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1. 发明申请

WO2005091051A1 BELEUCHTUNGSANORDNUNG 审中-公开
标题翻译：照明装置
公开(公告)号：WO2005091051A1
公开(公告)日：2005-09-29
申请号：PCT/EP2005/002199
申请日：2005-03-02
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , HOLLEMANN, Susanne , ERDMANN, Lars , DOBSCHAL, Hans-Jürgen , STEINER, Reinhard , ENGEL, Thomas
发明人： HOLLEMANN, Susanne , ERDMANN, Lars , DOBSCHAL, Hans-Jürgen , STEINER, Reinhard , ENGEL, Thomas
IPC分类号： G02B27/48
CPC分类号： G02B27/48
摘要： Es wird bereitgestellt eine Beleuchtungsanordnung mit einem Kohärenzminderer (1), der einem zugeführten kohärenten Strahlenbündel (12) unterschiedliche Phasenverschiebungen in Abhängigkeit von der Position im Strahlquerschnitt einprägt und als Beleuchtungsstrahlenbündel (13) abgibt, einer dem Kohärenzminderer (1) nachgeordneten Aufteilungseinrichtung (4), die eine erste Optik (5) mit einer Vielzahl von Optikelementen (10), die rasterartig angeordnet sind, aufweist und einer der Aufteilungseinrichtung (4) nachgeordneten Abbildungsoptik (7), wobei das Beleuchtungsstrahlenbündel (13) auf die Aufteilungseinrichtung (4) trifft, die das Beleuchtungsstrahlenbündel . (13) in eine Vielzahl von Strahlen (M1, M2., M3, M4, M5, M1', M2', M3', M4', M5') aufteilt, die von der Abbildungsoptik (7) zur Beleuchtung eines Objektfeldes (16) eingesetzt werden können, wobei die Aufteilungseinheit (4) eine zweite Optik (6) mit mindestens einem diffraktiven Element (11) und/oder einem doppelbrechenden Element (20) umfaßt, so daß ein Teilstrahl (S1, S2, S3, S4, S5) des Beleuchtungsstrahlenbündels (13), der durch das zumindest eine Element (20) und die erste Optik (5) läuft, in mindestens zwei Strahlen (M1 - M5; Ml' - M5') aufgeteilt ist.
摘要翻译：将会写入提供具有相干性减速器的照明装置（1）（12）印象取决于在光束截面的位置的供给相干辐射束不同的相移，并作为照明光束（13），一个相干减速器（1）下游的分束装置（4），的第一光学系统（5），其具有多个光学元件（10），其被布置网格状的方式，以及具有该分割单元中的一个（4）下游的成像光学器件（7），其中所述照明光束（13）到划分装置（4）为真，则照明光束。（13）分割为多个束（M1，M2，M3，M4，M5，M1 'M2' ，M3'，M4' ，M5“）被用于照明物场（7）分割，通过成像光学系统（16 ）可以被使用，其中，所述分割单元（4）包括第二光学系统（6）具有至少一个衍射元件（11）和/或一个双折射元件（20），使得部分光束（S1，S2，S3，S4，S5 ）照明光束（13）通过至少（一个元件20）和所述第一光学系统（5）的运行（在至少两个波束M1 - M5; ML“ - M5”）被分割。

2. 发明申请

WO2005062084A1 ELEMENT ZUR SPEKTRALSELEKTIVEN STRAHLFÜHRUNG IN OPTISCHEN GERÄTEN 审中-公开
标题翻译：元用于光学设备光谱BEAM领导
公开(公告)号：WO2005062084A1
公开(公告)日：2005-07-07
申请号：PCT/EP2004/014316
申请日：2004-12-16
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , STEINER, Reinhard , DOBSCHAL, Hans-Jürgen , ENGEL, Thomas
发明人： STEINER, Reinhard , DOBSCHAL, Hans-Jürgen , ENGEL, Thomas
IPC分类号： G02B5/18
CPC分类号： G02B27/145 , G01J3/10 , G01J3/18 , G01J2003/1282 , G02B5/203 , G02B27/1086
摘要： Das Element zur spektralselektiven Strahlführung dient der Ausfilterung breitbandiger bis zu extrem schmalbandiger Verteilungen aus den Emissionsspektren von Beleuchtungssystemen. Das erfindungsgemäße Element besteht aus einem zumindest teilweise transparenten Trägersubstrat mit ein oder zwei spektralselektiven Schichten, bei dem eine erste spektralselektive Schicht als diffraktive Beugungsstruktur und die mögliche zweite spektralselektive Schicht als Spiegelschicht oder ebenfalls als diffraktive Beugungsstruktur ausgeführt sind, wobei die diffraktive Beugungsstruktur(en) jeweils für mindestens ein schmalbandiges Spektrum und die Spiegelschicht für mindestens ein weiteres Spektrum reflektiv wirken und die aus dem Emissionsspektrum selektierten Spektren in die gleiche Richtung reflektiert werden. Durch Kombination der Elemente sind die unterschiedlichsten spektralen Verteilungen selektierbar. Derartige Anordnungen sind außer in Mikroskopen, auch in Projektionssystemen, in Beleuchtungssystemen für Fluoreszenzlicht-Anwendungen und Photometrie, als dichroitische Strahlteilersysteme und bei Umkehrung der Strahlrichtung bei Systemen zur Überlagerung von Strahlen oder aber auch in Systemen zur Spektralanalyse anwendbar.
摘要翻译：用于光谱选择性束引导元件用于过滤宽带照明系统的发射光谱的极窄的频带分布。根据本发明的元件由与一个或两个光谱选择性层中每种情况下至少部分透明的载体衬底，其中，第一光谱选择性层作为衍射图案和可能的第二光谱选择层作为反射层，或者也可以作为衍射图案被执行，其中，所述衍射图案（多个）的用于至少一个窄带谱和用于至少另一范围行为反射性，并从发射光谱的光谱选择的镜层，反映在相同的方向。通过组合的各种各样的光谱分布的元件是可选择的。这种安排，除了在显微镜，同样在投影系统，在用于荧光灯的应用程序和测光，作为二向色分束器系统的照明系统和在逆转在光束的叠加系统的光束的方向，或者在用于光谱适用的系统。

3. 发明申请

WO2005045503A1 IN LAGE, FORM UND/ODER DEN OPTISCHEN EIGENSCHAFTEN VERÄNDERBARE BLENDEN- UND/ODER FILTERANORDNUNG FÜR OPTISCHE GERÄTE, INSBESONDERE MIKROSKOPE 审中-公开
标题翻译：在适当的位置，以形成和/或用于光设备的可变光学性能光圈和/或过滤器装置，特别是MICROSCOPE
公开(公告)号：WO2005045503A1
公开(公告)日：2005-05-19
申请号：PCT/EP2004/012369
申请日：2004-11-02
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , BÖHM, Klaus , SCHÄFFER, Peter , HARNISCH, Wolfgang , ENGEL, Thomas , ZIBOLD, Axel , GEH, Bernd
发明人： BÖHM, Klaus , SCHÄFFER, Peter , HARNISCH, Wolfgang , ENGEL, Thomas , ZIBOLD, Axel , GEH, Bernd
IPC分类号： G02B26/00
CPC分类号： G03F7/701 , G02B5/005 , G02B21/24 , G02B26/007
摘要： Die vorliegende Lösung betrifft die Verwendung zweidimensionaler, aus einzeln ansteuerbaren Elementen bestehender, Arrays zur Erzeugung von Blenden in Strahlengängen optischer Geräte. Bei der in Form, Lage und/oder den optischen Eigenschaften veränderbare Blenden- und/oder Filteranordnung für optische Geräte, wird mindestens ein zweidimensionales, aus einzeln ansteuerbaren Elementen bestehendes Array zur Erzeugung von Blenden und/oder Filtern im optischen Abbildungs- und/oder Beleuchtungsstrahlengang angeordnet und mit einer Steuereinheit zur Ansteuerung der einzelnen Elemente verbunden. Mit Hilfe der vorgeschlagenen technischen Lösung können durch elektronische Ansteuerung Blenden und/oder Filter sehr schnell bezüglich ihrer Geometrie, ihrer optischen Eigenschaften und/oder ihrer Lage verändert werden. Diese Veränderungen können auch während des Mess- und Justiervorganges „online" als optischer Feinabgleich vorgenommen werden. Außerdem kann durch den Einsatz dieser Systeme die aufwendige und zeitintensive Fertigung von Blenden mit geometrischen Formen entfallen.
摘要翻译：本解决方案涉及使用的二维的，在光学器件的光束路径生成孔径现有的独立可控元件阵列。当在形状，位置和/或光学特性可变孔径和/或过滤器装置用于光学装置中，至少一个二维的，由独立可控元件阵列的用于在光学成像和/或照明光束路径产生隔膜和/或过滤器布置并连接到控制单元，用于控制各个元件。随着提出的技术方案隔膜和/或过滤器的帮助可以在其几何形状，其光学性能和/或通过电子控制自己的位置方面非常迅速地改变。这些变化可以被制成在测量和调整处理“在线”的光学微调。此外，复杂的和耗时的生产隔膜可与几何形状通过使用这些系统分配。

4. 发明申请

WO2004111600A1 VERFAHREN ZUR BESTIMMUNG DER ABBILDUNGSGÜTE EINES OPTISCHEN ABBILDUNGSSYSTEMS 审中-公开
标题翻译：方法确定光学图像系统的图像质量
公开(公告)号：WO2004111600A1
公开(公告)日：2004-12-23
申请号：PCT/EP2004/006302
申请日：2004-06-11
申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , ENGEL, Thomas , GROSS, Herbert
发明人： ENGEL, Thomas , GROSS, Herbert
IPC分类号： G01M11/02
CPC分类号： G01M11/0257
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Bestimmung der Abbildungsgüte eines optischen Abbildungssystems sowie auf die Nutzung des erfindungsgemässen Verfahrens zur Ermittlung des Einflusses von Proben auf die Amplituden- und Phasenfrontverteilung des Beleuchtungslichts, von dem insbesondere die Amplitudenverteilung bekannt ist. Erfindungsgemäss ist vorgesehen: - Justierung der Baugruppen zueinander so, dass Abbildungen einer Probe auf die Detektionseinrichtung möglich sind, - Aufnehmen mehrerer Abbildungen der Probe aus verschiedenen Einstellebenen nahe der best-fokus-Ebene, Verbesserung der Bildqualität durch Bildbearbeitung, insbesondere zur Verringerung des Rauschens, zum Ausgleich lokaler Empfindlichkeitsunterschiede der Detektionseinrichtung und zur Zentrierung der Intensitätsschwerpunkte auf jeweils einen vorgegebenen Ort in den Abbildungen, - rechnerische Verknüpfung der ortsaufgelösten Bildinformationen, der auf das optische Abbildungssystem bezogenen Einstellwerte und Systemgrössen sowie von Informationen zur Probe mit dem Ziel der Ermittlung von Kennzahlen, die charakteristisch sind für die durch das Abbildungssystem verursachte Wellenfrontdeformation, und Ausgabe der Kennzahlen und Zuordnung zum Abbildungssystem zur Beschreibung der Abbildungsgüte.
摘要翻译：本发明涉及确定的成像光学系统的成像质量以及对使用本发明的方法来确定样品对振幅的影响，并逐步的照明光，其中的振幅分布特别已知的前面分布的方法。根据本发明，提供了： - 模块彼此，使得样品的图像在所述检测装置是可能的，调整的 - 从最佳聚焦平面附近不同调节平面，提高由图像处理的图像质量接收多个样品的图像，特别是减少噪声，以补偿局部差异在检测装置的灵敏度和居中的光强重心在每种情况下，在画面的规定的位置， - 计算在空间分辨的图像信息链接时，相关的光学成像系统设置，系统参数以及关于样品的信息与确定特征数的目的，其是引起由成像系统的波前畸变，并输出的指标和分配给成像系统用于描述图像质量特性。

5. 发明授权

EP1399771B1 EINRICHTUNG ZUR FLÄCHIGEN BELEUCHTUNG EINES OBJEKTFELDES 有权
标题翻译： DEVICE FOR物场的面照明
公开(公告)号：EP1399771B1
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：EP02747433.7
申请日：2002-06-26
申请人： Carl Zeiss SMS GmbH
发明人： ENGEL, Thomas , HARNISCH, Wolfgang , HEISE, Jürgen
IPC分类号： G02B21/06
CPC分类号： G02B21/06 , Y10S385/901
摘要： The invention relates to a device for flat illumination of an object field in an optical apparatus and to an optical apparatus having said device, said optical apparatus being, for example, microscopes, including microlithography simulation microscopes, wherein a flat illumination, i.e. extending over a singular object point, of the object to be examined is required. The device comprises a laser light source (8) and a fiber optic cable (9) having at least one optic fiber through which the light is guided from the laser light source (8) to the object field. The optic fiber is configured and designed in such a way that the intensity of the illumination light is increasingly homogenized in the cross section of the optical fiber during its course from the end on the incidence side to the end on the radiation side and the illumination light from the end on the radiation side of optical fiber is directed to the object (O) with substantially homogenous intensity distribution.

6. 发明授权

EP1446813B1 REFLEKTIVES ROENTGENMIKROSKOP ZUR UNTERSUCHUNG VON OBJEKTEN MIT WELLENLAENGEN = 100NM IN REFLEXION 有权
标题翻译：反光ROENTGENMIKROSKOP的对象与Wellenlaengen = 100NM反射调查
公开(公告)号：EP1446813B1
公开(公告)日：2010-11-10
申请号：EP03740130.4
申请日：2003-05-08
申请人： Carl Zeiss SMT AG , Carl Zeiss SMS GmbH
发明人： MANN, Hans-Jürgen , DINGER, Udo , ULRICH, Wilhelm , REINECKE, Wolfgang , ENGEL, Thomas , ZIBOLD, Axel , HARNISCH, Wolfgang , WEDOWSKI, Marco , PAUSCHINGER, Dieter
IPC分类号： G21K7/00 , G21K1/06
CPC分类号： G21K7/00 , B82Y10/00 , G21K1/062
摘要： The invention relates to a reflective X-ray microscope for examining an object on an object plane wherein the object is illuminated with radiation at a wavelength of

7. 发明公开

EP1680699A1 IN LAGE, FORM UND/ODER DEN OPTISCHEN EIGENSCHAFTEN VERÄNDERBARE BLENDEN- UND/ODER FILTERANORDNUNG FÜR OPTISCHE GERÄTE, INSBESONDERE MIKROSKOPE 审中-公开
标题翻译：在适当的位置，以形成和/或用于光设备的可变光学性能光圈和/或过滤器装置，特别是MICROSCOPE
公开(公告)号：EP1680699A1
公开(公告)日：2006-07-19
申请号：EP04797515.6
申请日：2004-11-02
申请人： Carl Zeiss SMS GmbH
发明人： BÖHM, Klaus , SCHÄFFER, Peter , HARNISCH, Wolfgang , ENGEL, Thomas , ZIBOLD, Axel , GEH, Bernd
IPC分类号： G02B26/00 , G02B5/00 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/701 , G02B5/005 , G02B21/24 , G02B26/007
摘要： The invention relates to the use of two-dimensional arrays comprising individually triggerable elements for creating diaphragms in beam paths of optical devices. At least one two-dimensional array comprising individually triggerable elements for creating diaphragms and/or filters is disposed in the optical imaging and/or illuminating beam path of the diaphragm array and/or filter array for optical devices, the shape, position, and/or optical properties of which can be modified, and is connected to a control unit for triggering the individual elements. The inventive technical solution allows diaphragms and/or filters to be modified very quickly regarding the geometry, optical properties, and/or position thereof by electronically triggering the same. Said modifications can also be done online as an optical fine-tuning step during the measurement and adjustment process. Furthermore, using said systems makes it possible to dispense with the expensive and time-consuming production of diaphragms having geometrical shapes.

8. 发明授权

EP1631809B1 VERFAHREN ZUR BESTIMMUNG DER ABBILDUNGSGÜTE EINES OPTISCHEN ABBILDUNGSSYSTEMS 有权
标题翻译： VERFAHREN ZUR BESTIMMUNG DERABBILDUNGSGÜTEEINES OPTISCHEN ABBILDUNGSSYSTEMS
公开(公告)号：EP1631809B1
公开(公告)日：2006-11-29
申请号：EP04739798.9
申请日：2004-06-11
申请人： Carl Zeiss SMS GmbH
发明人： ENGEL, Thomas , GROSS, Herbert
IPC分类号： G01M11/02
CPC分类号： G01M11/0257
摘要： The invention relates to a method for determining the image quality of an optical imaging system and to the use of the inventive method for determining the influence of samples on the amplitude distribution and on the phase front distribution of the illuminating light of which the amplitude distribution, in particular, is known. The invention comprises the following steps: adjusting the subassemblies relative to one another whereby making it possible to project images of a sample onto the detection device; recording a number of images of the sample from different planes of reference near the best focus plane; improving the image quality by image processing, particularly by reducing the noise in order to compare local sensitivity differences of the detection device and to center the intensity concentration points at a predetermined location in the images; computational linking of locally resolved image information, of the set values and system values related to the optical imaging system, and of information concerning the sample with the aim of determining characteristic numbers that are characteristic of the wave front deformation caused by the imaging system, and; outputting the characteristic numbers and assigning them to the imaging system in order to describe the image quality.
摘要翻译：本发明涉及一种用于确定光学成像系统的图像质量的方法以及本发明的方法用于确定样本对幅度分布和照明光的相位正面分布的影响，其幅度分布，特别是已知的。本发明包括以下步骤：相对于彼此调整子组件，从而使得能够将样本的图像投影到检测装置上; 在最佳聚焦平面附近从不同参考平面记录样本的多个图像; 通过图像处理改善图像质量，特别是通过降低噪声以比较检测装置的局部灵敏度差异并将强度集中点居中在图像中的预定位置处; 计算局部解析的图像信息的计算链接，与光学成像系统有关的设定值和系统值以及与样本有关的信息的计算链接，目的是确定成像系统引起的波阵面变形的特征数字，以及 ; 输出特征数并将它们分配给成像系统以描述图像质量。

9. 发明公开

EP1631809A1 VERFAHREN ZUR BESTIMMUNG DER ABBILDUNGSGÜTE EINES OPTISCHEN ABBILDUNGSSYSTEMS 有权
标题翻译：方法确定光学图像系统的图像质量
公开(公告)号：EP1631809A1
公开(公告)日：2006-03-08
申请号：EP04739798.9
申请日：2004-06-11
申请人： Carl Zeiss SMS GmbH
发明人： ENGEL, Thomas , GROSS, Herbert
IPC分类号： G01M11/02
CPC分类号： G01M11/0257
摘要： The invention relates to a method for determining the image quality of an optical imaging system and to the use of the inventive method for determining the influence of samples on the amplitude distribution and on the phase front distribution of the illuminating light of which the amplitude distribution, in particular, is known. The invention comprises the following steps: adjusting the subassemblies relative to one another whereby making it possible to project images of a sample onto the detection device; recording a number of images of the sample from different planes of reference near the best focus plane; improving the image quality by image processing, particularly by reducing the noise in order to compare local sensitivity differences of the detection device and to center the intensity concentration points at a predetermined location in the images; computational linking of locally resolved image information, of the set values and system values related to the optical imaging system, and of information concerning the sample with the aim of determining characteristic numbers that are characteristic of the wave front deformation caused by the imaging system, and; outputting the characteristic numbers and assigning them to the imaging system in order to describe the image quality.

10. 发明公开

EP1529245A1 ANORDNUNG ZUR HERSTELLUNG VON PHOTOMASKEN 审中-公开
标题翻译：安排光掩模生产
公开(公告)号：EP1529245A1
公开(公告)日：2005-05-11
申请号：EP03762666.0
申请日：2003-07-09
申请人： Carl Zeiss SMS GmbH , Carl Zeiss NTS GmbH
发明人： ENGEL, Thomas , HARNISCH, Wolfgang , HOFFROGGE, Peter , ZIBOLD, Axel
IPC分类号： G03F1/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F1/72 , G03F1/84
摘要： The invention relates to an arrangement and method for the production of photomasks, whereby at least one defect control system is connected to at least one repair system via a stationary data link or an on-line link and the defect control system and the repair system are connected to each other data-wise in such a way that results obtained on one of the systems are directly available for reprocessing on the other system. The defect control system transmits defects, which are determined, to the repair system via a data link for data exchange. Said repair system controls the repair process according to the defects thus determined. An AIMS is advantageously provided as a defect control system, in addition to an electron beam system for defect control.

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