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1. 发明申请

WO2003093902A3 BELEUCHTUNGSSYSTEM, INSBESONDERE FÜR DIE EUV-LITHOGRAPHIE 审中-公开
公开(公告)号：WO2003093902A3
公开(公告)日：2003-11-13
申请号：PCT/EP2003/003616
申请日：2003-04-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MELZER, Frank , SINGER, Wolfgang
发明人： MELZER, Frank , SINGER, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Ein Beleuchtungssystem, insbesondere für die EUV-Lithographie mit einem Projektionsobjektiv zu Herstellung von Halbleiter-elementen für Wellenlängen ≤ 193 nm ist mit einer Lichtquelle (1), mit einer Objektebene (12), mit einer Austrittspupille (15) und mit einem ersten optischen Element (5) mit ersten Rasterelementen (6) zur Erzeugung von Lichtkanälen und mit einem zweiten optischen Element (7) mit zweiten Rasterelementen (8) versehen. Jedem Lichtkanal, der von einem der ersten Rasterelemente (6) des ersten optischen Elementes (5) ausgebildet wird, ist ein Rasterelement (8) des zweiten optischen Elementes (7) zugeordnet. Die Rasterelemente (6) des ersten optischen Elementes (5) und des zweiten optischen Elementes (7) können derart ausgestaltet oder angeordnet werden, dass sie für jeden Lichtkanal einen durchgehenden Strahlverlauf von der Lichtquelle 1 bis zur Objektebene (12) ergibt. Die ersten Rasterelemente (6) des ersten optischen Elementes (5) sind zur Änderung eines Kippes winkelverstellbar. Die zweiten Rasterelemente (8) des zweiten optischen Elementes (7) können einzeln und unabhängig voneinander im Ort und/oder im Winkel verstellt werden, um durch Verschieben und/oder Kippen der ersten und zweiten Rasterelemente (8) eine andere Zuordnung der ersten Rasterelemente (6) des ersten optischen Elementes (5) zu den zweiten Rasterelementen (8) des zweiten optischen Elementes (7) zu realisieren.

2. 发明申请

WO2004034146A2 BELEUCHTUNGSSYSTEM MIT EINER VORRICHTUNG ZUR EINSTELLUNG DER LICHTINTENSITÄT 审中-公开
标题翻译：与设备用于设置光强照明系统
公开(公告)号：WO2004034146A2
公开(公告)日：2004-04-22
申请号：PCT/EP2003/009370
申请日：2003-08-23
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SINGER, Wolfgang , ANTONI, Martin , MELZER, Frank , WANGLER, Johannes , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Joachim , MAUL, Manfred , WEISS, Markus
发明人： SINGER, Wolfgang , ANTONI, Martin , MELZER, Frank , WANGLER, Johannes , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Joachim , MAUL, Manfred , WEISS, Markus
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/7085
摘要： Die Erfindung betrifft ein Beleuchtungssystem für die Mikrolithographie mit Wellenlängen ≤ 157 nm, insbesondere für die EUV-Lithographie zur Ausleuchtung einer Objektebene umfassend eine Strahlungsquelle, die ein Bündel von Lichtstrahlen zur Verfügung stellt, wobei das Bündel von Lichtstrahlen das Beleuchtungssystem in einem Strahlengang in einer Richtung von der Strahlungsquelle zur Objektebene durchläuft und eine Lichtintensität aufweist; einer ersten optischen Komponente, die mindestens ein erstes optisches Element mit einer Vielzahl von Rasterelementen umfasst, wobei das erste optische Element im Strahlengang zwischen der Strahlungsquelle und der Objektebene angeordnet ist; dadurch gekennzeichnet, dass eine Vorrichtung zur Einstellung der Lichtintensität für Wellenlängen ≤ 157 nm vorgesehen ist, die im Strahlengang von der Strahlungsquelle zur Objektebene zwischen der Strahlungsquelle und dem ersten optischen Element angeordnet ist.
摘要翻译：本发明涉及的照明系统用于与波长微光刻<= 157纳米，尤其用于EUV光刻用于照明物平面，其包括辐射源，其提供的光线的光束是可用的，其中光束的束，在所涉及的光路中的照明系统穿过辐射源到物体面并具有光强度的方向; 一个第一光学部件，其至少包括具有多个格子体，其中，所述第一光学元件被布置在所述辐射源和所述物平面之间的光路中的第一光学元件; 其特征在于，一个装置用于调整波长的光强度<157纳米设置=设置在从辐射源到辐射源和所述第一光学元件之间的物体面的光束路径。

3. 发明申请

WO2003067304A1 FACETTENSPIEGEL MIT MEHREREN SPIEGELFACETTEN 审中-公开
标题翻译：具有多面FACETS镜子镜子
公开(公告)号：WO2003067304A1
公开(公告)日：2003-08-14
申请号：PCT/EP2002/014748
申请日：2002-12-23
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HOLDERER, Hubert , WEISS, Markus , SINGER, Wolfgang , SEIFERT, Andreas , HEISLER, Andreas , MELZER, Frank , MANN, Heinz , FALTUS, Jürgen
发明人： HOLDERER, Hubert , WEISS, Markus , SINGER, Wolfgang , SEIFERT, Andreas , HEISLER, Andreas , MELZER, Frank , MANN, Heinz , FALTUS, Jürgen
IPC分类号： G02B7/182
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B5/09 , G02B7/1821 , G02B7/1824 , G02B7/198 , G02B26/0833 , G03F7/70108 , G03F7/70141 , G03F7/70175 , G03F7/702
摘要： Ein Facettenspiegel (10) mit mehreren Spiegelfacetten ( ) wird in Beleuchtungseinrichtungen (3) für Projektionsbelichtungsanlagen (1) in der Mikrolithographie, insbesondere in der EUV-Lithographie, eingesetzt. Jede der Spiegelfacetten (11) weist einen Kugelkörper (17) auf. Eine Spiegeloberfläche (12) ist in einer Ausnehmung (18) des Kugelkörpers (17) angeordnet. Die der Spiegeloberfläche (12) abgewandte Seite des Kugelkörpers (17) ist in einer Lagereinrichtung (15) gelagert. Bei einer Vorrichtung zur Justage eines derartigen Facettenspiegels (10) ist an jeder der Spiegelfacetten (11) auf der der Spiegeloberfläche (12) abgewandten Seite des Kugelkörpers (17) ein Hebelelement (23) angeordnet. An dem Hebelelement (23) greifen in einem dem Kugelkörper (17) abgewandten Bereich Stellmittel (27) an, durch welche eine Bewegung des Kugelkörpers (17) um seinem Mittelpunkt erzielbar ist.
摘要翻译：具有多个镜面的（）A分面镜（10）中的照明装置（3），用于投射曝光设备（1），在微光刻所使用的，特别是在EUV光刻中使用。每个镜面（11）的具有球形主体（17）。反射镜表面（12）被布置在所述球状体（17）的凹部（18）。从球形本体（17）背向反射镜表面（12）侧安装在轴承装置（15）。在这样的分面镜（10）上的每个所述反射镜表面的相反侧的镜面（11）的调整装置（12），所述球状体（17）的侧上配置有杠杆部件（23）。在杠杆部件（23）接合在球形本体（17）背向区域设定装置（27），通过该球状体（17）的运动，可以实现到其中心的一个。

4. 发明申请

WO2003067288A1 SPIEGELFACETTE FÜR EINEN FACETTENSPIEGEL 审中-公开
标题翻译：镜面FOR A面镜子
公开(公告)号：WO2003067288A1
公开(公告)日：2003-08-14
申请号：PCT/EP2003/000716
申请日：2003-01-24
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MELZER, Frank
发明人： MELZER, Frank
IPC分类号： G02B5/08
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/09 , G02B17/0657
摘要： Eine Spiegelfacette (11) dient zum Aufbau eines wenigstens einen dieser Spiegelfacetten (11) umfassenden Facettenspiegels (10). Der Facettenspiegel (10) ist für den Einsatz in Projektionsbelilchtungsanlagen in der Mikrolithographie, insbesondere in der EUV-Lithographie, vorgesehen. Die Spiegelfacette (11) weist dabei folgende Eigenschaften auf: eine Spiegeloberfläche (12) derSpiegelfacette (11) ist auf einem Trägerelement (14) angeordnet; das Trägerelement (14) weist eine kardanische Aufhängung für den Teil (17) des Trägerelements (14) auf, auf welchem die Spiegeloberfläche (12) angeordnet ist; über Stellmittel (19, 20, 25, 26) ist die Winkellage der Spiegeloberfläche (12) in einer Ebene wenigstens annähernd senkrecht zur optischen Achse (18) der Spiegeloberfläche (12) Stellmittel (19, 20, 25, 26) wirken über Getriebeelemente (21, 22, 24) auf wenigstens eine Teil (A) des Trägerelements (14); die Stellmittel (19, 20, 25, 26) sind von der der Spiegeloberfläche (12) abgewandten Seite der Spiegelfacette (11) aus zugänglich; und das Trägerelement (14), die Stellmittel (19, 20, 25, 26) und die Getriebeelemente (21, 22, 24) liegen alle unterhalb einer wenigstens annähernd senkrecht zur optischen Achse (18) der Spiegeloberfläche (12) stehenden Projektionsfläche des Trägerelements (14) im Bereich der Spiegeloberfläche (12).
摘要翻译：甲镜面11是用来建立这些反射镜的至少一个刻面11的综合分面镜10被设置在EUV光刻用分面镜10是用于在微光刻在Projektionsbelilchtungsanlagen用途，特别是。在这种情况下，镜面11具有以下性质：支撑构件14上的反射镜表面12 derSpiegelfacette 11布置在支撑元件14具有用于支撑构件14的部分17a的万向悬架被布置在经由致动的反射镜表面12装置19，20，25 ，26在一个平面上的反射镜表面12的角位置的至少大致垂直于光轴的反射面12的致动装置19，20，25 18，26经由传动元件21，22和24上的至少一个部分作用的支撑构件14的，致动装置19，20 ，25，26是从镜面11和支撑构件14背向反射镜表面12侧接近，致动装置19，20，25，26和齿轮元件21，22，24都低于至少近似垂直于光轴18 反射面12站在支撑构件14的突出部在SPIE的区域凝胶表面12

5. 发明申请

WO2003050586A3 SPIEGELFACETTE UND FACETTENSPIEGEL 审中-公开
公开(公告)号：WO2003050586A3
公开(公告)日：2003-06-19
申请号：PCT/EP2002/012792
申请日：2002-11-15
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SINGER, Wolfgang , WEISS, Markus , SEIFERT, Andreas , MELZER, Frank , MANN, Heinz , HEISLER, Andreas , HOLDERER, Hubert
发明人： SINGER, Wolfgang , WEISS, Markus , SEIFERT, Andreas , MELZER, Frank , MANN, Heinz , HEISLER, Andreas , HOLDERER, Hubert
IPC分类号： G02B7/182
摘要： Eine Spiegelfacette (3) für einen Facettenspiegel (1) weist eine Speigeloberfläche (4) auf. Die Spielgeloberfläche (4) der Spiegelfacette (3) ist in einer bevorzugten Ausführungsform sphärisch ausgebildet, wobei die der Spiegeloberfläche (4) abgewandte Seite der Spiegelfacette (3) ebenfalls sphärisch ausgebildet ist, und wobei die beiden Sphären verschiedene Mittelpunkte (M, M') aufweisen. Die Spiegelfacette (3) kann jedoch auch so ausgebildet sein, dass die der Spiegeloberfläche (4) abgewandte Seite plan ausgebildet ist. Die Spiegelfacetten (3) sind zu einem Facettenspiegel (1) zusammenfassbar, wobei die Spiegelfacetten (3) dann auf ein gemeinsames Trägerelement (2) aufgesetzt sind.

6. 发明申请

WO2003050586A2 SPIEGELFACETTE UND FACETTENSPIEGEL 审中-公开
标题翻译：镜子面和镜子镜子
公开(公告)号：WO2003050586A2
公开(公告)日：2003-06-19
申请号：PCT/EP2002/012792
申请日：2002-11-15
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SINGER, Wolfgang , WEISS, Markus , SEIFERT, Andreas , MELZER, Frank , MANN, Heinz , HEISLER, Andreas , HOLDERER, Hubert
发明人： SINGER, Wolfgang , WEISS, Markus , SEIFERT, Andreas , MELZER, Frank , MANN, Heinz , HEISLER, Andreas , HOLDERER, Hubert
IPC分类号： G02B7/182
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B5/09 , G02B7/1821 , G02B7/1824 , G02B7/198 , G02B26/0833 , G02B26/085 , G03F7/70141 , G03F7/70175 , G03F7/702
摘要： Eine Spiegelfacette (3) für einen Facettenspiegel (1) weist eine Speigeloberfläche (4) auf. Die Spielgeloberfläche (4) der Spiegelfacette (3) ist in einer bevorzugten Ausführungsform sphärisch ausgebildet, wobei die der Spiegeloberfläche (4) abgewandte Seite der Spiegelfacette (3) ebenfalls sphärisch ausgebildet ist, und wobei die beiden Sphären verschiedene Mittelpunkte (M, M') aufweisen. Die Spiegelfacette (3) kann jedoch auch so ausgebildet sein, dass die der Spiegeloberfläche (4) abgewandte Seite plan ausgebildet ist. Die Spiegelfacetten (3) sind zu einem Facettenspiegel (1) zusammenfassbar, wobei die Spiegelfacetten (3) dann auf ein gemeinsames Trägerelement (2) aufgesetzt sind.
摘要翻译：用于分面镜（1）的镜面（3）具有插口表面（4）。的镜面（3）的Spielgeloberfl BEAR表面（4）是在形成RISCH，其中，从所述镜面背对所述Spiegeloberfl BEAR表面（4）侧（3）也SPH BEAR形成驱动一个优选实施例的导航使用货币形式SPH BEAR，并且其中所述两个球体都有不同的中心（M，M'）。然而，镜面（3）也可以设计成使得背向镜面（4）的一侧是平面的。镜面（3）可以组合形成分面镜（1），然后将镜面（3）放置在共同的支撑元件（2）上。

7. 发明申请

WO2008019860A1 OPTISCHES SYSTEM FÜR DIE HALBLEITERLITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：光学系统，半导体光刻
公开(公告)号：WO2008019860A1
公开(公告)日：2008-02-21
申请号：PCT/EP2007/007256
申请日：2007-08-16
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MELZER, Frank , KWAN, Yim Bun, Patrick , XALTER, Stefan , FIOLKA, Damian
发明人： MELZER, Frank , KWAN, Yim Bun, Patrick , XALTER, Stefan , FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/14
CPC分类号： G02B7/14 , G02B7/023 , G02B7/102 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/70825
摘要： Die Erfindung betrifft ein optisches System für die Halbleiterlithographie mit mehreren optischen Komponenten (1), wobei zur Einstellung verschiedener Betriebskonfigurationen des optischen Systems mindestens eine Stelleinheit (2) zur Positionierung mindestens einer optischen Komponente (1) an definierten Positionen entlang einer optischen Achse des optischen Systems vorhanden ist, wobei die Stelleinheit (2) an mindestens einem Angriffspunkt (3) an der optischen Komponente (1) angreift. Dabei ist die Stelleinheit (2) in der Weise ausgebildet, dass zwischen zwei verschiedenen Betriebskonfigurationen innerhalb eines Zeitraums von kleiner als 500 ms, vorzugsweise kleiner als 50ms gewechselt werden kann.
摘要翻译：本发明涉及一种光学系统，其具有多个光学部件（1）的半导体光刻，用于设置光学系统的不同操作配置的至少一个控制单元（2），用于定位的至少一个光学元件（1）在沿着光学系统的光轴限定的位置存在时，其中所述控制单元（2）接合的至少一个接合点（3）的光学元件（1）上。在这种情况下，控制单元（2）被形成为可以在两种不同的操作配置之间的时间少于500毫秒，优选地小于50毫秒以内被切换的方式。

8. 发明申请

WO2005006081A1 FACET MIRRORS AND A METHOD FOR PRODUCING MIRROR FACETS 审中-公开
标题翻译： FACET MIRRORS和一种生产MIRROR FACETS的方法
公开(公告)号：WO2005006081A1
公开(公告)日：2005-01-20
申请号：PCT/EP2004/007478
申请日：2004-07-08
申请人： CARL-ZEISS SMT AG , SEIFERT, Andreas , MELZER, Frank , HEISLER, Andreas , MANN, Heinz , ROMEYN, Gerhard
发明人： SEIFERT, Andreas , MELZER, Frank , HEISLER, Andreas , MANN, Heinz , ROMEYN, Gerhard
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B5/08 , G02B5/09 , G03F7/70141 , G03F7/702 , G03F7/70825 , G21K2201/06
摘要： In a method for producing mirror facets (1) for facet mirrors in illuminating devices or projection exposure machines in microlithography by using radiation in the extreme ultraviolet range, individual tilting angles are recessed into an optical surface (2) of the mirror facet (1), preferably a surface with tilting angles relative to a reference surface of the mirror facet (1) is machined into or on said optical surface.
摘要翻译：在通过使用在极紫外线范围内的辐射的微照相中的用于在照明装置或投影曝光机中制造用于刻面镜的镜面（1）的方法中，各个倾斜角度凹入到镜面（1）的光学表面（2）中，优选地，相对于镜面（1）的参考表面具有倾斜角度的表面被加工到所述光学表面中或所述光学表面上。

9. 发明申请

WO2003014833A3 KOLLEKTOR MIT BEFESTIGUNGSEINRICHTUNGEN ZUM BEFESTIGEN VON SPIEGELSCHALEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2003014833A3
公开(公告)日：2003-02-20
申请号：PCT/EP2002/008193
申请日：2002-07-23
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SINGER, Wolfgang , EGLE, Wilhelm , WEISS, Markus , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Joachim , WANGLER, Johannes , MELZER, Frank
发明人： SINGER, Wolfgang , EGLE, Wilhelm , WEISS, Markus , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Joachim , WANGLER, Johannes , MELZER, Frank
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Die Erfindung betrifft einen Kollektor für eine Projektionsbelichtungsanlage, die in einem Scan-Modus entlang einer Scanrichtung mit einer Wellenlänge ≤ 193 nm, bevorzugt ≤ 126 nm, besonders bevorzugt EUV-Wellenlängen betrieben wird, wobei der Kollektor Licht einer Lichtquelle objektseitig aufnimmt und einen Bereich in einer bildseitigen Ebene, die von einem lokalen Koordinatensystem aufgespannt wird, wobei die y-Richtung des lokalen Koordinatensystems parallel zur Scanrichtung und die x-Richtung senkrecht zur Scanrichtung ist, ausleuchtet, wobei der Kollektor aufweist: eine Vielzahl von rotationssymmetrischen Spiegelschalen, umfassend jeweils wenigstens ein erstes Spiegelsegment, umfassend eine erste optische Fläche, wobei die Spiegelschalen um eine gemeinsame Rotationsachse ineinander angeordnet sind; Befestigungseinrichtungen zum Befestigen der Vielzahl von rotationssymmetrischen Spiegelschalen, und die Befestigungseinrichtungen Stützspeichen aufweisen, die sich in radialer Richtung der rotationssymmetrischen Spiegelschalen erstrecken. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass die Stützspeichen derart angeordnet sind, dass, wenn sie in die bildseitige auszuleuchtende Ebene projiziert werden, gegenüber der y-Richtung des lokalen Koordinatensystems in der bildseitigen Ebene geneigt sind.

10. 发明授权

EP1354325B1 KOLLEKTOR MIT UNGENUTZTEM BEREICH FÜR BELEUCHTUNGSSYSTEME MIT EINER WELLENLÄNGE KLEINER ODER GLEICH 193 nm. 有权
标题翻译：未使用的区域，且在波长小于或等于193nm的照明系统收集器。
公开(公告)号：EP1354325B1
公开(公告)日：2010-04-14
申请号：EP02722029.2
申请日：2002-01-23
申请人： Carl Zeiss SMT AG
发明人： SINGER, Wolfgang , EGLE, Wilhelm , WEISS, Markus , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Jochen , MELZER, Frank , WANGLER, Johannes
IPC分类号： G21K1/06
CPC分类号： G21K1/06 , B82Y10/00 , G02B5/09 , G02B17/006 , G02B19/0014 , G02B19/0019 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B19/0095 , G03F7/70108 , G03F7/70158 , G03F7/70166 , G03F7/70175 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70825 , G21K2201/065 , G21K2201/067
摘要： The invention relates to a collector for lighting systems having a wavelength ≤ 193 nm, preferably ≤ 126 nm, more preferably EUV wavelengths for receiving light from a light source via an aperture on the side of the object, and for illuminating a region on an image plane, comprising a plurality of rotationally symmetrical mirror shells respectively comprising at least one first mirror segment having one first optical surface,said mirror shells being arranged about a common axis of rotation and an annular aperture element of the aperture on the side of the object being associated with each mirror shell; a beginning and end point on a meridional plane are associated with the first optical surface, the meridional plane is a plane which includes the axis of rotation and the beginning point of the first optical surface on the meridional plane defines an outer edge beam and the endpoint of the first optical surface defines an inner edge beam, the inner and outer edge beams when rotated about the axis of rotation defining a brush discharge which is reflected on at least the first optical surface of the mirror shells and which runs through the collector from the aperture on the side of the object to the plane to be illuminated. The brush discharge defines a used area between at least two adjacent mirror shells. The invention is characterized in that the surface parameters and the position of the mirror shells are selected in such a way that at least one unused area is formed between at least two adjacent mirror shells.

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