专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2003067304A1 FACETTENSPIEGEL MIT MEHREREN SPIEGELFACETTEN 审中-公开
标题翻译：具有多面FACETS镜子镜子
公开(公告)号：WO2003067304A1
公开(公告)日：2003-08-14
申请号：PCT/EP2002/014748
申请日：2002-12-23
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HOLDERER, Hubert , WEISS, Markus , SINGER, Wolfgang , SEIFERT, Andreas , HEISLER, Andreas , MELZER, Frank , MANN, Heinz , FALTUS, Jürgen
发明人： HOLDERER, Hubert , WEISS, Markus , SINGER, Wolfgang , SEIFERT, Andreas , HEISLER, Andreas , MELZER, Frank , MANN, Heinz , FALTUS, Jürgen
IPC分类号： G02B7/182
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B5/09 , G02B7/1821 , G02B7/1824 , G02B7/198 , G02B26/0833 , G03F7/70108 , G03F7/70141 , G03F7/70175 , G03F7/702
摘要： Ein Facettenspiegel (10) mit mehreren Spiegelfacetten ( ) wird in Beleuchtungseinrichtungen (3) für Projektionsbelichtungsanlagen (1) in der Mikrolithographie, insbesondere in der EUV-Lithographie, eingesetzt. Jede der Spiegelfacetten (11) weist einen Kugelkörper (17) auf. Eine Spiegeloberfläche (12) ist in einer Ausnehmung (18) des Kugelkörpers (17) angeordnet. Die der Spiegeloberfläche (12) abgewandte Seite des Kugelkörpers (17) ist in einer Lagereinrichtung (15) gelagert. Bei einer Vorrichtung zur Justage eines derartigen Facettenspiegels (10) ist an jeder der Spiegelfacetten (11) auf der der Spiegeloberfläche (12) abgewandten Seite des Kugelkörpers (17) ein Hebelelement (23) angeordnet. An dem Hebelelement (23) greifen in einem dem Kugelkörper (17) abgewandten Bereich Stellmittel (27) an, durch welche eine Bewegung des Kugelkörpers (17) um seinem Mittelpunkt erzielbar ist.
摘要翻译：具有多个镜面的（）A分面镜（10）中的照明装置（3），用于投射曝光设备（1），在微光刻所使用的，特别是在EUV光刻中使用。每个镜面（11）的具有球形主体（17）。反射镜表面（12）被布置在所述球状体（17）的凹部（18）。从球形本体（17）背向反射镜表面（12）侧安装在轴承装置（15）。在这样的分面镜（10）上的每个所述反射镜表面的相反侧的镜面（11）的调整装置（12），所述球状体（17）的侧上配置有杠杆部件（23）。在杠杆部件（23）接合在球形本体（17）背向区域设定装置（27），通过该球状体（17）的运动，可以实现到其中心的一个。

2. 发明申请

WO2003050586A3 SPIEGELFACETTE UND FACETTENSPIEGEL 审中-公开
公开(公告)号：WO2003050586A3
公开(公告)日：2003-06-19
申请号：PCT/EP2002/012792
申请日：2002-11-15
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SINGER, Wolfgang , WEISS, Markus , SEIFERT, Andreas , MELZER, Frank , MANN, Heinz , HEISLER, Andreas , HOLDERER, Hubert
发明人： SINGER, Wolfgang , WEISS, Markus , SEIFERT, Andreas , MELZER, Frank , MANN, Heinz , HEISLER, Andreas , HOLDERER, Hubert
IPC分类号： G02B7/182
摘要： Eine Spiegelfacette (3) für einen Facettenspiegel (1) weist eine Speigeloberfläche (4) auf. Die Spielgeloberfläche (4) der Spiegelfacette (3) ist in einer bevorzugten Ausführungsform sphärisch ausgebildet, wobei die der Spiegeloberfläche (4) abgewandte Seite der Spiegelfacette (3) ebenfalls sphärisch ausgebildet ist, und wobei die beiden Sphären verschiedene Mittelpunkte (M, M') aufweisen. Die Spiegelfacette (3) kann jedoch auch so ausgebildet sein, dass die der Spiegeloberfläche (4) abgewandte Seite plan ausgebildet ist. Die Spiegelfacetten (3) sind zu einem Facettenspiegel (1) zusammenfassbar, wobei die Spiegelfacetten (3) dann auf ein gemeinsames Trägerelement (2) aufgesetzt sind.

3. 发明申请

WO2003050586A2 SPIEGELFACETTE UND FACETTENSPIEGEL 审中-公开
标题翻译：镜子面和镜子镜子
公开(公告)号：WO2003050586A2
公开(公告)日：2003-06-19
申请号：PCT/EP2002/012792
申请日：2002-11-15
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SINGER, Wolfgang , WEISS, Markus , SEIFERT, Andreas , MELZER, Frank , MANN, Heinz , HEISLER, Andreas , HOLDERER, Hubert
发明人： SINGER, Wolfgang , WEISS, Markus , SEIFERT, Andreas , MELZER, Frank , MANN, Heinz , HEISLER, Andreas , HOLDERER, Hubert
IPC分类号： G02B7/182
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B5/09 , G02B7/1821 , G02B7/1824 , G02B7/198 , G02B26/0833 , G02B26/085 , G03F7/70141 , G03F7/70175 , G03F7/702
摘要： Eine Spiegelfacette (3) für einen Facettenspiegel (1) weist eine Speigeloberfläche (4) auf. Die Spielgeloberfläche (4) der Spiegelfacette (3) ist in einer bevorzugten Ausführungsform sphärisch ausgebildet, wobei die der Spiegeloberfläche (4) abgewandte Seite der Spiegelfacette (3) ebenfalls sphärisch ausgebildet ist, und wobei die beiden Sphären verschiedene Mittelpunkte (M, M') aufweisen. Die Spiegelfacette (3) kann jedoch auch so ausgebildet sein, dass die der Spiegeloberfläche (4) abgewandte Seite plan ausgebildet ist. Die Spiegelfacetten (3) sind zu einem Facettenspiegel (1) zusammenfassbar, wobei die Spiegelfacetten (3) dann auf ein gemeinsames Trägerelement (2) aufgesetzt sind.
摘要翻译：用于分面镜（1）的镜面（3）具有插口表面（4）。的镜面（3）的Spielgeloberfl BEAR表面（4）是在形成RISCH，其中，从所述镜面背对所述Spiegeloberfl BEAR表面（4）侧（3）也SPH BEAR形成驱动一个优选实施例的导航使用货币形式SPH BEAR，并且其中所述两个球体都有不同的中心（M，M'）。然而，镜面（3）也可以设计成使得背向镜面（4）的一侧是平面的。镜面（3）可以组合形成分面镜（1），然后将镜面（3）放置在共同的支撑元件（2）上。

4. 发明申请

WO2005006081A1 FACET MIRRORS AND A METHOD FOR PRODUCING MIRROR FACETS 审中-公开
标题翻译： FACET MIRRORS和一种生产MIRROR FACETS的方法
公开(公告)号：WO2005006081A1
公开(公告)日：2005-01-20
申请号：PCT/EP2004/007478
申请日：2004-07-08
申请人： CARL-ZEISS SMT AG , SEIFERT, Andreas , MELZER, Frank , HEISLER, Andreas , MANN, Heinz , ROMEYN, Gerhard
发明人： SEIFERT, Andreas , MELZER, Frank , HEISLER, Andreas , MANN, Heinz , ROMEYN, Gerhard
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B5/08 , G02B5/09 , G03F7/70141 , G03F7/702 , G03F7/70825 , G21K2201/06
摘要： In a method for producing mirror facets (1) for facet mirrors in illuminating devices or projection exposure machines in microlithography by using radiation in the extreme ultraviolet range, individual tilting angles are recessed into an optical surface (2) of the mirror facet (1), preferably a surface with tilting angles relative to a reference surface of the mirror facet (1) is machined into or on said optical surface.
摘要翻译：在通过使用在极紫外线范围内的辐射的微照相中的用于在照明装置或投影曝光机中制造用于刻面镜的镜面（1）的方法中，各个倾斜角度凹入到镜面（1）的光学表面（2）中，优选地，相对于镜面（1）的参考表面具有倾斜角度的表面被加工到所述光学表面中或所述光学表面上。

5. 发明申请

WO2003040796A1 TILTING MIRROR 审中-公开
标题翻译：倾斜镜
公开(公告)号：WO2003040796A1
公开(公告)日：2003-05-15
申请号：PCT/EP2002/011773
申请日：2002-10-22
申请人： CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG , SINGER, Wolfgang , WEISS, Markus , SEIFERT, Andreas , MELZER, Frank , MANN, Heinz
发明人： SINGER, Wolfgang , WEISS, Markus , SEIFERT, Andreas , MELZER, Frank , MANN, Heinz
IPC分类号： G02B7/182
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B5/09 , G02B7/1821 , G02B7/1824 , G02B26/0833 , G03F7/70141 , G03F7/70175 , G03F7/702
摘要： A tilting mirror, in particular as mirror facet (2) for a facet mirror (1) comprising a plurality of these tilting mirrors (2), is provided with a mirror surface (5) and a bearing device. The mirror surface (5) is constructed as the surface in a recess (4) in a spherical member (3), the spherical member (3) being mounted in the bearing device.
摘要翻译：倾斜镜，特别是作为包括多个这些倾斜镜（2）的小平面镜（1）的镜面（2），设置有镜面（5）和轴承装置。镜面（5）被构造为球形构件（3）中的凹部（4）中的表面，球形构件（3）安装在轴承装置中。

6. 发明申请

WO2004034146A2 BELEUCHTUNGSSYSTEM MIT EINER VORRICHTUNG ZUR EINSTELLUNG DER LICHTINTENSITÄT 审中-公开
标题翻译：与设备用于设置光强照明系统
公开(公告)号：WO2004034146A2
公开(公告)日：2004-04-22
申请号：PCT/EP2003/009370
申请日：2003-08-23
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SINGER, Wolfgang , ANTONI, Martin , MELZER, Frank , WANGLER, Johannes , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Joachim , MAUL, Manfred , WEISS, Markus
发明人： SINGER, Wolfgang , ANTONI, Martin , MELZER, Frank , WANGLER, Johannes , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Joachim , MAUL, Manfred , WEISS, Markus
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/7085
摘要： Die Erfindung betrifft ein Beleuchtungssystem für die Mikrolithographie mit Wellenlängen ≤ 157 nm, insbesondere für die EUV-Lithographie zur Ausleuchtung einer Objektebene umfassend eine Strahlungsquelle, die ein Bündel von Lichtstrahlen zur Verfügung stellt, wobei das Bündel von Lichtstrahlen das Beleuchtungssystem in einem Strahlengang in einer Richtung von der Strahlungsquelle zur Objektebene durchläuft und eine Lichtintensität aufweist; einer ersten optischen Komponente, die mindestens ein erstes optisches Element mit einer Vielzahl von Rasterelementen umfasst, wobei das erste optische Element im Strahlengang zwischen der Strahlungsquelle und der Objektebene angeordnet ist; dadurch gekennzeichnet, dass eine Vorrichtung zur Einstellung der Lichtintensität für Wellenlängen ≤ 157 nm vorgesehen ist, die im Strahlengang von der Strahlungsquelle zur Objektebene zwischen der Strahlungsquelle und dem ersten optischen Element angeordnet ist.
摘要翻译：本发明涉及的照明系统用于与波长微光刻<= 157纳米，尤其用于EUV光刻用于照明物平面，其包括辐射源，其提供的光线的光束是可用的，其中光束的束，在所涉及的光路中的照明系统穿过辐射源到物体面并具有光强度的方向; 一个第一光学部件，其至少包括具有多个格子体，其中，所述第一光学元件被布置在所述辐射源和所述物平面之间的光路中的第一光学元件; 其特征在于，一个装置用于调整波长的光强度<157纳米设置=设置在从辐射源到辐射源和所述第一光学元件之间的物体面的光束路径。

7. 发明申请

WO2003014833A3 KOLLEKTOR MIT BEFESTIGUNGSEINRICHTUNGEN ZUM BEFESTIGEN VON SPIEGELSCHALEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2003014833A3
公开(公告)日：2003-02-20
申请号：PCT/EP2002/008193
申请日：2002-07-23
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SINGER, Wolfgang , EGLE, Wilhelm , WEISS, Markus , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Joachim , WANGLER, Johannes , MELZER, Frank
发明人： SINGER, Wolfgang , EGLE, Wilhelm , WEISS, Markus , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Joachim , WANGLER, Johannes , MELZER, Frank
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Die Erfindung betrifft einen Kollektor für eine Projektionsbelichtungsanlage, die in einem Scan-Modus entlang einer Scanrichtung mit einer Wellenlänge ≤ 193 nm, bevorzugt ≤ 126 nm, besonders bevorzugt EUV-Wellenlängen betrieben wird, wobei der Kollektor Licht einer Lichtquelle objektseitig aufnimmt und einen Bereich in einer bildseitigen Ebene, die von einem lokalen Koordinatensystem aufgespannt wird, wobei die y-Richtung des lokalen Koordinatensystems parallel zur Scanrichtung und die x-Richtung senkrecht zur Scanrichtung ist, ausleuchtet, wobei der Kollektor aufweist: eine Vielzahl von rotationssymmetrischen Spiegelschalen, umfassend jeweils wenigstens ein erstes Spiegelsegment, umfassend eine erste optische Fläche, wobei die Spiegelschalen um eine gemeinsame Rotationsachse ineinander angeordnet sind; Befestigungseinrichtungen zum Befestigen der Vielzahl von rotationssymmetrischen Spiegelschalen, und die Befestigungseinrichtungen Stützspeichen aufweisen, die sich in radialer Richtung der rotationssymmetrischen Spiegelschalen erstrecken. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass die Stützspeichen derart angeordnet sind, dass, wenn sie in die bildseitige auszuleuchtende Ebene projiziert werden, gegenüber der y-Richtung des lokalen Koordinatensystems in der bildseitigen Ebene geneigt sind.

8. 发明申请

WO2003093902A3 BELEUCHTUNGSSYSTEM, INSBESONDERE FÜR DIE EUV-LITHOGRAPHIE 审中-公开
公开(公告)号：WO2003093902A3
公开(公告)日：2003-11-13
申请号：PCT/EP2003/003616
申请日：2003-04-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MELZER, Frank , SINGER, Wolfgang
发明人： MELZER, Frank , SINGER, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Ein Beleuchtungssystem, insbesondere für die EUV-Lithographie mit einem Projektionsobjektiv zu Herstellung von Halbleiter-elementen für Wellenlängen ≤ 193 nm ist mit einer Lichtquelle (1), mit einer Objektebene (12), mit einer Austrittspupille (15) und mit einem ersten optischen Element (5) mit ersten Rasterelementen (6) zur Erzeugung von Lichtkanälen und mit einem zweiten optischen Element (7) mit zweiten Rasterelementen (8) versehen. Jedem Lichtkanal, der von einem der ersten Rasterelemente (6) des ersten optischen Elementes (5) ausgebildet wird, ist ein Rasterelement (8) des zweiten optischen Elementes (7) zugeordnet. Die Rasterelemente (6) des ersten optischen Elementes (5) und des zweiten optischen Elementes (7) können derart ausgestaltet oder angeordnet werden, dass sie für jeden Lichtkanal einen durchgehenden Strahlverlauf von der Lichtquelle 1 bis zur Objektebene (12) ergibt. Die ersten Rasterelemente (6) des ersten optischen Elementes (5) sind zur Änderung eines Kippes winkelverstellbar. Die zweiten Rasterelemente (8) des zweiten optischen Elementes (7) können einzeln und unabhängig voneinander im Ort und/oder im Winkel verstellt werden, um durch Verschieben und/oder Kippen der ersten und zweiten Rasterelemente (8) eine andere Zuordnung der ersten Rasterelemente (6) des ersten optischen Elementes (5) zu den zweiten Rasterelementen (8) des zweiten optischen Elementes (7) zu realisieren.

9. 发明申请

WO2003014833A2 KOLLEKTOR MIT BEFESTIGUNGSEINRICHTUNGEN ZUM BEFESTIGEN VON SPIEGELSCHALEN 审中-公开
标题翻译：具有固定装置的收集器用于固定镜罩
公开(公告)号：WO2003014833A2
公开(公告)日：2003-02-20
申请号：PCT/EP2002/008193
申请日：2002-07-23
申请人： CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG , SINGER, Wolfgang , EGLE, Wilhelm , WEISS, Markus , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Joachim , WANGLER, Johannes , MELZER, Frank
发明人： SINGER, Wolfgang , EGLE, Wilhelm , WEISS, Markus , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Joachim , WANGLER, Johannes , MELZER, Frank
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： B82Y10/00 , G02B5/09 , G02B7/182 , G02B17/006 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B19/0095 , G03F7/70158 , G03F7/70166 , G03F7/70175 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70358 , G03F7/70825 , G21K1/06 , G21K5/04
摘要： Die Erfindung betrifft einen Kollektor für eine Projektionsbelichtungsanlage, die in einem Scan-Modus entlang einer Scanrichtung mit einer Wellenlänge ≤ 193 nm, bevorzugt ≤ 126 nm, besonders bevorzugt EUV-Wellenlängen betrieben wird, wobei der Kollektor Licht einer Lichtquelle objektseitig aufnimmt und einen Bereich in einer bildseitigen Ebene, die von einem lokalen Koordinatensystem aufgespannt wird, wobei die y-Richtung des lokalen Koordinatensystems parallel zur Scanrichtung und die x-Richtung senkrecht zur Scanrichtung ist, ausleuchtet, wobei der Kollektor aufweist: eine Vielzahl von rotationssymmetrischen Spiegelschalen, umfassend jeweils wenigstens ein erstes Spiegelsegment, umfassend eine erste optische Fläche, wobei die Spiegelschalen um eine gemeinsame Rotationsachse ineinander angeordnet sind; Befestigungseinrichtungen zum Befestigen der Vielzahl von rotationssymmetrischen Spiegelschalen, und die Befestigungseinrichtungen Stützspeichen aufweisen, die sich in radialer Richtung der rotationssymmetrischen Spiegelschalen erstrecken. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass die Stützspeichen derart angeordnet sind, dass, wenn sie in die bildseitige auszuleuchtende Ebene projiziert werden, gegenüber der y-Richtung des lokalen Koordinatensystems in der bildseitigen Ebene geneigt sind.
摘要翻译：本发明涉及一种用于投射曝光设备的集光器，其以沿着扫描方向以≤193nm，优选地≤126nm的波长的扫描模式操作，特别优选地EUV波长是，其中，所述收集器从在物体侧的光源和一个区域，其中由本地跨越坐标系统的图像侧平面占用光，局部的y方向的坐标系平行于该扫描方向和垂直于扫描方向的X方向，照亮，其特征在于所述收集器包括：多个旋转对称的镜壳，每个镜壳包括至少第一镜部分，所述第一镜部分包括第一光学表面，其中所述镜壳围绕共同的旋转轴线彼此布置; 用于固定多个旋转对称镜壳的紧固装置，并且紧固装置具有在旋转对称镜壳的径向方向上延伸的辐条。本发明的特征在于，辐条被布置成当投影到要被照明的像侧平面中时，它们朝向图像侧平面中的局部坐标系的y方向倾斜

10. 发明申请

WO2002065482A3 KOLLEKTOR MIT UNGENUTZTEM BEREICH FÜR BELEUCHTUNGSSYSTEME MIT EINER WELLENLÄNGE ≤ 193 nm 审中-公开
公开(公告)号：WO2002065482A3
公开(公告)日：2002-08-22
申请号：PCT/EP2002/000608
申请日：2002-01-23
申请人： CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG , SINGER, Wolfgang , EGLE, Wilhelm , WEISS, Markus , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Jochen , MELZER, Frank , WANGLER, Johannes
发明人： SINGER, Wolfgang , EGLE, Wilhelm , WEISS, Markus , HAINZ, Joachim , WIETZORREK, Jochen , MELZER, Frank , WANGLER, Johannes
IPC分类号： G21K1/06
摘要： Die Erfindung betrifft einen Kollektor für Beleuchtungssysteme mit einer Wellenlänge ≤ 193 nm, bevorzugt ≤ 126 nm, besonders bevorzugt EUV-Wellenlängen zur Aufnahme des Lichtes einer Lichtquelle über eine objektseitige Apertur und zur Ausleuchtung eines Bereiches in einer bildseitigen Ebene mit einer Vielzahl von rotationssymmetrischen Spiegelschalen, umfassend jeweils wenigstens ein erstes Spiegelsegment umfassend eine erste optische Fläche, wobei die Spiegelschalen um eine gemeinsame Rotationsachse ineinander angeordnet sind, und jeder Spiegelschale ein Ringaperturelement der objektseitigen Apertur zugeordnet ist, wobei der ersten optischen Fläche ein Anfangs- und ein Endpunkt in einer Meridonalebene zugeordnet ist, wobei die Merdionalebene eine Ebene ist, welche die Rotationsachse umfasst und der Anfangspunkt der ersten optischen Fläche in der Meridionalebene einen äusseren Randstrahl und der Endpunkt der ersten optischen Fläche in der Meridonalebene einen inneren Randstrahl definiert und innerer und äusserer Randstrahl rotiert um die Rotationsachse ein Lichtbüschel begrenzen, das mindestens an der ersten optischen Fläche der Spiegelschale reflektiert wird und den Kollktor von der objektseitigen Apertur zur auszuleuchtenden Ebene durchläuft, wobei das Lichtbüschel einen genutzten Bereich zwischen mindestens zwei benachbarten Spiegelschalen definiert. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass die Flächenparameter und die Position der Spiegelschalen derart gewählt werden, dass mindestens ein ungenutzter Bereich zwischen mindestens zwei benachbarten Spiegelschalen ausgebildet wird.

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式