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1. 发明申请

WO2019031793A1 워크 스테이션 이를 포함하는 의료영상 장치, 및 그 제어방법 审中-公开
公开(公告)号：WO2019031793A1
公开(公告)日：2019-02-14
申请号：PCT/KR2018/008911
申请日：2018-08-06
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 손기홍 , 나종범 , 장석환 , 이경용 , 이덕운 , 김도일 , 김승언
IPC分类号： A61B6/00
摘要： 개시된 일 실시예에 따른 의료영상 장치는, 대상체에 엑스선을 조사하는 엑스선 소스; 상기 엑스선 소스로부터 조사된 엑스선을 검출하여 프로젝션 데이터(Projection Data)를 획득하는 엑스선 디텍터; 및 상기 대상체, 상기 엑스선 소스, 및 상기 엑스선 디텍터 중 적어도 하나의 움직임을 나타내는 움직임 파라미터에 기초하여 상기 프로젝션 데이터를 재구성하고, 재구성된 프로젝션 데이터에 웨이팅 프로세스를 적용하여 의료영상을 생성하는 영상 처리부;를 포함한다.

2. 发明授权

KR101725891B1 단층 영상 장치 및 그에 따른 단층 영상 복원 방법 有权
标题翻译：一种断层摄影装置及其断层摄影图像重建方法
公开(公告)号：KR101725891B1
公开(公告)日：2017-04-11
申请号：KR1020150110658
申请日：2015-08-05
申请人： 삼성전자주식회사 , 한국과학기술원
发明人： 나종범 , 이경용 , 이덕운 , 리후토시히로 , 김승언 , 장석환
IPC分类号： A61B6/00 , A61B6/03
CPC分类号： G06T11/008 , A61B6/032 , A61B6/4291 , A61B6/5205 , A61B6/5264 , A61B6/56 , G06T7/285 , G06T11/006 , G06T2207/10076 , G06T2207/10081 , G06T2207/20192 , G06T2207/30048 , G06T2211/412 , G06T2211/421
摘要： 움직이는대상체를단층촬영하는경우, 대상체의움직임을더욱정확하게측정할수 있는단층영상장치및 그에따른단층영상복원방법을개시한다. 구체적으로, 움직이는대상체의시간에따른움직임을나타내는정보를획득하고, 획득된움직임정보에근거하여움직임보정을수행하여, 움직임아티팩트가감소된목표영상을복원할수 있다.
摘要翻译：本发明公开了一种断层成像装置和断层图像重建方法，能够在获得移动物体的断层图像时更精确地测量移动物体的运动。具体而言，可以获得指示运动对象随时间的移动的信息，并且可以基于获得的运动信息来执行运动补偿，以用减少的运动伪影来恢复目标图像。

3. 发明公开

KR1020150099381A 단층 촬영 장치 및 그에 따른 단층 영상 복원 방법 有权
标题翻译： TOMOGRAPHY装置及其重建图像的方法
公开(公告)号：KR1020150099381A
公开(公告)日：2015-08-31
申请号：KR1020140115697
申请日：2014-09-01
申请人： 삼성전자주식회사 , 한국과학기술원
发明人： 나종범 , 김승언 , 이경용 , 리후토시히로 , 이종현 , 안일준 , 장용진 , 최병선
IPC分类号： A61B6/03
摘要： 움직이는 대상체를 단층 촬영하여 제1 시점에 대응되는 제1 각도 구간 및 제2 시점에 대응되며 상기 제1 각도 구간과 마주보는 제2 각도 구간 각각에서 획득된 데이터를 이용하여 부분 영상인 제1 영상 및 제2 영상을 획득하고, 상기 제1 영상 및 상기 제2 영상을 이용하여 상기 대상체의 움직임 량을 나타내는 제1 정보를 획득하는 데이터 획득부, 및 상기 제1 정보에 근거하여, 목표 시점에서의 상기 대상체를 나타내는 목표 영상을 복원하는 영상 복원부를 포함하는 단층 촬영 장치가 개시된다.
摘要翻译：公开了一种计算机断层摄影装置，其包括数据获取部分，其通过使用从对应于第一点的第一角度部分获得的数据获得第一图像和第二图像，所述第二图像是部分图像，以及对应于第二图像的第二角度部分并且通过CT扫描移动物体来面对第一角度部分，并且通过使用第一图像和第二图像来获得呈现物体的移动量的第一信息; 以及图像重建部件，基于所述第一信息，重建在目标点上呈现所述对象的目标图像。

4. 发明授权

KR100636021B1 사이클론, 이를 갖는 슬러리 분류 장치, 이 장치를 이용한슬러리 공급 시스템 및 방법 有权
标题翻译：旋风分离器，具有该分离装置的浆料分选设备，浆料供给系统和使用该系统的方法
公开(公告)号：KR100636021B1
公开(公告)日：2006-10-18
申请号：KR1020050010433
申请日：2005-02-04
申请人： 삼성전자주식회사 , 씨앤지하이테크 주식회사
发明人： 김승언 , 홍사문 , 김왕근 , 이상곤 , 황상열
IPC分类号： B04C5/08 , B04C5/081
CPC分类号： B04C5/13 , B04C5/081 , B24B57/00
摘要： 사이클론은 몸체와 선회류 출구부재를 포함한다. 몸체는 유체가 투입되는 인입 통로, 인입 통로에 연결되어 유체 내의 제 1 입자가 배출되는 상단을 갖는 원통형 통로, 및 원통형 통로의 하단에 연결된 상단과 상기 제 1 입자보다 큰 비중을 갖는 제 2 입자가 배출되는 개방된 하단을 갖는 원추형 통로를 갖는다. 선회류 출구부재는 원통형 통로의 상단에 삽입된다. 원통형 통로로부터 선회 상승하는 제 1 입자가 배출되는 제 1 배출 통로가 선회류 출구부재 내에 수직 방향을 따라 형성된다. 수직 방향을 따른 원통형 통로의 길이는 원통형 통로의 지름의 0.5 내지 2배이고, 수직 방향을 따른 원추형 통로의 길이는 원통형 통로의 지름의 5 내지 9배이다.
摘要翻译：旋风器包括主体和旋流出口构件。体是具有顶部和具有较大的比重大于所述第一颗粒被连接到在其中引入一个流体连接到所述圆筒形通道的下端的入口通道，入口通道的第二颗粒，并具有顶部到其上的圆柱形通道中的流体排出第一颗粒并且具有开放的下端的锥形通道被排出。涡流出口部件插入圆柱形通道的上端。在回旋流出口构件上沿着铅直方向形成有第一排出通路，通过该第一排出通路，从圆柱形通路上升并且上升的第一颗粒被排出。圆柱形通道沿竖直方向的长度是圆柱形通道直径的0.5至2倍，圆锥形通道沿竖直方向的长度是圆柱形通道直径的5至9倍。

5. 发明公开

KR1020060089403A 사이클론, 이를 갖는 슬러리 분류 장치, 이 장치를 이용한슬러리 공급 시스템 및 방법 有权
标题翻译：环氧树脂，用于分离浆料的设备，使用设备提供浆料的系统和方法
公开(公告)号：KR1020060089403A
公开(公告)日：2006-08-09
申请号：KR1020050010433
申请日：2005-02-04
申请人： 삼성전자주식회사 , 씨앤지하이테크 주식회사
发明人： 김승언 , 홍사문 , 김왕근 , 이상곤 , 황상열
IPC分类号： B04C5/08 , B04C5/081
CPC分类号： B04C5/13 , B04C5/081 , B24B57/00
摘要： 사이클론은 몸체와 선회류 출구부재를 포함한다. 몸체는 유체가 투입되는 인입 통로, 인입 통로에 연결되어 유체 내의 제 1 입자가 배출되는 상단을 갖는 원통형 통로, 및 원통형 통로의 하단에 연결된 상단과 상기 제 1 입자보다 큰 비중을 갖는 제 2 입자가 배출되는 개방된 하단을 갖는 원추형 통로를 갖는다. 선회류 출구부재는 원통형 통로의 상단에 삽입된다. 원통형 통로로부터 선회 상승하는 제 1 입자가 배출되는 제 1 배출 통로가 선회류 출구부재 내에 수직 방향을 따라 형성된다. 수직 방향을 따른 원통형 통로의 길이는 원통형 통로의 지름의 0.5 내지 2배이고, 수직 방향을 따른 원추형 통로의 길이는 원통형 통로의 지름의 5 내지 9배이다.

6. 发明授权

KR100454120B1 화학적 기계적 연마 장비의 슬러리 공급 장치 및 방법 有权
标题翻译： 화학적기계적연마장비의슬러리공급장치및방법
公开(公告)号：KR100454120B1
公开(公告)日：2004-10-26
申请号：KR1020010070139
申请日：2001-11-12
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김승언 , 채승기 , 이제구 , 김수련
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： B24B37/04 , B24B57/02 , C23F3/00 , H01L21/31053 , H01L21/3212 , Y10T137/0971
摘要： An apparatus for supplying chemicals in a chemical mechanical polishing (CMP) process includes a plurality of chemical solution supply sources for supplying different chemical solutions in a pump-less manner by using a pressure applied at the chemical solution supply sources, each supply source having an associated feed line, re-circulating line, and means for measuring and controlling flow rates of the chemical solutions supplied through the feed lines. The chemical solutions are delivered via a plurality of delivery lines to a mixer, thereby providing a mixed chemical solution to a chemical injection part of a polishing apparatus. Each means for measuring and controlling flow rates is mounted in the feed lines.
摘要翻译：一种用于在化学机械抛光（CMP）过程中供应化学品的设备包括多个化学溶液供应源，用于通过使用施加在化学溶液供应源处的压力以无泵方式供应不同的化学溶液，每个供应源具有关联的供给管线，再循环管线以及用于测量和控制通过供给管线供给的化学溶液的流量的装置。化学溶液经由多个输送管线输送到混合器，从而将混合的化学溶液提供给抛光设备的化学注入部分。用于测量和控制流量的每种装置都安装在进料管线中。

7. 发明公开

KR1020010084012A 케미컬 혼합장치 无效
标题翻译：混合化学品的装置
公开(公告)号：KR1020010084012A
公开(公告)日：2001-09-06
申请号：KR1020000008745
申请日：2000-02-23
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김수련 , 채승기 , 김승언 , 이진선
IPC分类号： B01F7/32 , B01F13/00
摘要： PURPOSE: Provided is an apparatus for mixing chemicals which is characterized by enhancing the mixing uniformity of chemicals used at a manufacturing process of semiconductor device by circulating among many mixing vessels. CONSTITUTION: The apparatus is composed of the following parts in draw 1: a first vessel (100) and a second vessel (200) to mix chemical A and B; inlets (110 and 110') for chemical A and B equipped at the first vessel (100); inlets (120 and 220) for an inert gas (ie. N2) equipped at the first vessel and the second vessel, respectively; a connection pipe (130) with the diameter of 30% of the mixing vessel diameter between the mixing vessels; and a mixer (140) shaped like a stirrer on the connection pipe (130).
摘要翻译：目的：提供一种混合化学品的装置，其特征在于通过在许多混合容器之间循环来提高半导体装置的制造过程中使用的化学品的混合均匀性。构成：该装置由图1中的以下部分组成：第一容器（100）和混合化学品A和B的第二容器（200）; 用于在第一容器（100）装备的化学品A和B的入口（110和110'）; 分别装在第一容器和第二容器上的惰性气体（即N2）的入口（120和220）连接管（130），其直径在混合容器之间的混合容器直径的30％; 以及在连接管（130）上形成为类似搅拌器的混合器（140）。

8. 发明授权

KR100211674B1 과산화수소에 저항성을 갖는 신규 미생물 失效
标题翻译：新颖的过氧化氢微生物
公开(公告)号：KR100211674B1
公开(公告)日：1999-08-02
申请号：KR1019970005704
申请日：1997-02-25
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김인섭 , 김승언 , 유남희 , 이순영
IPC分类号： C12N1/20
CPC分类号： C12N9/0065 , C12P19/04 , C12Q1/22 , C12R1/265 , C12Y111/01006
摘要： 본 발명은 과산화수소에 의한 살균처리의 기준을 설정하는 데 사용될 수 있도록 과산화수소의 농도에 대하여 선형의 생존곡선을 나타내는 신규 미생물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 과산화수소에 저항성을 갖는 신규 미생물은, 과산화수소에 대하여 저항성을 가지며, 과산화수소의 농도에 대한 사멸율이 선형으로 나타나는 미생물 마이크로코쿠스 루테우스(Micrococcus luteus) HN2-11로서, KCTC 8770P 호(국내기탁일 ; 1997년 1월 13일, 국제기탁전환일 ; 1997년 8월 8일, 국제수탁번호 ; KCTC 0369BP 호)이다.
본 발명에 의하면 과산화수소에 대하여 일정한 저항기작 및 선형의 생존곡선을 나타내어 살균효과의 검증에 필수적인 지표미생물로 사용할 수 있는 신규 미생물 마이크로코쿠스 루테우스 HN2-11을 제공하는 효과가 있다.

9. 发明公开

KR1019990047773A 반도체소자제조용용수처리설비의광산화처리장치 失效
标题翻译：半导体器件制造用水处理设备的光氧化处理装置
公开(公告)号：KR1019990047773A
公开(公告)日：1999-07-05
申请号：KR1019970066290
申请日：1997-12-05
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김수련 , 김승언 , 김현준 , 오윤철
IPC分类号： C02F1/72 , C02F9/00
摘要： 본 발명은, 반도체소자 제조용 용수처리설비의 광산화처리장치와 이를 구비하는 용수처리설비 및 용수처리방법에 관한 것이다.
본 발명의 반도체소자 제조용 용수처리설비의 광산화처리장치는, 전처리가 이루어진 용수중에 포함되어 있는 유기물이 산화되도록 상기 소정의 파장의 유브이를 조사시키는 유브이램프; 상기 유브이램프를 수용하고, 상기 용수를 플로우시키는 광산화부; 및 상기 소정의 파장의 유브이의 조사시 상기 유기물의 산화를 활성화시킬 수 있도록 상기 광산화부의 내측벽에 구비되는 촉매부를 구비하여 이루어짐을 특징으로 한다.
본 발명의 광산화처리장치가 구비되는 용수처리설비는, 전처리장치; 한외여과장치; 가스처리장치; 유브이램프, 광산화부 및 TiO
2 재질의 촉매부가 구비되는 제 1 광산화처리장치; 제 1 이온교환장치; 유브이램프, 광산화부 및 TiO
2 재질의 촉매부가 구비되는 제 2 광산화처리장치; 제 2 이온교환장치; 및 파티클처리장치를 구비하여 이루어짐을 특징으로 한다.
따라서, 용수중에 포함되어 있는 유기물을 완전하게 처리함으로써 반도체소자의 신뢰도 및 생산성이 향상되는 효과가 있다.

10. 发明授权

KR102139668B1 단층 촬영 장치 및 그에 따른 단층 영상 복원 방법 有权
公开(公告)号：KR102139668B1
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：KR1020160081108
申请日：2016-06-28
申请人： 삼성전자주식회사 , 한국과학기술원
发明人： 이경용 , 나종범 , 김승언 , 리후토시히로 , 이종현 , 안일준 , 장용진 , 최병선
IPC分类号： A61B6/03 , A61B6/00 , G06T11/00

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