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1. 发明专利

TW201721113A 多點光譜系統审中-公开
简体标题：多点光谱系统
公开(公告)号：TW201721113A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW104140286
申请日：2015-12-02
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：林雁容 , LIN, YAN RUNG , 陳心怡 , CHEN, HSIN YI , 葉佳良 , YEH, CHIA LIANG , 謝易辰 , HSIEH, YI CHEN
IPC分类号： G01J3/12 , G01J3/02
CPC分类号： H04N5/265 , G01J3/26 , G01J3/28 , G01J3/36 , G01J3/50 , G01J3/513 , G01J2003/1213 , G01J2003/2806 , G01J2003/516 , G02B3/0006 , G02B5/201 , G02B5/288 , G02B7/14 , G06K9/00536 , G06K9/00664 , G06K9/2018 , G06K9/46 , G06K9/4652 , G06K9/6215 , G06K9/6267 , G06K2009/4666 , G06K2209/17 , H04N5/2253 , H04N5/2254 , H04N5/2258 , H04N9/04
摘要：一種多點光譜系統，包括：影像感測裝置、成像透鏡以及多波長濾光片。多波長濾光片具有不同之穿透波長之複數個濾光區域。利用多波長濾光片與影像感測裝置上的彩色濾光片的結合，形成具有多個單波長窄頻濾波之影像。
简体摘要：一种多点光谱系统，包括：影像传感设备、成像透镜以及多波长滤光片。多波长滤光片具有不同之穿透波长之复数个滤光区域。利用多波长滤光片与影像传感设备上的彩色滤光片的结合，形成具有多个单波长窄频滤波之影像。

2. 发明专利

TWI612293B ＬＴＰＳ背板結晶品質檢測裝置及其方法有权
简体标题：ＬＴＰＳ背板结晶品质检测设备及其方法
公开(公告)号：TWI612293B
公开(公告)日：2018-01-21
申请号：TW105137828
申请日：2016-11-18
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：楊富程 , YANG, FU CHENG , 葉佳良 , YEH, CHIA LIANG , 蔡偉雄 , TSAI, WEI HSIUNG , 林耿立 , LIN, KENG LI , 林友崧 , LIN, YEOU SUNG , 黃卯生 , HUANG, MAO SHENG
IPC分类号： G01N21/88 , H01L21/66
CPC分类号： G01N21/958 , G01N21/4788 , G01N2021/9513

3. 发明专利

TW201819895A ＬＴＰＳ背板結晶品質檢測裝置及其方法审中-公开
简体标题：ＬＴＰＳ背板结晶品质检测设备及其方法
公开(公告)号：TW201819895A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW105137828
申请日：2016-11-18
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：楊富程 , YANG, FU CHENG , 葉佳良 , YEH, CHIA LIANG , 蔡偉雄 , TSAI, WEI HSIUNG , 林耿立 , LIN, KENG LI , 林友崧 , LIN, YEOU SUNG , 黃卯生 , HUANG, MAO SHENG
IPC分类号： G01N21/88 , H01L21/66
摘要：本揭露為一種LTPS(Low Temperature Poly-silicon)背板結晶品質檢測方法，包括：發射窄頻入射光至LTPS背板；於一軸向上以第一影像擷取角度執行該LTPS背板之表面各位置的影像擷取，藉以取得一繞射影像，該第一影像擷取角度為該軸向上最大繞射光強度之角度；於另一軸向上以第二影像擷取角度執行該LTPS背板之表面各位置的影像擷取，藉以取得另一繞射影像，該第二影像擷取角度為該另一軸向上最大繞射光強度之角度；以及依據該繞射影像及該另一繞射影像之繞射光強分布影像，以判斷該LTPS背板之結晶品質。本揭露還揭露用於執行LTPS背板結晶品質檢測之裝置。
简体摘要：本揭露为一种LTPS(Low Temperature Poly-silicon)背板结晶品质检测方法，包括：发射窄频入射光至LTPS背板；于一轴向上以第一影像截取角度运行该LTPS背板之表面各位置的影像截取，借以取得一绕射影像，该第一影像截取角度为该轴向上最大绕射光强度之角度；于另一轴向上以第二影像截取角度运行该LTPS背板之表面各位置的影像截取，借以取得另一绕射影像，该第二影像截取角度为该另一轴向上最大绕射光强度之角度；以及依据该绕射影像及该另一绕射影像之绕射光强分布影像，以判断该LTPS背板之结晶品质。本揭露还揭露用于运行LTPS背板结晶品质检测之设备。

4. 发明专利

TW201425863A 曲率量測系統及其方法审中-公开
简体标题：曲率量测系统及其方法
公开(公告)号：TW201425863A
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：TW101149023
申请日：2012-12-21
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：葉佳良 , YEH, CHIA LIANG , 江直融 , CHIANG, CHIH JUNG , 楊富程 , YANG, FU CHENG
IPC分类号： G01B11/24
摘要：一種曲率量測方法，以量測一樣品之曲率，其包括：產生一第一入射光束與一第二入射光束，並投射至該樣品，以形成一第一反射光束與一第二反射光束；放大該第一反射光束與該第二反射光束，以形成一第一檢測光束與一第二檢測光束；以及擷取該第一檢測光束與該第二檢測光束，以得出該些入射光束之一光點偏移量，並計算出一曲率。
简体摘要：一种曲率量测方法，以量测一样品之曲率，其包括：产生一第一入射光束与一第二入射光束，并投射至该样品，以形成一第一反射光束与一第二反射光束；放大该第一反射光束与该第二反射光束，以形成一第一检测光束与一第二检测光束；以及截取该第一检测光束与该第二检测光束，以得出该些入射光束之一光点偏移量，并计算出一曲率。

5. 发明专利

TWI579540B 多點光譜系統有权
简体标题：多点光谱系统
公开(公告)号：TWI579540B
公开(公告)日：2017-04-21
申请号：TW104140286
申请日：2015-12-02
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：林雁容 , LIN, YAN RUNG , 陳心怡 , CHEN, HSIN YI , 葉佳良 , YEH, CHIA LIANG , 謝易辰 , HSIEH, YI CHEN
IPC分类号： G01J3/12 , G01J3/02
CPC分类号： H04N5/265 , G01J3/26 , G01J3/28 , G01J3/36 , G01J3/50 , G01J3/513 , G01J2003/1213 , G01J2003/2806 , G01J2003/516 , G02B3/0006 , G02B5/201 , G02B5/288 , G02B7/14 , G06K9/00536 , G06K9/00664 , G06K9/2018 , G06K9/46 , G06K9/4652 , G06K9/6215 , G06K9/6267 , G06K2009/4666 , G06K2209/17 , H04N5/2253 , H04N5/2254 , H04N5/2258 , H04N9/04

6. 发明专利

TW201708789A 散射量測系統及其方法审中-公开
简体标题：散射量测系统及其方法
公开(公告)号：TW201708789A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105125725
申请日：2016-08-12
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：葉佳良 , YEH, CHIA LIANG , 陳義昌 , CHEN, YI CHANG , 顧逸霞 , KU, YI SHA , 羅竣威 , LO, CHUN WEI
IPC分类号： G01B11/06
CPC分类号： G01B11/24 , G01B2210/56 , H01L22/12
摘要：本揭露為一種散射量測系統，該散射量測系統包括：產生不連續多波長光束之光源產生器，該多波長光束入射至一待測物後產生具有三維特徵資訊的多階繞射光束，具有感光陣列之感光器用於接收經該待測物後之多階繞射光束，並將所接收之該多階繞射光束轉換成具有該三維特徵資訊之多階繞射訊號，訊號處理裝置接收該多階繞射訊號，並比對該多階繞射訊號與預設建立在一資料庫內之多波長多階繞射特徵圖譜，以分析該待測物的三維特徵。透過本揭露之散射量測系統，即可得到具有待測物三維結構資訊之多階繞射訊號，且透過建立資料庫比對方式，可量測出待測物之三維形貌。
简体摘要：本揭露为一种散射量测系统，该散射量测系统包括：产生不连续多波长光束之光源产生器，该多波长光束入射至一待测物后产生具有三维特征信息的多阶绕射光束，具有感光数组之感光器用于接收经该待测物后之多阶绕射光束，并将所接收之该多阶绕射光束转换成具有该三维特征信息之多阶绕射信号，信号处理设备接收该多阶绕射信号，并比对该多阶绕射信号与默认创建在一数据库内之多波长多阶绕射特征图谱，以分析该待测物的三维特征。透过本揭露之散射量测系统，即可得到具有待测物三维结构信息之多阶绕射信号，且透过创建数据库比对方式，可量测出待测物之三维形貌。

7. 发明专利

TW201505121A 影像對位系統审中-公开
简体标题：影像对位系统
公开(公告)号：TW201505121A
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW102127280
申请日：2013-07-30
申请人：財團法人工業技術研究院 , INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE
发明人：葉佳良 , YEH, CHIA LIANG , 楊富程 , YANG, FU CHENG
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/66
摘要：一種影像對位系統，包括光源、鏡組、感測器、多面反射體及反射元件組，多面反射體至少包括具有反射性之第一面、第二面、第三面及第四面，反射元件組包括第一反射元件、第二反射元件、第三反射元件及第四反射元件，光源提供光束投射於待測物並產生一投射光，感測器分別接收來自鏡組之投射光經過第一面、第一反射面、第三反射面與第三面之一第一反射光，以及經過第二面、第二反射面、第四反射面與第四面之一第二反射光，以形成一視野範圍，改變多面反射體與反射元件組之相對位置，以改變視野範圍之大小。
简体摘要：一种影像对位系统，包括光源、镜组、传感器、多面反射体及反射组件组，多面反射体至少包括具有反射性之第一面、第二面、第三面及第四面，反射组件组包括第一反射组件、第二反射组件、第三反射组件及第四反射组件，光源提供光束投射于待测物并产生一投射光，传感器分别接收来自镜组之投射光经过第一面、第一反射面、第三反射面与第三面之一第一反射光，以及经过第二面、第二反射面、第四反射面与第四面之一第二反射光，以形成一视野范围，改变多面反射体与反射组件组之相对位置，以改变视野范围之大小。

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