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1. 发明公开

KR1020070008924A 전계 형성 전극의 제조 방법 및 이를 이용한 액정 표시장치의 제조 방법 无效
标题翻译：用于形成电场的电极的制造方法和使用其制造液晶显示器的方法
公开(公告)号：KR1020070008924A
公开(公告)日：2007-01-18
申请号：KR1020050062831
申请日：2005-07-12
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박정민 , 이희국 , 전우석 , 정두희
IPC分类号： G02F1/136
CPC分类号： G02F1/13439 , G03F7/0233 , G03F7/0382 , H01L27/1259
摘要： A method of fabricating an electric field forming electrode and a method of fabricating an LCD (liquid crystal display device) using the same are provided to reduce the defect rate of the electric field forming electrode and reduce the defect rate of the LCD by preventing photoresist particles from remaining. A transparent conductive layer(185) is formed on a substrate(110). A negative photoresist layer(300) that is formed of a composition containing a binder resin, a photoacid generator, and a crosslinker represented by Formula 1 is formed on the transparent conductive layer. The negative photoresist layer is selectively exposed. The non-exposed region is removed. Then, the negative photoresist layer is heat-treated to form a predetermined photoresist pattern. The transparent conductive layer is etched using the photoresist pattern as an etch mask.
摘要翻译：提供一种制造电场形成电极的方法以及使用该方法制造LCD（液晶显示装置）的方法，以减少电场形成电极的缺陷率，并通过防止光致抗蚀剂颗粒降低LCD的缺陷率从剩下的。在衬底（110）上形成透明导电层（185）。在透明导电层上形成由含有粘合剂树脂，光致酸产生剂和由式1表示的交联剂的组合物形成的负性光致抗蚀剂层（300）。选择性地曝光负性光致抗蚀剂层。去除非曝光区域。然后，对负性光致抗蚀剂层进行热处理以形成预定的光致抗蚀剂图案。使用光致抗蚀剂图案作为蚀刻掩模蚀刻透明导电层。

2. 发明公开

KR1020060058967A 박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법 无效
公开(公告)号：KR1020060058967A
公开(公告)日：2006-06-01
申请号：KR1020040098029
申请日：2004-11-26
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이희국 , 정두희 , 전우석 , 박정민
IPC分类号： G02F1/136
CPC分类号： G02F1/136227 , G02F1/136286 , G02F2001/136231 , H01L27/1288
摘要： 본 발명은 박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법에 관한 것으로, 기판 위에 게이트 전극을 포함한 게이트선, 게이트 절연막, 반도체층, 저항성 접촉 부재, 데이터선 및 드레인 전극을 형성하고, 노출된 게이트 절연막, 노출된 반도체층 및 데이터선 및 드레인 전극 위에 보호막을 적층한 후, 상기 보호막 위에 감광막을 적층한다. 감광막을 마스크로 하여 상기 보호막을 식각하여 데이터선의 일부와 드레인 전극을 드러내고, 상기 게이트 절연막을 식각하여 게이트선의 일부를 제거한다. 다음 남아 있는 감광막과 노출된 기판 위에 도전막을 형성한 후, 감광막을 리프트 오프하여 화소 전극을 형성한다. 이때, 감광막은 네거티브형으로, 현상 후 감광막의 측면은 약 30° 내지 80°의 경사각을 갖는 역테이퍼 형상이다. 이로 인해, 감광막의 측면이 역테이퍼 형상을 가지므로, 감광막 하부에 언더컷을 위한 별도의 식각 공정없이도 제거되는 도전막 부분과 남게 되는 도전막 부분 사이에 단절이 발생하여 감광막의 리프트 오프가 용이해진다.
박막트랜지스터표시판, 슬릿, 마스크, 언더컷, 감광막, 측벽, 네거티브

3. 发明公开

KR1020100006952A 포토레지스트 조성물, 이를 이용한 금속 패턴의 형성 방법및 표시 기판의 제조 방법 无效
标题翻译：光刻胶组合物，使用其形成金属图案的方法以及制造显示基板的方法
公开(公告)号：KR1020100006952A
公开(公告)日：2010-01-22
申请号：KR1020080067324
申请日：2008-07-11
申请人： 삼성전자주식회사 , 메르크 퍼포먼스 마테리알즈 고도가이샤
发明人： 박정민 , 이정수 , 정두희 , 이희국 , 강덕만 , 오세태 , 손상원 , 김영진
IPC分类号： G03F7/022
CPC分类号： H01L27/1288 , G03F7/0226 , G03F7/40 , H01L21/32139 , H01L27/1214
摘要： PURPOSE: A photoresist composition is provided to ensure high thermal resistance and etching resistance while forming a clear photoresist pattern, to minimize the damage of an underlayer of a photoresist pattern, and to improve the reliability of the underlayer. CONSTITUTION: A photoresist composition comprises an alkali soluble resin 5-50 weight%, a quinone diazide-based compound 0.5-30 weight%, and extra organic solvent. A formation method of metal pattern comprises the steps of: applying the photoresist composition on a base substrate(110) with a metal layer to form a photoresist layer; patterning the photoresist layer to form a photo pattern(132); forming a baking pattern by heat treating the photopattern; and patterning the metal layer using the baking pattern to form the metal pattern.
摘要翻译：目的：提供光致抗蚀剂组合物以确保高耐热性和耐蚀刻性，同时形成清晰的光致抗蚀剂图案，以最小化光致抗蚀剂图案的底层的损伤，并提高底层的可靠性。构成：光致抗蚀剂组合物包含5-50重量％的碱溶性树脂，0.5-30重量％的醌二叠氮化物和额外的有机溶剂。金属图案的形成方法包括以下步骤：将光致抗蚀剂组合物涂覆在基底基板（110）上，形成光致抗蚀剂层; 图案化光致抗蚀剂层以形成照片图案（132）; 通过热处理光图案形成烘烤图案; 并使用烘烤图案来图案化金属层以形成金属图案。

4. 发明公开

KR1020090080286A 기판의 평탄화 방법, 어레이 기판 및 이 평탄화 방법을이용한 어레이 기판의 제조 방법 无效
标题翻译：方法平面化基板，阵列基板和使用该方法制造阵列基板的方法
公开(公告)号：KR1020090080286A
公开(公告)日：2009-07-24
申请号：KR1020080006160
申请日：2008-01-21
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박정민 , 정두희 , 이희국 , 이영욱
IPC分类号： H01L29/786 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/2686 , H01L21/31058 , H01L27/1248 , H01L29/78636 , H01L27/1214
摘要： A method for planarizing a substrate, an array substrate, and a method for manufacturing the same array substrate using a planarization method are provided to prevent a tangling effect of a succeeding layer formed on a metal electrode at a lateral surface of a metal line and a stepped part of a base substrate. An organic layer is formed to cover a metal line(12) which is formed on a base substrate(11). The organic layer is removed to expose the metal line. An auxiliary planarization layer is formed to planarize a surface of the base substrate including the metal line. A curing process is performed to cure the auxiliary planarization layer in order to shift the auxiliary planarization layer facing a lateral surface of the metal line to a lateral surface of the metal line. A planarization layer(13c) is formed by attaching the auxiliary planarization layer on the lateral surface of the metal line.
摘要翻译：提供一种平面化基板，阵列基板和使用平面化方法制造相同阵列基板的方法的方法，以防止在金属线的侧表面上形成在金属电极上的后续层的缠结效应和台阶部分基底。形成有机层以覆盖形成在基底基板（11）上的金属线（12）。去除有机层以露出金属线。形成辅助平坦化层以使包括金属线的基底基板的表面平坦化。执行固化处理以固化辅助平坦化层，以将面向金属线的侧表面的辅助平坦化层移动到金属线的侧表面。通过在金属线的侧面上附着辅助平坦化层来形成平坦化层（13c）。

5. 发明公开

KR1020080068951A 현상 장치 및 현상 방법 无效
标题翻译：开发设备和开发方法
公开(公告)号：KR1020080068951A
公开(公告)日：2008-07-25
申请号：KR1020070006412
申请日：2007-01-22
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 정두희 , 박정민 , 문경수
IPC分类号： G02F1/13 , B05C5/02
CPC分类号： H01L21/6715 , G02F1/1303 , G03D3/06 , G03F7/3021
摘要： A developing apparatus and a developing method are provided to supply developing liquid on a substrate continuously by using at least one additive nozzle as well as a nozzle during a developing process, thereby making concentration of the developing uniform. A developing apparatus comprises a roller for loading and transferring a substrate(40), and a nozzle(310) and at least one additive nozzle(320) disposed above the substrate to apply developing liquid on the substrate. A developing method comprises several steps for loading the substrate on the roller, discharging the developing liquid on the substrate through the nozzle, and discharging the developing liquid on the substrate through the additive nozzle while transferring the substrate by the roller.
摘要翻译：提供显影装置和显影方法，以在显影过程中使用至少一个添加剂喷嘴和喷嘴，在显影液体上连续地供给显影液，从而使显影均匀。显影装置包括用于装载和转印基材的辊，以及设置在基板上方的喷嘴（310）和至少一个添加剂喷嘴（320），以将显影液体施加到基板上。显影方法包括几个步骤，用于将基材装载在辊上，通过喷嘴将显影液排出到基板上，并通过辊子传送基板，通过添加剂喷嘴将显影液排出到基板上。

6. 发明公开

KR1020070000529A 게이트 및 축적용량 전극 및 그 형성 방법 그리고 이를이용한 액정 표시 장치 및 그 형성 방법 无效
标题翻译：门和存储电极及其形成门和存储电极的方法以及用于形成液晶显示器的液晶显示器和方法
公开(公告)号：KR1020070000529A
公开(公告)日：2007-01-03
申请号：KR1020050055918
申请日：2005-06-27
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 전우석 , 배양호 , 박정민 , 정두희
IPC分类号： G02F1/136
CPC分类号： G02F1/13439 , G02F1/136213 , G02F1/136286 , H01L27/1259
摘要： A structure for gate and storage electrodes, a method for forming the same, an LCD using the same, and a method for manufacturing the LCD are provided to realize the formation of the gate and storage electrodes through a single photo process, thereby increasing the manufacturing yield of the LCD. First and second conductive layers are formed on a substrate having first and second regions. A first pattern(116a) and a second pattern(116b) thinner than the first pattern are respectively formed on the second conductive layer of the first region and the second region. The second and first conductive layers are etched using the first and second patterns as an etching mask, thereby forming a first combination pattern(117a) and a second combination pattern(117b) respectively positioned in the first region and the second region. Each of the first and second combination patterns is composed of second and first conductive patterns. The second pattern is removed, the second conductive pattern of the second combination pattern is removed, and then the first pattern is removed.
摘要翻译：提供一种用于栅极和存储电极的结构，其形成方法，使用其的LCD以及用于制造LCD的方法，以通过单次照相处理来实现栅极和存储电极的形成，从而增加制造 LCD的产量。在具有第一和第二区域的基板上形成第一和第二导电层。比第一图案薄的第一图案（116a）和第二图案（116b）分别形成在第一区域和第二区域的第二导电层上。使用第一和第二图案作为蚀刻掩模蚀刻第二和第一导电层，从而形成分别位于第一区域和第二区域中的第一组合图案（117a）和第二组合图案（117b）。第一和第二组合图案中的每一个由第二和第一导电图案组成。去除第二图案，去除第二组合图案的第二导电图案，然后移除第一图案。

7. 发明公开

KR1020060084020A 광마스크 및 이를 이용한 박막 트랜지스터 표시판의 제조방법 有权
标题翻译：薄膜晶体管阵列的光学掩模和制造方法
公开(公告)号：KR1020060084020A
公开(公告)日：2006-07-21
申请号：KR1020050004272
申请日：2005-01-17
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박정민 , 이희국 , 전우석 , 김주한 , 정두희
IPC分类号： H01L29/786 , H01L29/66 , H01L27/32 , G02F1/133
CPC分类号： H01L29/786 , G02F1/133 , H01L27/3269 , H01L29/66583 , H01L29/78606
摘要： 본 발명은 광마스크에 관한 것으로, 이 광마스크는 투과 영역과 반투과 영역을 포함하고, 상기 반투과 영역은 소정 면적을 갖고 소정 간격만큼 매트릭스 형태로 배열되어 있는 복수의 광차단부를 포함한다. 이때, 상기 복수의 광차단부 각각은 사각형 형상을 가진다. 상기 복수의 광차단부 각각의 면적은 가로 또는 세로 폭에 따라 정해진다.
박막트랜지스터표시판, 슬릿, 마스크, 언더컷, 감광막, 광마스크, 감광막두께

8. 发明授权

KR100597730B1 센서리스 ＢＬＤＣ모터 및 그 펄스폭 제어방법 失效
标题翻译：无传感器BLDC电机及其脉宽控制方法
公开(公告)号：KR100597730B1
公开(公告)日：2006-07-07
申请号：KR1019990007716
申请日：1999-03-09
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 정성기 , 정두희
IPC分类号： H02K29/00
摘要： 본 발명은, 3상의 코일이 감겨진 고정자와, 상기 고정자내에 수용되어 회전하는 회전자를 갖는 센서리스 ＢＬＤＣ모터 및 그 펄스폭 제어방법에 관한 것이다. 본 센서리스 ＢＬＤＣ모터는, 상기 고정자의 역기전력에 기초한 각 상의 상신호를 발생하는 상신호발생부와; 상기 상신호발생부에서 발생하는 상신호의 변동시간을 측정하는 카운터와; 상기 카운터에서 측정된 상신호의 변동시간에 기초하여 상기 회전자의 회전속도를 연산하는 연산부와; 상기 연산부에서 연산된 회전속도에 따라 조절한 펄스폭을 갖는 펄스신호를 발생시키는 펄스발생부와; 상기 상신호발생부로부터의 상신호와 상기 펄스발생부로부터의 펄스신호를 입력받아 인버터의 구동신호를 발생하여 상기 인버터에 제공하는 AND 게이트를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 고정자로 공급되는 전원공급량을 조절하여 회전자의 속도변동을 방지함으로써, 소음과 진동을 제거할 수 있는 센서리스 ＢＬＤＣ모터 및 그 펄스폭 제어방법이 제공된다.

9. 发明公开

KR1020060070333A 박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법 无效
公开(公告)号：KR1020060070333A
公开(公告)日：2006-06-23
申请号：KR1020040109038
申请日：2004-12-20
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 전우석 , 정두희 , 박정민 , 이희국
IPC分类号： G02F1/136
CPC分类号： H01L27/1288 , G02F2001/136295 , H01L27/127 , H01L29/66765
摘要： 본 발명은, 기판 위에 게이트 전극을 포함하는 게이트선을 형성하는 단계, 상기 게이트선 위에 게이트 절연막을 형성하는 단계, 상기 게이트 절연막 위에 반도체층을 형성하는 단계, 상기 반도체층 위에 도전층을 형성하는 단계, 상기 도전층 위에 네가티브 포토레지스트를 형성하는 단계, 상기 네가티브 포토레지스트를 노광하여 제1 두께 및 상기 제1 두께보다 얇은 제2 두께를 가진 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계, 상기 포토레지스트 패턴을 이용하여 상기 도전층 및 반도체층을 식각하는 단계, 상기 제2 두께를 가진 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계, 상기 포토레지스트 패턴을 이용하여 상기 도전층의 일부를 식각하여 소스 전극을 포함하는 데이터선 및 상기 소스 전극과 소정 간격으로 마주하고 있는 드레인 전극을 형성하는 단계 및 상기 드 레인 전극과 연결되는 화소 전극을 형성하는 단계를 포함하는 박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법을 제공한다.
네가티브 포토레지스트, 에치백, 역테이퍼, 채널 영역

10. 发明公开

KR1020060059580A 감광물질 및 이를 이용한 박막 트랜지스터 기판의 제조방법 无效
标题翻译：感光材料及使用材料制造薄膜晶体管基板的方法
公开(公告)号：KR1020060059580A
公开(公告)日：2006-06-02
申请号：KR1020040098707
申请日：2004-11-29
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박정민 , 전우석 , 정두희
IPC分类号： H01L29/786
CPC分类号： G03F7/004 , H01L29/41733 , H01L29/66765
摘要： 본 발명은, 수지와, 감광성 화합물과, 용매를 포함하여 만들어진 감광물질 및 이를 이용한 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판을 제조하는 방법에 관한 것에 관한 것으로서, 상기 감광물질은 노광에너지에 따른 감광물질의 현상 후 잔여정도를 나타내는 변화 곡선이 적어도 하나의 변곡점을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 데이터 배선의 길이방향에 양측으로 저항성 접촉층 및 반도체층이 돌출되는 것을 감소시켜 이에 따른 불량의 발생을 억제함과 동시에 박막 트랜지스터의 채널영역을 균일하게 형성할 수 있게 된다.

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