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    • 9. 实用新型
    • 以光阻為罩蔽及以氣體為冷卻劑之粒子照射裝置
    • 以光阻为罩蔽及以气体为冷却剂之粒子照射设备
    • TWM266544U
    • 2005-06-01
    • TW093216815
    • 2004-10-22
    • 行政院原子能委員會-核能研究所 ATOMIC ENERGY COUNCIL- INSTITUTE OF NUCLEAR ENERGY RESEARCH
    • 藍國琪林立夫任天熹張添昌籃山明 LAN, SHAN MING辛華煜
    • H01L
    • 本創作係一種以光阻為罩蔽及以氣體為冷卻劑之粒子照射裝置,其包含:一由真空導管、一以上之噴管、一與真空導管對應之移動平台及可放置於移動平台上具光阻塗佈之之晶圓。該照射裝置之真空導管係可提供粒子束之行經路徑;而該各噴管係供噴射出所需之冷卻劑;該對應之移動平台係承載晶圓係與真空導管及噴管之出口對應;且該晶圓之一面預定處係層疊有一以上之光阻罩蔽,該光阻罩蔽之厚度係包括有一補償層、一遮蔽層以及一清洗層。藉此,由於使用氣體自光阻之照射面冷卻使光阻及晶圓具有較佳之散熱性,可用於較高能量(約指1MeV×10μA以上)的粒子束對晶圓的照射方法,如此可提高生產的速率及良率,以達到降低製作成本之功效。
    • 本创作系一种以光阻为罩蔽及以气体为冷却剂之粒子照射设备,其包含:一由真空导管、一以上之喷管、一与真空导管对应之移动平台及可放置于移动平台上具光阻涂布之之晶圆。该照射设备之真空导管系可提供粒子束之行经路径;而该各喷管系供喷射出所需之冷却剂;该对应之移动平台系承载晶圆系与真空导管及喷管之出口对应;且该晶圆之一面预定处系层叠有一以上之光阻罩蔽,该光阻罩蔽之厚度系包括有一补偿层、一屏蔽层以及一清洗层。借此,由于使用气体自光阻之照射面冷却使光阻及晶圆具有较佳之散热性,可用于较高能量(约指1MeV×10μA以上)的粒子束对晶圆的照射方法,如此可提高生产的速率及良率,以达到降低制作成本之功效。
    • 10. 实用新型
    • 具準直及散熱功能之粒子射束遮蔽罩裝置
    • 具准直及散热功能之粒子射束屏蔽罩设备
    • TW577628U
    • 2004-02-21
    • TW092209942
    • 2003-05-30
    • 行政院原子能委員會核能研究所 INSTITUTE OF NUCLEAR ENERGY RESEARCH, AEC
    • 林立夫藍國琪任天熹籃山明楊村農杜定賢辛華煜 SHIN, HWA YUH楊清田曹正熙張添昌耿台成 GUNNG, TAI CHENG楊慶威
    • H01L
    • 一種半導體製程用之粒子射束遮蔽罩裝置,主要用於以高能粒子射束照射晶片或晶圓局部區域之製程中,以阻擋高能量粒子。該裝置係由三部份組成:一射束罩、一準直器、及一承載框架。本創作之技術特徵在於利用射束罩之精密可加工性,提供準確控制高能粒子佈植區域的功能;並利用準直器過濾及吸收不需要與漫射之高能粒子,以減少射束罩在高能粒子照射下之曝露面積,同時可使入射粒子以較垂直且一致之角度入射;此外無論準直器或是具有冷卻迴路的承載框架均提供了快速排導熱能的功能,因此本創作之裝置將可以解決習知技術所遭遇之問題,大大提高其可利用性。五、(一)、本案代表圖為:第 圖三 圖
      (二)、本案代表圖之元件代表符號簡單說明:1-射束罩 2-準直器3-承載框架 31-冷卻迴路4-晶圓41-晶片上之所需粒子佈植區域
    • 一种半导体制程用之粒子射束屏蔽罩设备,主要用于以高能粒子射束照射芯片或晶圆局部区域之制程中,以阻挡高能量粒子。该设备系由三部份组成:一射束罩、一准直器、及一承载框架。本创作之技术特征在于利用射束罩之精密可加工性,提供准确控制高能粒子布植区域的功能;并利用准直器过滤及吸收不需要与漫射之高能粒子,以减少射束罩在高能粒子照射下之曝露面积,同时可使入射粒子以较垂直且一致之角度入射;此外无论准直器或是具有冷却回路的承载框架均提供了快速排导热能的功能,因此本创作之设备将可以解决习知技术所遭遇之问题,大大提高其可利用性。五、(一)、本案代表图为:第 图三 图 (二)、本案代表图之组件代表符号简单说明:1-射束罩 2-准直器3-承载框架 31-冷却回路4-晶圆41-芯片上之所需粒子布植区域