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热词
    • 3. 发明申请
    • 박막 필름의 권취 장치 및 이를 이용한 권취 방법
    • 用于薄膜的卷绕装置和使用其的卷绕方法
    • WO2014204201A1
    • 2014-12-24
    • PCT/KR2014/005353
    • 2014-06-18
    • 전검배김광선박래근이현우안계운김영태
    • 전검배김광선박래근이현우안계운김영태
    • B65H77/00B65H18/08
    • B65H23/1888B65H2513/11B65H2513/20B65H2801/61B65H2220/02
    • 본 발명은 박막 필름의 권취 장치 및 이를 이용한 권취 방법을 개시한다. 본 발명에 따른 박막 필름의 권취 장치는, 박막 필름을 권취하는 권취 장치에 있어서, 박막 필름이 권출되는 권출부; 상기 권출부로부터 권출된 박막 필름에 권취 장력을 인가할 수 있도록 회전 구동되어 박막 필름을 권취하는 권취부; 상기 권출부와 상기 권취부 사이에 위치하고, 상기 박막 필름과 접촉 회전되어 박막 필름의 이동을 가이드하는 적어도 하나 이상의 가이드 롤러; 및 상기 권출부와 상기 권취부 사이에 위치하고, 상기 가이드 롤러에 의해 감쇄되는 박막 필름의 장력을 보상하기 위한 장력 보상부;를 포함하되, 상기 권출부로부터 박막 필름이 권출되는 구간에는 권출 장력이 인가되고, 상기 권취부에 박막 필름이 권취되는 구간에는 권취 장력이 인가되며, 상기 권출 장력이 상기 권취 장력보다 같거나 더 큰 것을 특징으로 한다.
    • 公开了一种用于薄膜的卷绕装置和使用该卷绕装置的卷绕方法。 根据本发明的用于薄膜的卷绕装置包括:未缠绕薄膜的非卷绕部分; 绕组部分旋转以对从未绕组部分未缠绕的薄膜施加卷绕张力,以便绕其周围缠绕薄膜; 设置在所述非卷绕部和所述卷绕部之间的至少一个引导辊,以在与所述薄膜接触的同时引导所述薄膜的移动; 以及拉伸力补偿部,其设置在所述非卷绕部和所述卷绕部之间,以补偿由所述引导辊衰减的所述薄膜的拉伸力,其中,对所述薄膜为薄膜的部分施加非卷绕张力 从非卷绕部分未缠绕,将卷绕的张力施加到薄膜卷绕在卷绕部分上的部分,并且非卷绕张力等于或大于卷绕张力。
    • 4. 发明申请
    • 방향족 술폰산 및 우레탄 관능성 레올로지 조정제를 포함하는, 내부침투성이 우수한 양이온 전착도료용 수지 조성물
    • 一种用于耐穿透性优良的阳离子电沉积涂料的树脂组合物,其包含芳族磺酸和氨基甲酸酯官能流变改性剂
    • WO2010038943A2
    • 2010-04-08
    • PCT/KR2009/004615
    • 2009-08-19
    • 주식회사 케이씨씨김재효오일석김광선정하택송윤석
    • 김재효오일석김광선정하택송윤석
    • C09D5/44C09D163/00C09D7/12
    • C09D5/4453C08G59/182C09D5/4438C09D5/448C09D163/00
    • 본 발명은 방향족 술폰산 및 우레탄 관능성 레올로지 조정제를 포함하는, 내부침투성이 우수한 양이온 전착도료용 수지 조성물 및 그의 용도에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, (1) 폴리설파이드 화합물과 에폭시 화합물의 반응 생성물 및 아민 화합물과 에폭시 화합물의 반응 생성물을 함유하는 베이스 수지; (2) 페놀 화합물, 지방족 또는 방향족 아민 화합물 및 포르말린의 유사-만니히 반응 생성물로부터 유래된 변성 폴리올 화합물과 차단된 폴리이소시아네이트 화합물과의 반응 생성물을 함유하는 경화제 수지; (3) 방향족 술폰산; 및 (4) 우레탄 관능기를 갖는 레올로지 조정제;를 포함하는, 수분산 안정성과 내부침투성이 뛰어나고, 우수한 항박테리아성을 나타내며, 도막의 유연성, 방청성 및 도장성이 우수할 뿐만 아니라 우수한 모서리 내식성을 발휘하여 자동차 및 공업용 하도로서 특히 적합한 양이온 전착도료용 수지 조성물 및 이를 포함하는 양이온 전착도료에 관한 것이다.
    • 本发明涉及一种用于内渗透优异的阳离子电沉积涂料的树脂组合物,其包含芳族磺酸和氨基甲酸酯官能流变改性剂,更具体地说, 含有硫化合物和环氧化合物的反应产物和胺化合物和环氧化合物的反应产物的基础树脂; 仅含有改性的多元醇化合物的反应产物,并从曼尼希反应产物(2),酚化合物,脂肪族或芳香族胺化合物等福尔马林衍生的多异氰酸酯封端的化合物的固化剂树脂; (3)芳族磺酸; 上缘的耐腐​​蚀性以及良好的,分散稳定性和含有内部的渗透性,显示出优异的抗菌,优良的柔韧性,耐锈性和涂膜的涂布性;以及(4)具有氨基甲酸酯官能团的流变控制剂 本发明涉及阳离子电沉积涂料用树脂组合物和含有其的阳离子电沉积涂料组合物,
    • 6. 发明公开
    • 전해 금속박의 권취 장치 및 이를 이용한 권취 방법
    • 用于卷绕薄膜的装置及其方法
    • KR1020140146929A
    • 2014-12-29
    • KR1020130069916
    • 2013-06-18
    • 전검배김광선박래근이현우안계운김영태
    • 전검배김광선박래근이현우안계운김영태
    • B65H77/00B65H18/08
    • B65H23/1888B65H2513/11B65H2513/20B65H2801/61B65H2220/02
    • An apparatus for winding a thin film and a winding method using the same are disclosed. According to the present invention, the apparatus for winding a thin film includes: an unwinding unit from which a thin film is unwound; a winding unit configured to wind the thin film by being rotated to apply winding tension to the thin film unwound from the unwinding unit; at least one guide roller positioned between the unwinding unit and the winding unit, and configured to guide a movement of the thin film by being rotated with the thin film in a state of being in contact therewith; and a tension compensation unit positioned between the unwinding unit and the winding unit, and configured to compensate the tension of the thin film attenuated by the at least one guide roller, wherein an unwinding tension is applied to a section where the thin film is unwound from the unwinding unit, a winding tension is applied to a section where the thin film is wound around the winding unit, and the unwinding tension is greater than or equal to the winding tension.
    • 公开了一种用于卷绕薄膜的装置和使用该薄膜的卷绕方法。 根据本发明,用于卷绕薄膜的设备包括:解开单元,薄膜从该展开单元展开; 卷绕单元,其构造成通过旋转来卷绕薄膜,以将缠绕张力施加到从退绕单元退绕的薄膜; 至少一个引导辊定位在退绕单元和卷绕单元之间,并且构造成通过与薄膜接触而与薄膜一起旋转来引导薄膜的运动; 以及张力补偿单元,其定位在退绕单元和卷绕单元之间,并且被配置为补偿由至少一个引导辊衰减的薄膜的张力,其中退绕张力施加到薄膜展开的部分 展开单元,卷绕张力施加到薄膜卷绕在卷绕单元上的部分,并且展开张力大于或等于卷绕张力。
    • 7. 发明授权
    • 노광장치
    • 曝光装置
    • KR100823180B1
    • 2008-04-18
    • KR1020070026692
    • 2007-03-19
    • 주식회사 코디엠이우영김광선김종원
    • 강흥석이우영김광선김종원
    • H01L21/027
    • G03F7/70191G03F7/70316
    • An exposure apparatus is provided to adjust the quantity of light of a lamp by using an inexpensive light quantity adjusting part having a plurality of light transmission holes without using an expensive ND(neutral density) filter. A reflection plate collects the light generated from a lamp to reflect the collected light downward, installed in a chamber. A light quantity adjusting part(210) adjusts the quantity of light transferred from the reflection plate, installed under the reflection plate and capable of being changed. A pair of first and second reflection mirrors reflect the light having passed through the light quantity adjusting part in both lateral directions. A pair of lenses collects the light transferred as a dispersed state through the second reflection mirror to transfer the collected light to the edge of the substrate. A sub chamber can guarantee the path of parallel light transferred to the first reflection mirror, connected to the lower part of the chamber, and the light quantity adjusting part can be installed in the sub chamber.
    • 提供一种曝光装置,通过使用具有多个透光孔的便宜的光量调节部件,而不使用昂贵的ND(中性密度)滤光片来调节灯的光量。 反射板收集从灯产生的光以将收集的光向下反射,安装在室中。 光量调节部(210)调整从安装在反射板的下方的能够变化的反射板传递的光量。 一对第一反射镜和第二反射镜在两个横向上反射通过光量调节部分的光。 一对透镜通过第二反射镜收集作为分散状态传送的光,以将收集的光转移到基板的边缘。 子室可以保证传送到第一反射镜的平行光的路径,连接到室的下部,并且光量调节部可以安装在子室中。
    • 8. 发明授权
    • 데이터베이스 시스템 구축 방법
    • 一种构建数据库系统的方法
    • KR100721611B1
    • 2007-05-25
    • KR1020050073083
    • 2005-08-10
    • 김두용조현찬김광선조중근
    • 김두용조현찬김광선조중근
    • G06F17/40
    • 본 발명은 데이터베이스 구축방법에 관한 것이다. 다수의 공정으로 이루어진 시스템에서 시스템의 특정 공정이 변할 경우에도 해당 공정의 중요한 속성(ATTRIBUTE)들인 속성 A1, A2, …, An을 효과적으로 데이터베이스화 하여, 일관성 있고 논리적인 데이터베이스를 구축하는 방법에 있어서, 데이터베이스를 구축하고자 하는 시스템의 보편적인 주요 특징들을 다수의 엔티티(entity) ENTITY_1, ENTITY_2, …, ENTITY_M로 설정하는 단계; 상기 설정 뒤 ENTITY_1에 대해 다수의 하위 개념의 엔티티들을 ENTITY_1의 속성들에 해당하는 ENTITY_11, ENTITY_12, …, ENTITY_1L로 설정하는 단계; 및 상기 ENTITY_1의 하위 엔티티의 설정 뒤 ENTITY_1에 대해서와 같은 방식으로 ENTITY_2부터 ENTITY_M까지 차례로 각각의 하위 개념의 특성들을 다수개의 속성들로 설정하여 각각 별도의 데이터베이스에 저장하는 단계를 포함하여 이루어지는 것이 본 발명에 따른 데이터베이스 시스템 구축방법의 특징이다.
      본 발명을 반도체 약액 공급 장치와 관련된 공정간의 상호 관계를 이용한 최적화된 데이터베이스를 구축하는 경우를 포함하여 여러가지 분야에 적용할 수 있다. 그리고 다수의 공정으로 이루어진 시스템에서 어떤 공정의 변화가 일어나도 종래에 비해 데이터베이스 관리가 용이하고, 각 공정마다 분산되어 있는 데이터베이스를 쉽게 통합할 수 있다. 그리고 중복된 데이터에 의한 메모리 낭비를 최소화할 수 있으며, 데이터의 일관성을 유지하기가 용이하고, 효과적인 데이터 처리가 가능 하여 데이터 처리 속도를 향상시킬 수 있다. 아울러 본 발명에 의하면 효율적 데이터베이스 구성을 통해 전체 시스템 성능 향상에 기여할 수 있으며, 또한, 본 발명에 의해 구축된 데이터베이스는 약액 공급 제어 장치의 실시간 모니터링 시스템을 구축하는데 필요한 데이터베이스로 활용될 수 있다. 또한 본 발명에 의해 구축된 데이터베이스 시스템은 공정 상호간에 유기적인 관계(relation)를 효율적으로 갖고 있는 것이 특징이다.
      반도체, 데이터베이스, 약액, 웨이퍼, 엔티티, 세정, 제조공정.
    • 9. 实用新型
    • 자외선 살균수단을 구비한 기화식 가습기
    • 具有紫外线杀菌装置的蒸发式加湿器
    • KR200369042Y1
    • 2004-12-04
    • KR2020040023129
    • 2004-08-13
    • 김광선
    • 김광선
    • F24F6/12
    • F24F6/02F24F2006/006
    • 본 고안은 자외선 살균수단을 구비한 기화식 가습기에 관한 것이며; 그 목적은 기화식 가습기의 가습여재(21)에서 공기가 배출되는 방향쪽으로 다수 개의 자외선 살균램프(10)를 설치하여 여과후 배출되는 공기와 가습여재(21)에 습윤된 물과 가습여재(21) 자체를 살균함으로써, 살균된 깨끗한 공기를 공급할 수 있는 자외선 살균수단을 구비한 기화식 가습기를 제공함에 있다.
      상기 목적달성을 위한 본 고안은 공조기에 설치되는 기화식 가습기에 있어서, 상기 기화식 가습기(1)의 공기가 배출되는 방향쪽에 소정간격 이격되어 설치되는 램프홀더(12)에 램프베이스(11)가 일측에만 형성된 직립하는 자외선 살균램프(10)가 소정간격 이격되어 다수 개가 설치되어, 상기 가습여재(21)에서 여과후 배출되는 공기와 가습여재(21)로 흡수된 물과 가습여재(21) 본체를 살균하여 깨끗한 공기를 공급하는 것을 특징으로 하는 자외선 살균수단을 구비한 기화식 가습기에 관한 것을 그 기술적 요지로 한다.
    • 10. 发明公开
    • 멀티 플립칩의 언더필 인캡슐레이션 공정용 몰드
    • 多芯片芯片封装过程的模具
    • KR1020030048743A
    • 2003-06-25
    • KR1020010078746
    • 2001-12-13
    • 서화일한세진김광선
    • 서화일김광선한세진
    • H01L21/56
    • B29C45/34H01L21/565H01L24/97H01L2224/16225
    • PURPOSE: A mold for an underfill encapsulation process of a multi flip-chip is provided to be capable of simultaneously carrying out the encapsulation process at the flip-chips, and previously preventing the damage of the flip-chips due to the generation of voids and direct contact by forming cavities having a predetermined size. CONSTITUTION: A plurality of cavities(310) having an opening portion opposite to a substrate, are formed for holding semiconductor chips when carrying out an encapsulation process, respectively. A plurality of encapsulant inflow ports(320) are formed at one sides of the cavities for guiding encapsulant into the cavities, respectively. A plurality of encapsulant outflow ports(340) are formed at the other sides of the cavities for exhausting the encapsulant and air from the cavities, respectively. The maximum distance length between the semiconductor chip and the walls of the cavity is limited according to the long and short length of the semiconductor chip, and the interval between the rear surface of the semiconductor chip and the substrate.
    • 目的:提供一种用于多倒装芯片的底部填充封装工艺的模具,以能够在倒装芯片上同时执行封装工艺,并且以前防止由于空隙的产生而导致的倒装芯片的损坏, 通过形成具有预定尺寸的空腔直接接触。 构成:分别形成具有与基板相对的开口部分的多个空腔(310),用于在进行封装工艺时保持半导体芯片。 多个密封剂流入端口(320)形成在空腔的一侧,分别用于将密封剂引导到空腔中。 多个密封剂流出口(340)形成在空腔的另一侧,用于分别从空腔排出密封剂和空气。 根据半导体芯片的长和短长度以及半导体芯片的背面与衬底之间的间隔,限制了半导体芯片与空腔壁之间的最大距离长度。