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1. 发明授权

KR101174767B1 금속배선 식각용액을 이용한 액정표시장치의 제조방법 有权
标题翻译：使用金属层的蚀刻剂制造液晶显示装置的方法
公开(公告)号：KR101174767B1
公开(公告)日：2012-08-17
申请号：KR1020050020107
申请日：2005-03-10
申请人： 엘지디스플레이 주식회사 , 솔브레인 주식회사
发明人： 백귀종 , 이태형 , 조규철 , 채기성 , 권오남 , 황용섭
IPC分类号： C09K13/08
摘要： 본발명은구리/몰리브데늄(합금)막으로구성된금속배선을식각하기위한금속배선식각용액을이용한액정표시장치의제조방법을제공하는데그 목적이있는것으로, 이와같은목적을달성하기위한본 발명의금속배선식각용액은조성물총 중량을기준으로, 12 내지 35 중량%의과산화수소, 0.5 내지 5 중량 %의황산염, 0.5 내지 5 중량%의인산염, 0.001 내지 0.5 중량%의조성물에플르오르이온을제공할수 있는불화물, 0.1 내지 5 중량%의수용성고리형아민화합물, 0.1 내지 5 중량%의킬레이트제및 전체조성물총 중량이 100 중량%가되도록하는탈이온수를포함하는것을특징으로한다.

2. 发明公开

KR1020030058789A 구리 또는 구리/티타늄 식각액 有权
标题翻译：铜或铜/锡蚀刻溶液
公开(公告)号：KR1020030058789A
公开(公告)日：2003-07-07
申请号：KR1020010089324
申请日：2001-12-31
申请人： 솔브레인 주식회사 , 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 조규철 , 채기성 , 황용섭 , 권오남 , 이경묵 , 백귀종 , 이태형
IPC分类号： G02F1/13
CPC分类号： H01L21/32134 , C23F1/18 , C23F1/26 , Y10S436/80
摘要： PURPOSE: A copper or copper/titanium etching solution is provided to realize taper etching of a metal layer and uniform patterns of the etching, thereby preventing defective bonding of the metal layer with other constructing layers. CONSTITUTION: An etching solution wetly etches a copper single layer or copper/titanium double layers which are gate, source and drain electrodes in a lump. The etching solution contains 3-7wt% of Oxone, 0.1-0.5 wt% of hydrogen fluoride(HF), 0-0.1wt% of ammonium fluoride, 0.1-1wt% of deoxidating agent or weak oxidizing agent, 0.1-0.2wt% of etching speed mitigative(salicylic acid), 0.1-0.5wt% of KHF2, and water.
摘要翻译：目的：提供铜或铜/钛蚀刻溶液以实现金属层的锥形蚀刻和均匀的蚀刻图案，从而防止金属层与其它构造层的接合不良。构成：蚀刻溶液湿润地蚀刻作为栅极，源极和漏极电极的铜单层或铜/钛双层。蚀刻溶液含有3-7wt％的Oxone，0.1-0.5wt％的氟化氢（HF），0-0.1wt％的氟化铵，0.1-1wt％的脱氧剂或弱氧化剂，0.1-0.2wt％的蚀刻速度缓和（水杨酸），0.1-0.5重量％的KHF2和水。

3. 发明公开

KR1020060099089A 금속배선 식각용액을 이용한 액정표시장치의 제조방법 有权
标题翻译：用于蚀刻金属层的金属层的蚀刻和使用该金属层的金属层的方法和使用蚀刻剂来制造液晶显示装置的方法
公开(公告)号：KR1020060099089A
公开(公告)日：2006-09-19
申请号：KR1020050020107
申请日：2005-03-10
申请人： 엘지디스플레이 주식회사 , 솔브레인 주식회사
发明人： 백귀종 , 이태형 , 조규철 , 채기성 , 권오남 , 황용섭
IPC分类号： C09K13/08
摘要： 본 발명은 구리/몰리브데늄(합금)막으로 구성된 금속배선을 식각하기 위한 금속배선 식각용액 및 이를 이용한 금속배선 식각방법과 상기 식각용액을 이용한 액정표시장치의 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있는 것으로, 이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 금속배선 식각용액은 조성물 총 중량을 기준으로, 12 내지 35 중량%의 과산화수소, 0.5 내지 5 중량 %의 황산염, 0.5 내지 5 중량%의 인산염, 0.001 내지 0.5 중량%의 조성물에 플르오르 이온을 제공할 수 있는 불화물, 0.1 내지 5 중량%의 수용성 고리형 아민 화합물, 0.1 내지 5 중량%의 킬레이트제 및 전체 조성물 총 중량이 100 중량%가 되도록 하는 탈이온수를 포함하는 것을 특징으로 한다.

4. 发明授权

KR100456373B1 구리 또는 구리/티타늄 식각액 有权
标题翻译： 구리또는구리/티타늄식각액
公开(公告)号：KR100456373B1
公开(公告)日：2004-11-09
申请号：KR1020010089324
申请日：2001-12-31
申请人： 솔브레인 주식회사 , 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 조규철 , 채기성 , 황용섭 , 권오남 , 이경묵 , 백귀종 , 이태형
IPC分类号： G02F1/13
CPC分类号： H01L21/32134 , C23F1/18 , C23F1/26 , Y10S436/80
摘要： An etching solution for etching one of a copper single metal layer and a copper (Cu)/titanium (Ti) double metal layer that serves as one of a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode of a thin film transistor for a liquid crystal display (LCD) device includes oxone, fluoric compounds, one of a reducing agent and a weak oxidizing agent, an etching rate restrainer, KHF 2 , and water.
摘要翻译：一种蚀刻液，用于蚀刻作为用于（a）的薄膜晶体管的栅电极，源电极和漏电极之一的铜单金属层和铜（Cu）/钛（Ti）双金属层之一液晶显示器（LCD）装置包括过硫酸氢钾，含氟化合物，还原剂和弱氧化剂中的一种，蚀刻速率限制器，KHF＆lt; SUB＆gt; 2＆lt; SUB＆gt;和水。

5. 发明授权

KR101117985B1 평판표시소자의 제조장치 및 제조방법 有权
标题翻译：平面显示装置的制作装置和方法
公开(公告)号：KR101117985B1
公开(公告)日：2012-03-06
申请号：KR1020050009594
申请日：2005-02-02
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 조규철 , 채기성 , 황용섭 , 김진욱 , 이창희
IPC分类号： G02F1/13
摘要： 본발명은기판위에패터닝하고자하는소정패턴과대응되는패턴으로형성된홈을일측면에가지는소프트몰드와; 상기소프트몰드의타측면에부착되어상기소프트몰드의휨을방지하는지지대를구비하며, 상기지지대는상기소프트몰드의타측면에수직및 수평중 적어도어느하나의방향으로형성된다.

6. 发明授权

KR100978250B1 패턴형성방법 및 이를 이용한 전기소자 제조방법 有权
标题翻译：金属图案制作方法及其电器制造方法
公开(公告)号：KR100978250B1
公开(公告)日：2010-08-26
申请号：KR1020020073206
申请日：2002-11-22
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 조규철 , 채기성 , 황용섭
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L29/66765 , H01L21/0332 , H01L21/0337 , H01L21/28123 , H01L21/32134 , H01L21/32135 , H01L21/32139
摘要： 본 발명의 패턴형성방법은 기판상에 에칭대상층을 형성하는 단계와, Ti층을 형성하는 단계와, 상기 Ti층의 일부 영역을 산화시켜 TiOx층을 형성하는 단계와, 상기 Ti층를 에칭하여 TiOx패턴을 형성하는 단계와, 상기 TiOx패턴으로 에칭대상층을 블로킹한 상태에서 상기 에칭대상층을 에칭하는 단계와, 상기 TiOx패턴을 에칭하는 단계로 구성된다.
패턴, Ti, TiOx, 소수성, 친수성, 에칭

7. 发明公开

KR1020060088673A 평판표시소자의 제조장치 및 제조방법 有权
标题翻译：平面显示装置的制作装置和方法
公开(公告)号：KR1020060088673A
公开(公告)日：2006-08-07
申请号：KR1020050009594
申请日：2005-02-02
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 조규철 , 채기성 , 황용섭 , 김진욱 , 이창희
IPC分类号： G02F1/13
CPC分类号： G02F1/1303 , G03F7/0002
摘要： 본 발명은 제조비용을 절감시킴과 아울러 수율을 향상시킬 수 있는 평판표시소자의 제조장치 및 제조방법에 관한 것이다.
본 발명은 기판 위에 패터닝하고자 하는 소정 패턴과 대응되는 패턴으로 형성된 홈을 일측면에 가지는 소프트 몰드와; 상기 소프트 몰드의 타측면에 부착되어 상기 소프트 몰드의 휨을 방지하는 지지대를 구비한다.

8. 发明公开

KR1020060044263A 컬러필터 어레이 기판의 제조방법 有权
标题翻译：彩色滤色片基板的制作方法
公开(公告)号：KR1020060044263A
公开(公告)日：2006-05-16
申请号：KR1020040092133
申请日：2004-11-11
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 채기성 , 조규철 , 황용섭 , 김진욱 , 이창희
IPC分类号： G02F1/1335
CPC分类号： G02F1/133516 , G02F1/1339 , G02F2001/133519
摘要： 본 발명은 공정을 단순화할 수 있음과 아울러 오버코트층의 표면을 평탄화할 수 있는 컬러필터 어레이 기판의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 컬러필터 어레이 기판의 제조방법은 기판 상에 블랙 매트릭스를 형성하는 단계와; 상기 블랙 매트릭스가 형성된 기판 상에 적색, 녹색 및 청색 컬러필터를 형성하는 단계와; 상기 적색, 녹색 및 청색 컬러필터가 형성된 기판 상에 백색 컬러필터를 포함하는 오버코트층을 형성하는 단계와; 상기 오버코트층 상에 평판 소프트 몰드를 정렬하는 단계와; 상기 평판 소프트 몰드를 이용하여 상기 오버코트층을 평탄화하는 단계를 포함한다.

9. 发明公开

KR1020050101657A 액정표시패널의 제조방법 有权
标题翻译：用于制造液晶显示面板的方法
公开(公告)号：KR1020050101657A
公开(公告)日：2005-10-25
申请号：KR1020040026736
申请日：2004-04-19
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 채기성 , 황용섭
IPC分类号： G02F1/1335
摘要： 본 발명은 공정을 단순화함과 아울러 비용을 절감할 수 있는 액정표시패널의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 액정표시패널의 제조방법은 기판 상에 블랙 매트릭스를 형성하는 단계와; 상기 블랙 매트릭스에 의해 구획된 영역에 컬러필터를 형성하는 단계와; 상기 컬러필터 상에 유기물을 형성한 후 상기 유기물을 소프트 몰드로 성형하여 평탄화층 및 스페이서 중 적어도 하나를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

10. 发明授权

KR100459271B1 구리 단일막 또는 구리 몰리브덴막의 식각용액 및 그식각방법 有权
标题翻译：美国职业棒球协会
公开(公告)号：KR100459271B1
公开(公告)日：2004-12-03
申请号：KR1020020023091
申请日：2002-04-26
申请人： 동우 화인켐 주식회사 , 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 채기성 , 조규철 , 권오남 , 이경묵 , 황용섭 , 김기섭 , 김성수 , 오금철
IPC分类号： C23F1/18
摘要： PURPOSE: Etching solutions for Cu monolayer or Cu-molybdenum multilayers comprising deionized water and two types of additives comprising hydrogen peroxide water, organic acid, phosphate and nitrogen, and an etching method are provided. CONSTITUTION: The etching solutions comprises first additive comprising 8 to 20 wt.% of hydrogen peroxide water for the total weight of composition, 1 to 5 wt.% of organic acid for the total weight of composition, 0.2 to 5 wt.% of phosphate for the total weight of composition and 0.2 to 5 wt.% of nitrogen for the total weight of composition; second additive comprising 0.2 to 5 wt.% of nitrogen for the total weight of composition; and a balance of deionized water for the total weight of composition. The etching method comprises first step of depositing copper/molybdenum layer on a substrate; second step of selectively leaving photoresist on the copper/molybdenum layer; and third step of etching the copper/molybdenum layer using the etching solution, wherein the copper/molybdenum layer is a double film in which copper film(14) is formed on molybdenum layer(12), wherein thickness of the copper layer is thicker than that of the molybdenum layer, wherein the substrate is a glass substrate(10) for TFT LCD (thin film transistor liquid crystal display), and wherein the copper layer is a source/drain wiring.
摘要翻译：目的：提供包含去离子水和包含过氧化氢水，有机酸，磷酸盐和氮的两种添加剂的铜单层或铜钼多层膜的蚀刻溶液以及蚀刻方法。组成：蚀刻溶液包含第一添加剂，其包含组合物总重量的8至20重量％的过氧化氢水，组合物总重量的1至5重量％的有机酸，0.2至5重量％的磷酸盐对于组合物的总重量和组合物总重量为0.2-5重量％的氮; 第二添加剂，其包含组合物总重量的0.2至5重量％的氮; 余量的去离子水用于组合物的总重量。该蚀刻方法包括在基底上沉积铜/钼层的第一步骤; 第二步，在铜/钼层上选择性地留下光刻胶; 以及使用所述蚀刻溶液蚀刻所述铜/钼层的第三步骤，其中所述铜/钼层是在钼层（12）上形成铜膜（14）的双层膜，其中所述铜层的厚度比其中基板是用于TFT LCD（薄膜晶体管液晶显示器）的玻璃基板（10），并且其中铜层是源极/漏极布线。

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