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热词
    • 1. 发明公开
    • 대향 타겟식 스퍼터 장비의 타겟 효율 향상용 음극 모듈
    • 面向目标的目标组件改进的CATHODE模块
    • KR1020100132144A
    • 2010-12-17
    • KR1020090050808
    • 2009-06-09
    • 임유승김상모금민종김경환
    • 임유승김상모금민종김경환
    • C23C14/35
    • PURPOSE: A cathode module for enhancing the target efficiency of an opposite target type of sputter equipment is provided to raise the cathode falling energy of a particle and to enable high-speed sputtering since particles on a target can uniformly cathode-fall on the front of the target. CONSTITUTION: A sputter gun consists of a first yoke plate(4), a second yoke plate and a plurality of magnets(10). One or both sides of the first yoke plate are open. The yoke plates are arranged on the center of the magnet at regular intervals. The magnets consist of upper and lower parts. The upper and lower parts of a polygon shape have different magnetic poles. Each magnet has a trapezoid shape. The yoke plate and a yoke post are formed in a T-shape. A pair of sputter guns are arranged to face each other.
    • 目的:提供一种用于提高相对目标类型的溅射设备的目标效率的阴极模块,以提高颗粒的阴极下落能量,并且能够进行高速溅射,因为靶上的颗粒可以均匀地阴极落在 目标。 构成:溅射枪由第一轭板(4),第二轭板和多个磁体(10)组成。 第一轭板的一侧或两侧是敞开的。 轭板以规则的间隔布置在磁体的中心。 磁铁由上部和下部组成。 多边形的上部和下部具有不同的磁极。 每个磁体都有梯形。 轭板和轭架形成为T形。 一对溅射枪被布置为面对彼此。
    • 3. 发明专利
    • KR102241767B1 - Manufacturing method of powdered soybean milk
    • KR102241767B1
    • 2021-04-16
    • KR1020190032681A
    • 2019-03-22
    • 김경환
    • 김경환
    • A23C11/10A23L5/00A23L11/00A23P10/22
    • A23C11/103A23L11/07A23L5/57A23P10/22A23V2002/00A23V2300/10A23V2300/24A23V2300/31
    • 본 발명은 분말 두유 제조방법에 관한 것으로, 대두의 껍질부터 배아까지 전체를 사용하여 제조되고 합성첨가제가 들어가지 않으며 대부분의 두유를 만드는 수많은 공정을 최소화시켜 한 대의 반유동층 로스터를 통해 가열, 증숙, 건조의 과정을 모두 진행시키는 기술을 접목시킨 분말 두유와, 동시에 별도의 살균과정을 거치지 않고 고온으로 가열건조를 통해 유통기한을 대폭 연장할 수 있도록 분말화된 분말 두유 제조방법에 관한 것이다.
      본 발명의 일실시 예에 따른 분말 두유 제조방법은 대두(soybean)를 선별하고 세척하는 준비단계; 상기 준비단계에서 세척된 대두를 탈피하지 않는 상태로 반유동층 로스터에 투입하여 밀폐시키되, 상기 반유동층 로스터가 220 ~ 250℃로 가열되고 80 ~ 90 rpm의 속도로 유지되게 하는 밀폐단계; 상기 반유동층 로스터를 계속 가열하여 상기 대두에 남아있는 수분이 상기 반유동층 로스터 내부에서 증기가 되어 상기 대두를 30 ~ 40분간 증숙시키는 증숙단계; 상기 대두를 5 ~ 10분간 상기 반유동층 로스터를 가열하지 않고 자연스럽게 온도를 떨어트리면서 100 ~ 110 rpm으로 속도를 높여 상기 반유동층 로스터를 개방하며 상기 대두의 수분을 증발시켜 상기 대두의 수분함유율이 2 ~ 7%가 될 때까지 건조하는 건조단계; 상기 대두를 냉풍장치로 옮겨 담아 열을 식히는 감온단계; 및 상기 대두를 건식 분쇄장치에 투입시켜 미립분쇄하여 분말 두유로 제조하는 미립분쇄단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
    • 6. 发明专利
    • KR102234938B1 - Cutting material protection device for cutting machine
    • KR102234938B1
    • 2021-03-31
    • KR1020200142211A
    • 2020-10-29
    • 김경환
    • 김경환
    • B26D7/02B26D1/08
    • B26D7/02B26D1/08
    • 본 발명은 재단 후에도 재단물을 가지런한 상태를 유지할 수 있으므로 부수적인 후작업과 그에 따르는 비용과 시간을 대폭 절감할 수 있고, 재단 과정에서 발생할 수 있는 안전사고를 미연에 방지할 수 있고 혹여 일어날 수 있는 오작동의 여지를 배제할 수 있도록 한 것으로서;
      프레임 상부에 재단물을 가지런하게 정리하여 유지하기 위한 가드를 가지는 재단테이블과; 상기 재단테이블의 전방 양측에 세워지는 나이프가이드에 설치되는 작동수단에 의하여 정리된 재단물의 선측부를 재단하는 나이프와; 상기 나이프의 후방에 설치되어 작동수단에 의하여 승강하면서 나이프가 재단하고자 하는 재단물의 선측이 유동하지 않록 잡아주는 승강기를 포함하고; 상기 나이프에 의하여 재단되는 재단물이 흐트러지거나 무너지는 것을 방지하기 위한 재단기용 재단물 보호장치를 구성함에 있어서;
      상기 재단물 보호장치는, 나이프 전방에 위치하여 나이프에 의하여 재단되는 재단물의 선측 전방부를 지지하는 수직벽과; 상기 수직벽의 상측에 구비되어 재단물의 상부를 유지하기 위한 수평벽을 포함하는 보호바디와; 상기 수직벽 또는 수평벽의 외부에 취급 용이성을 제공하도록 고정하는 손잡이를 더 포함하는 것이 특징이다.
    • 8. 发明公开
    • 대향타겟식 스퍼터링법을 이용한 고배향성 박막 제작법
    • 使用针对目标类型的溅射工艺形成高导磁薄膜的方法
    • KR1020040004742A
    • 2004-01-14
    • KR1020020039079
    • 2002-07-05
    • 김경환금민종박원효
    • 김경환금민종박원효
    • H01L21/203
    • PURPOSE: A method for forming a high oriented thin film using an opposite target type sputtering process is provided to be capable of preventing the damage of the thin film due to the impact of grains against a substrate and solving the difficulties caused by a thin film depositing process. CONSTITUTION: A pair of targets are opposite to each other. While flowing Ar gas into a chamber, a local discharge phenomenon is generated between the targets and a shield ring by applying negative DC(Direct Current) voltage to the targets. At this time, the local discharge phenomenon promotes the ionization of the Ar gas for generating plasma between the targets. Preferably, a heater is used for controlling the temperature of a substrate.
    • 目的:提供一种使用相反靶型溅射工艺形成高取向薄膜的方法,以能够防止由于晶粒对基片的冲击而导致的薄膜的损坏,并且解决了由薄膜沉积引起的困难 处理。 构成:一对目标彼此相对。 在将Ar气流入室内时,通过对目标施加负DC(直流)电压,在目标和屏蔽环之间产生局部放电现象。 此时,局部放电现象促进用于在靶之间产生等离子体的Ar气体的电离。 优选地,加热器用于控制基板的温度。
    • 9. 发明公开
    • AIN 압전박막의 제작기술
    • 使用目标溅射方法制备氮化铝压电薄膜的制造方法
    • KR1020040110042A
    • 2004-12-29
    • KR1020030040423
    • 2003-06-20
    • 김경환김건희금민종
    • 김경환
    • H01L41/08
    • PURPOSE: A manufacturing method of an AlN(Aluminum Nitride) piezoelectric film is provided to improve a characteristic of the AlN piezoelectric film by using a facing target sputtering method. CONSTITUTION: An AIN piezoelectric film is a third or fourth group nitride semiconductor having a wurzite hexagonal structure. Two targets face each other. A gas is introduced to a chamber in an Ar and an N2 atmosphere. When a direct potential is applied to the targets, a local discharge is formed between the targets and a shield ring. Ionization between the gases is accelerated to form plasma in a discharge state.
    • 目的:提供一种AlN(氮化铝)压电膜的制造方法,以通过使用面对靶溅射法来改善AlN压电膜的特性。 构成:AIN压电膜是具有堰形六边形结构的第三或第四组氮化物半导体。 两个目标彼此相对。 将气体引入Ar和N 2气氛中的室。 当对目标施加直接电位时,在靶和屏蔽环之间形成局部放电。 加速气体之间的电离以在排出状态下形成等离子体。
    • 10. 发明申请
    • 디지털 사이니지에서 디스플레이될 디스플레이 컨텐츠 레이어 편집 방법과 상기 방법을 수행할 수 있는 장치들
    • 用于编辑显示在数字信号中的显示内容层的方法和用于执行该方法的装置
    • WO2011149141A1
    • 2011-12-01
    • PCT/KR2010/003858
    • 2010-06-16
    • 한국컴퓨터 주식회사김경환
    • 김경환
    • G06Q50/00G06F17/00
    • G06F9/451
    • 디지털 사이니지에서 디스플레이될 디스플레이 컨텐츠 레이어 편집 방법이 개시된다. 상기 디지털 사이니지에서 디스플레이될 디스플레이 컨텐츠 레이어 편집 방법은 디스플레이 관리모듈이 복수의 디스플레이 영역들을 포함하는 디스플레이 윈도우를 디스플레이 하는 단계; 레이어 편집 모듈이 사용자 입력 장치를 통하여 입력되며 상기 디스플레이 윈도우에 추가될 추가 디스플레이 영역의 이름과 추가 디스플레이 영역의 좌표를 수신하는 단계; 및 상기 레이어 편집 모듈이 상기 디스플레이 윈도우 위에 수신된 추가 디스플레이 영역의 좌표에 상응하는 상기 추가 디스플레이 영역을 오버랩시키고, 오버랩된 추가 디스플레이 영역에 상기 추가 디스플레이 영역의 이름과 상기 추가 디스플레이 영역의 좌표를 디스플레이하는 단계를 포함한다.
    • 本发明涉及用于编辑要在数字标牌中显示的显示内容层的方法。 用于编辑要在数字标牌中显示的显示内容层的方法包括以下步骤:用显示管理模块显示包括多个显示区域的显示窗口; 通过用户输入单元接收添加到显示窗口的附加显示区域的名称和坐标,并使用层编辑模块; 与显示窗口上的所接收的附加显示区域的坐标相对应的附加显示区域与层编辑模块重叠,并且在重叠的附加显示区域中显示附加显示区域的名称和坐标。