8) als auch das zweite Strahlanalysesystem (9) jeweils wenigstens eine Wellenfrontsensorik aufweisen.

3. 发明申请

WO2015169937A1 SYSTEM UND VERFAHREN ZUR ANALYSE EINES VON EINER STRAHLFÜHRUNGSOPTIK GEFÜHRTEN LICHTSTRAHLS 审中-公开
标题翻译：系统和方法的指导束看出来梁分析
公开(公告)号：WO2015169937A1
公开(公告)日：2015-11-12
申请号：PCT/EP2015/060145
申请日：2015-05-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , MANGER, Matthias , BAUMER, Florian
发明人： MANGER, Matthias , BAUMER, Florian
IPC分类号： G01J1/42 , H01S3/00 , G01J1/04 , B23K26/30 , H05G2/00
CPC分类号： G01J1/4257 , B23K26/705 , G01J1/0418 , G02B5/205 , H05G2/005 , H05G2/008
摘要： Die Erfindung betrifft ein System und ein Verfahren zur Analyse eines von einer Strahlführungsoptik geführten Lichtstrahls. Ein erfindungsgemäßes System weist eine Grauverlaufsfilter-Anordnung (120, 520), welche in einer Fernfeldebene der Strahlführungsoptik angeordnet ist und wenigstens einen Grauverlaufsfilter (121, 521, 522, 523) mit örtlich variierender Transmission aufweist, und eine Lichtintensitätssensor-Anordnung mit mindestens einem Lichtintensitätssensor (140, 540) auf, welche in einer Nahfeldebene der Strahlführungsoptik angeordnet ist und für jeden Grauverlaufsfilter (121, 521, 522, 523) der Grauverlaufsfilter-Anordnung (120, 520) jeweils die durch den Grauverlaufsfilter transmittierte Lichtintensität misst (141, 541, 542, 543).
摘要翻译：本发明涉及一种用于分析光束传输光学光束的运行的系统和方法。根据本发明的系统包括：中性密度过滤器组件，其与局部变化的传输排列在光束引导装置的远场平面和至少一个中性密度滤光器（121，521，522，523），和在与至少一个光强度传感器的光强度的传感器装置（120，520）（140，540），其被布置在Nahfeldebene光束引导装置，并且对于所述中性密度过滤器组件（120，520）分别，光通过中性密度滤光器的光强度测量（141，541发送的各中性密度滤光器（121，521，522，523）， 542，543）。

4. 发明申请

WO2022268793A1 MESSANORDNUNG ZUR OPTISCHEN VERMESSUNG EINES TESTOBJEKTS 审中-公开
公开(公告)号：WO2022268793A1
公开(公告)日：2022-12-29
申请号：PCT/EP2022/066851
申请日：2022-06-21
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： BAUMER, Florian , EDLER, Tobias
IPC分类号： G03F7/20 , G01M11/00 , G01N21/55 , G01M11/005 , G03F7/70591
摘要： Die Erfindung betrifft eine Messanordnung (40) zur optischen Vermessung einer Eigenschaft eines Testobjekts (12) mit einem Messstrahlengang (28) sowie einem vom Messstrahlengang durchlaufenen Übergangsbereich (30) zwischen zwei Medien (24, 26) mit unterschiedlichen Brechungsindizes. Im Übergangsbereich (30) ist zumindest eine optische Einrichtung (42, 54, 56) angeordnet, welche dazu konfiguriert ist, eine Lichtbrechung im Übergangsbereich zu minimieren. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Reflektometer (60) zur Messung einer Reflexionseigenschaft eines Testobjekts (12) mit einer Messanordnung (40) zur Bestimmung der Position des Testobjekts (12) im Reflektometer (60).

5. 发明申请

WO2015124714A1 ERFASSUNG EINER AUSBREITUNGSRICHTUNG EINES OPTISCHEN STRAHLS 审中-公开
标题翻译：扩展采集的光束的方向
公开(公告)号：WO2015124714A1
公开(公告)日：2015-08-27
申请号：PCT/EP2015/053590
申请日：2015-02-20
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： BAUMER, Florian
IPC分类号： G02B7/28 , G02B27/64 , H05G2/00 , G02B5/18
CPC分类号： G02B7/287 , G02B5/1895 , G02B27/646 , H05G2/008
摘要： Die Erfindung betrifft eine Erfassungseinrichtung zum Erfassen einer Ausbreitungsrichtung eines optischen Strahls. Die Erfassungseinrichtung weist einen Detektor auf, welcher mit dem optischen Strahl bestrahlbar ist. Die Erfassungseinrichtung weist eine dem Detektor vorgeschaltete fokussierende optische Einrichtung zum Fokussieren des optischen Strahls auf. Die Erfassungseinrichtung weist eine dem Detektor vorgeschaltete diffraktive optische Struktur zur Formung des optischen Strahls auf, so dass der auf den Detektor auftreffende optische Strahl eine Intensitätsverteilung mit einem Intensitätsmaximum aufweist, welches eine einen Bereich umschließende Form aufweist. Die Erfindung betrifft des Weiteren eine Vorrichtung mit einer solchen Erfassungseinrichtung.
摘要翻译：本发明涉及一种检测装置，用于检测光束的传播方向。该检测装置包括检测器，其被照射光束。所述检测装置包括一个上游检测器聚焦光学装置，用于聚焦光束。该检测设备包括用于形成光束的上游检测器衍射光学结构，以使得光入射在具有与具有的区域包围的形状的强度峰值的强度分布的检测器的光束。本发明还涉及一种具有这样的检测器的装置。

6. 发明申请

WO2021004785A1 ILLUMINATION SYSTEM FOR AN EUV APPARATUS AND METHOD FOR RESTORING IT 审中-公开
公开(公告)号：WO2021004785A1
公开(公告)日：2021-01-14
申请号：PCT/EP2020/067624
申请日：2020-06-24
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： BAUMER, Florian , ORTHEN, André
IPC分类号： G03F7/20
摘要： An illumination system for an EUV apparatus is configured to receive, during operation of the EUV apparatus, EUV radiation of an EUV radiation source at a source position in an entrance plane and to shape, from at least one portion of the received EUV radiation, illumination radiation that is directed into an illumination field in an exit plane of the illumination system and in the illumination field fulfils an illumination specification. The illumination system comprises a plurality of mirror modules which are installed at assigned installation positions and which define an illumination beam path leading from the source position to the illumination field. The mirror modules comprise a first facet mirror (FAC1) and a second facet mirror (FAC2), wherein the first facet mirror (FAC1) comprises first facets (F1) configured for reflecting EUV radiation and arranged in or near a field plane of the illumination system, said field plane being optically conjugate with respect to the plane of the illumination field (BF), and the second facet mirror comprises second facets configured for reflecting EUV radiation and arranged in or near a pupil plane of the illumination system. At least one of the first facets (F1) comprises at least one alignment marking (JM) which, during use of the illumination system as intended, is not able to be imaged into the illumination field by the EUV radiation and is able to be imaged into the illumination field upon incidence of measurement light (ML) originating from a different wavelength range than the EUV radiation.

7. 发明申请

WO2020115204A1 METHOD FOR REPLACING A MIRROR IN A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, AND POSITION- AND ORIENTATION DATA MEASURING DEVICE FOR CARRYING OUT THE METHOD 审中-公开
公开(公告)号：WO2020115204A1
公开(公告)日：2020-06-11
申请号：PCT/EP2019/083811
申请日：2019-12-05
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： PETRI, Christoph , RUNDE, Daniel , BAUMER, Florian , MÜLLER, Ulrich
IPC分类号： G03F7/20
摘要： When replacing a mirror in a projection exposure apparatus, a mirror for replacement is initially removed (41). Position- and orientation data of the removed mirror for replacement are measured (43) by a position- and orientation data measuring device. Furthermore, position- and orientation data of a replacement mirror, which should be inserted in place of the mirror for replacement, are measured (46) using the position- and orientation data measuring device. Bearing points of the replacement mirror are reworked (48) on the basis of ascertained differences between, firstly, the position- and orientation data of the mirror for replacement and, secondly, the position- and orientation data of the replacement mirror. The reworked replacement mirror is installed (54). This yields a mirror replacement method, in which an adjustment outlay of the replacement mirror in the projection exposure apparatus is reduced.

8. 发明申请

WO2020069870A1 METHOD FOR PRODUCING AN ILLUMINATION SYSTEM FOR AN EUV APPARATUS 审中-公开
公开(公告)号：WO2020069870A1
公开(公告)日：2020-04-09
申请号：PCT/EP2019/075037
申请日：2019-09-18
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： BAUMER, Florian , LICHTENTHÄLER, Jörg
IPC分类号： G03F7/20
摘要： A method for producing an illumination system for an EUV apparatus comprises the following steps: installing mirror modules (FAC1, FAC2, CO) of the illumination system (ILL) at installation positions provided for the mirror modules to establish an illumination beam path which extends from a source position (SR) to an illumination field (BF) to be illuminated; coupling measurement light into the illumination beam path at an input coupling position upstream of a first mirror module (FAC1) of the illumination beam path; detecting measurement light after reflection of the measurement light at each of the mirror modules of the illumination beam path; ascertaining actual measurement values for at least one system measurement variable from detected measurement light, wherein the actual measurement values represent an actual state of the system measurement variable of the illumination system; ascertaining correction values from the actual measurement values; and adjusting at least one mirror module using the correction values to change the actual state in a manner such that in the case of irradiation with EUV radiation from the EUV radiation source, the illumination radiation in the illumination field fulfils a defined illumination specification. In this case, at least one of the mirror modules (CO) has a mirror surface to which an IR diffraction structure (DS-IR) is applied, which is designed such that at least one portion of incident radiation from the infrared range is diffracted out of the illumination beam path. Measurement light having a wavelength λ from the visible spectral range (VIS) is used, wherein the wavelength λ of the measurement light is selected in such a way that higher orders of measurement light diffracted at the IR diffraction structure (DS-IR) are substantially suppressed.

9. 发明申请

WO2019081555A1 METHOD FOR RESTORING AN ILLUMINATION SYSTEM FOR AN EUV APPARATUS, AND DETECTOR MODULE 审中-公开
公开(公告)号：WO2019081555A1
公开(公告)日：2019-05-02
申请号：PCT/EP2018/079105
申请日：2018-10-24
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： BAUMER, Florian
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/62 , G01B11/00 , G01M11/02
摘要： A method for restoring an illumination system installed in an EUV apparatus, said illumination system comprising a plurality of mirror modules which are installed at assigned installation positions and which define an illumination beam path leading from the source position to the illumination field, comprises a swap operation of a mirror module, in which a mirror module is disassembled from its installed position and removed from the illumination system, a mirror module with nominally the same design is installed in the installation position in place of the removed mirror module and the installed mirror module is adjusted in rigid body degrees of freedom in the installation position while changing the relative orientation of the mirror module. Before the swap operation, a reference measurement is performed in order to capture a reference state that represents the adjustment state before the start of the swap operation. After the swap operation has finished, a comparison measurement is performed and the adjustment state measured in the process is compared to the reference state in order to restore the adjustment state from before the swap operation. The following are measured during the reference measurement and the comparison measurement: positions of a first end portion (END1) and a second end portion (END2), lying opposite the first end portion, of the illumination field (BF), with the position of the illumination field not being measured inan intermediate portion (ZW) lying between the first and the second end portion; and a spatial distribution of measurement light in a pupil plane that is Fourier-transformed in relation to the exit plane for a field point lying in the intermediate portion(ZW).

10. 发明公开

EP3861310A1 METROLOGIESYSTEM UND VERFAHREN ZUR VERMESSUNG EINES ANREGUNGS-LASERSTRAHLS IN EINER EUV-PLASMAQUELLE 有权
公开(公告)号：EP3861310A1
公开(公告)日：2021-08-11
申请号：EP19761758.2
申请日：2019-08-14
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： MANGER, Matthias , BAUMER, Florian
IPC分类号： G01J9/02 , G03F7/20 , H05G2/00

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