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1. 发明申请

WO2009156038A1 ILLUMINATION OPTICAL UNIT FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：照明光学单元
公开(公告)号：WO2009156038A1
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：PCT/EP2009/003773
申请日：2009-05-27
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , TOTZECK, Michael , ENKISCH, Hartmut , MUELLENDER, Stephan
发明人： FIOLKA, Damian , TOTZECK, Michael , ENKISCH, Hartmut , MUELLENDER, Stephan
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/00
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/702 , G03F7/70566
摘要： An illumination optical unit for microlithography serves for illuminating an object field with illumination light. A first facet mirror (13) has a plurality of first facets (19). A second facet mirror (14) has a plurality of second facets (20). Facet pairs (19, 20) comprising respectively a facet of the first facet mirror and a facet of the second facet mirror predefine a plurality of illumination channels for illuminating the object field. At least some of the illumination channels have in each case an assigned polarization element for predefining an individual polarization state (x-Pol, y-Pol, xy-Pol, yx-Pol) of the illumination light guided in the respective illumination channel. This results in illumination of the object field which ensures a high structure resolution of a downstream imaging.
摘要翻译：用于微光刻的照明光学单元用于照明光照射物场。第一刻面镜（13）具有多个第一刻面（19）。第二刻面镜（14）具有多个第二刻面（20）。分别包括第一分面反射镜的小平面和第二面反射镜的小面的方形对（19,20）预先定义用于照亮对象场的多个照明通道。至少一些照明通道在每种情况下都具有分配的偏振元件，用于预定在各个照明通道中引导的照明光的单独偏振状态（x-Pol，y-Pol，xy-Pol，yx-Pol）。这导致对象场的照明，其确保下游成像的高结构分辨率。

2. 发明申请

WO2003077011A1 OPTICAL SYSTEM WITH BIREFRINGENT OPTICAL ELEMENTS 审中-公开
标题翻译：具有双重光学元件的光学系统
公开(公告)号：WO2003077011A1
公开(公告)日：2003-09-18
申请号：PCT/EP2002/012446
申请日：2002-11-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , DITTMAN, Olaf , TOTZECK, Michael , DIECKMANN, Nils , KÖHLER, Jess , GRUNER, Toralf , KRÄHMER, Daniel
发明人： FIOLKA, Damian , DITTMAN, Olaf , TOTZECK, Michael , DIECKMANN, Nils , KÖHLER, Jess , GRUNER, Toralf , KRÄHMER, Daniel
IPC分类号： G02B27/28
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B17/08 , G02B27/286 , G02B27/288 , G03F7/70075 , G03F7/70191 , G03F7/70241 , G03F7/70566 , G03F7/70966
摘要： Optical system (1) : with a first optical subsystem (3) comprising at least a first birefringent optical element (7), with a second optical subsystem (5) comprising at least a second birefringent optical element (9), wherein between the first optical subsystem and the second optical subsystem an optical retarding system (13) with at least a first optical retarding element (15) is arranged, which introduces a ratardation of one-half of a wavelength between two mutually orthogonal states of polarization.
摘要翻译：光学系统（1）：具有包括至少第一双折射光学元件（7）的第一光学子系统（3），其中第二光学子系统（5）包括至少第二双折射光学元件（9），其中在第一光学子系统和第二光学子系统，布置有至少具有第一光学延迟元件（15）的光学延迟系统（13），其引入在两个相互正交的极化状态之间的波长的一半的估计。

3. 发明申请

WO2008119794A1 OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR ILLUMINATION DEVICE OR PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：光学系统，特别是照明设备或投影微波投影曝光装置的目标
公开(公告)号：WO2008119794A1
公开(公告)日：2008-10-09
申请号：PCT/EP2008/053847
申请日：2008-03-31
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael , GRUNER, Toralf , FIOLKA, Damian
发明人： TOTZECK, Michael , GRUNER, Toralf , FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70566
摘要： The invention relates to an optical system, in particular an illumination device or a projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus, comprising a polarization compensator (100, 200, 300, 400, 800, 900), which has at least one polarization-modifying partial element (110-140, 210-240, 310-340, 410-440, 810-840, 910-940), and a manipulator (150, 250, 722, 851-854, 951a-954a, 951b-954b), by means of which the position of the at least one partial element can be altered, wherein, in the optical system, at least one operating mode (501-504) can be set in which the intensity, over a region which belongs to a plane perpendicular to the optical axis (OA) and which can be illuminated with light from said light source, does not exceed 20% of the maximum intensity in said plane, and wherein the manipulator (150, 250, 722, 851-854, 951a-954a, 951b-954b) is arranged in said region.
摘要翻译：本发明涉及光学系统，特别是微光刻投影曝光装置的照明装置或投影物镜，该光学装置或投影物镜包括极化补偿器（100,200,300,400,800,900），其具有至少一个偏振修正部分元件（110-140,210-240,310-340,410-440,810-840,910-940）和操纵器（150,250,722,851-854,951a-954a，951b-954b），借助于此可以改变至少一个部分元件的位置，其中在光学系统中，可以设置至少一个操作模式（501-504），其中强度在属于垂直于光轴（OA）的并且可以用来自所述光源的光照射的平面不超过所述平面中最大强度的20％，并且其中所述操纵器（150,250,722,851-854,951a -954a，951b-954b）布置在所述区域中。

4. 发明申请

WO2006131517A2 BELEUCHTUNGSEINRICHTUNG EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：点亮的微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2006131517A2
公开(公告)日：2006-12-14
申请号：PCT/EP2006/062929
申请日：2006-06-06
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , TOTZECK, Michael , SCHARNWEBER, Ralf , ZENKE, Jörg
发明人： FIOLKA, Damian , TOTZECK, Michael , SCHARNWEBER, Ralf , ZENKE, Jörg
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70566 , G03F7/70075
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, in welcher eine Vorzugsrichtung der Polarisation weitgehend oder vollständig eliminiert werden kann. Die Beleuchtungseinrichtung weist eine Lichtquelle (135), welche entlang einer Lichtausbreitungsrichtung sich ausbreitendes, im Wesentlichen linear polarisiertes Licht erzeugt, ein Lichtmischsystem (148), einen Depolarisator (10, 30, 40), welcher in Lichtausbreitungsrichtung vor dem Lichtmischsystem (148) angeordnet ist und in Verbindung mit dem Lichtmischsystem (148) in einer Beleuchtungsebene zumindest zum Teil eine effektive Depolarisation bewirkt, und eine Lambda/4-Platte (20), welche in der Lichtausbreitungsrichtung nach dem Depolarisator (10, 30, 40) angeordnet ist, auf.
摘要翻译：本发明涉及微光刻投射曝光设备的照明系统，其中偏振的优选方向可以是基本上或完全消除。该照明装置包括沿着光传播方向上传播的光源（135），产生大致线性偏振光，光混合系统（148），其在所述光混合系统的前面布置在光传播方向上的消偏振器（10，30，40）（148）和至少部分地导致有效的去极化结合在照明平面上的光混合系统（148），并且在该解偏光器的下游的光的传播方向的λ/ 4板（20）（10，30，40）布置在。

5. 发明申请

WO2008107025A1 ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置的照明系统
公开(公告)号：WO2008107025A1
公开(公告)日：2008-09-12
申请号：PCT/EP2007/060360
申请日：2007-10-01
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , MAUL, Manfred , SCHWAB, Markus , SEITZ, Wolfgang , DITTMANN, Olaf
发明人： FIOLKA, Damian , MAUL, Manfred , SCHWAB, Markus , SEITZ, Wolfgang , DITTMANN, Olaf
IPC分类号： G02B27/28 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B3/0056 , G02B5/1876 , G02B27/283 , G02B27/285 , G02B27/286 , G03F7/70566
摘要： The invention relates to an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprising a depolariser (10, 500-900) which in conjunction with a light mixing system disposed downstream in the light propagation direction at least partially causes effective depolarisation of polarised light impinging on the depolariser (10, 500-900) and a microlens array (20) which is arranged upstream of the light mixing system in the light propagation direction and in which a plurality of microlenses (20a, 20b,... ) are arranged with a periodicity, wherein the depolariser (10, 500-900) is such that a contribution afforded by interaction of the depolariser (10, 500-900) on the one hand with the periodicity of the microlens array (20) on the other hand, to a residual polarisation distribution occurring in a pupil plane (PP) arranged downstream of the microlens array (20) in the light propagation direction has a maximum degree of polarisation of not more than 5%.
摘要翻译：本发明涉及一种微光刻投影曝光装置的照明系统，其包括去极化器（10,500-900），其与在光传播方向上配置的下游的光混合系统相结合，至少部分地引起偏振光的入射极化去极化器（10,500-900）和微透镜阵列（20），其布置在光传播方向上的光混合系统的上游，并且其中多个微透镜（20a，20b，...）以周期性其中去极化剂（10,500-900）使得一方面由去极化剂（10,500-900）与微透镜阵列（20）的周期性相互作用提供的贡献另一方面在光传播方向上布置在微透镜阵列（20）下游的光瞳面（PP）中发生的残留极化分布具有不大于5％的最大极化度。

6. 发明申请

WO2008019860A1 OPTISCHES SYSTEM FÜR DIE HALBLEITERLITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：光学系统，半导体光刻
公开(公告)号：WO2008019860A1
公开(公告)日：2008-02-21
申请号：PCT/EP2007/007256
申请日：2007-08-16
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MELZER, Frank , KWAN, Yim Bun, Patrick , XALTER, Stefan , FIOLKA, Damian
发明人： MELZER, Frank , KWAN, Yim Bun, Patrick , XALTER, Stefan , FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/14
CPC分类号： G02B7/14 , G02B7/023 , G02B7/102 , G03F7/70108 , G03F7/70116 , G03F7/70825
摘要： Die Erfindung betrifft ein optisches System für die Halbleiterlithographie mit mehreren optischen Komponenten (1), wobei zur Einstellung verschiedener Betriebskonfigurationen des optischen Systems mindestens eine Stelleinheit (2) zur Positionierung mindestens einer optischen Komponente (1) an definierten Positionen entlang einer optischen Achse des optischen Systems vorhanden ist, wobei die Stelleinheit (2) an mindestens einem Angriffspunkt (3) an der optischen Komponente (1) angreift. Dabei ist die Stelleinheit (2) in der Weise ausgebildet, dass zwischen zwei verschiedenen Betriebskonfigurationen innerhalb eines Zeitraums von kleiner als 500 ms, vorzugsweise kleiner als 50ms gewechselt werden kann.
摘要翻译：本发明涉及一种光学系统，其具有多个光学部件（1）的半导体光刻，用于设置光学系统的不同操作配置的至少一个控制单元（2），用于定位的至少一个光学元件（1）在沿着光学系统的光轴限定的位置存在时，其中所述控制单元（2）接合的至少一个接合点（3）的光学元件（1）上。在这种情况下，控制单元（2）被形成为可以在两种不同的操作配置之间的时间少于500毫秒，优选地小于50毫秒以内被切换的方式。

7. 发明申请

WO2007039519A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR BEEINFLUSSUNG DER POLARISATIONSVERTEILUNG IN EINEM OPTISCHEN SYSTEM, INSBESONDERE IN EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：装置和方法用于影响偏振分布在光学系统中，尤其是在微光刻投射曝光设备
公开(公告)号：WO2007039519A1
公开(公告)日：2007-04-12
申请号：PCT/EP2006/066749
申请日：2006-09-26
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian
发明人： FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/30
CPC分类号： G02B27/286 , G03F7/70341 , G03F7/70566 , G03F7/70966
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Beeinflussung der Polarisationsverteilung in einem optischen System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage. Eine erfindungsgemäße Vorrichtung umfasst eine Mehrzahl von polarisationsbeeinflussenden optischen Elementen, welche derart angeordnet sind, dass sie in einer gemeinsamen Ebene unabhängig voneinander bewegbar angeordnet sind.
摘要翻译：本发明涉及一种装置和一种用于在微光刻投射曝光设备影响的光学系统的偏振分布，特别的方法。根据本发明的装置包括多个被布置成使得它们被布置在共同的平面可独立移动的偏振影响的光学元件。

8. 发明申请

WO2006058754A3 BEAM DELIVERY SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2006058754A3
公开(公告)日：2006-06-08
申请号：PCT/EP2005/012857
申请日：2005-12-01
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KUSS, Matthias , FIOLKA, Damian , REISINGER, Gerd , MAUL, Manfred , DAVYDENKO, Vladimir
发明人： KUSS, Matthias , FIOLKA, Damian , REISINGER, Gerd , MAUL, Manfred , DAVYDENKO, Vladimir
IPC分类号： G03F7/20
摘要： A beam delivery system (21) of a projection exposure system (1) comprises a laser (23) generating a beam (25) of laser light from a comprises a laser generating a beam of laser light from a plurality of longitudinal laser modes in a cavity, wherein light generated by a single longitudinal laser mode has an average line width λ lat, wherein the laser light of the beam has, at each of respective lateral positions of the beam, a second line width λ lat corresponding to lateral laser modes, and wherein the laser light of the beam has, when averaged over a whole cross section thereof, a line width λ b corresponding to plural lateral laser modes, and wherein λm lat b, and wherein an optical delay apparatus (27) disposed in the beam provides and optical path difference ,Δ1 wherein (I); wherein λ 0 is an average wavelength of the light of the first beam of laser light, and Δλ lat represents the second line width.

9. 发明申请

WO2005069081A3 POLARIZATION-MODULATING OPTICAL ELEMENT 审中-公开
公开(公告)号：WO2005069081A3
公开(公告)日：2005-07-28
申请号：PCT/EP2005/000320
申请日：2005-01-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , FIOLKA, Damian , DEGUENTHER, Markus
发明人： FIOLKA, Damian , DEGUENTHER, Markus
IPC分类号： G03F7/20
摘要： A polarization-modulating optical element (1) consisting of an optically active crystal material has a thickness profile where the thickness, as measured in th e direction of the optical axis, varies over the area of the optical element. The polarization-modulating optical element (1) has the effect that the plane of oscillation of a first linearly polarized light ray and the plane of oscillation of a second lin early polarized light ray are rotated, respectively, by a first angle of rotation and a second angle of rotation, with the first angle of rotation and the second angle of rotation being different from each other.

10. 发明申请

WO2005026843A2 ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHOGRAPHY PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION 审中-公开
标题翻译：微光投影曝光安装的照明系统
公开(公告)号：WO2005026843A2
公开(公告)日：2005-03-24
申请号：PCT/EP2004/010188
申请日：2004-09-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KÖHLER, Jess , WANGLER, Johannes , BROTSACK, Markus , SINGER, Wolfgang , FIOLKA, Damian , MAUL, Manfred
发明人： KÖHLER, Jess , WANGLER, Johannes , BROTSACK, Markus , SINGER, Wolfgang , FIOLKA, Damian , MAUL, Manfred
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70116 , G03F7/702
摘要： An illumination system for a microlithography projection exposure installation is used to illuminate an illumination field with the light from a primary light source (11). The illumination system has a light distribution device (25) which receives light from the primary light source and, from this light, produces a two-dimensional intensity distribution which can be set variably in a pupil-shaping surface (31) of the illumination system. The light distribution device has at least one optical modulation device (20) having a two-dimensional array of individual elements (21) that can be controlled individually in order to change the angular distribution of the light incident on the optical modulation device. The device permits the variable setting of extremely different illuminating modes without replacing optical components.
摘要翻译：用于微光刻投射曝光装置的照明系统用来用来自主光源（11）的光照射照明场。照明系统具有接收来自主光源的光并且从该光产生二维强度分布的光分布装置（25），该二维强度分布可以在照明系统的光瞳成形表面（31）中可变地设置。配光装置具有至少一个具有单独元件（21）的二维阵列的光学调制装置（20），其可以被单独控制以便改变入射在光学调制装置上的光的角度分布。该设备允许在不更换光学元件的情况下设置不同的照明模式。

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