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1. 实用新型

TW577628U 具準直及散熱功能之粒子射束遮蔽罩裝置失效
简体标题：具准直及散热功能之粒子射束屏蔽罩设备
公开(公告)号：TW577628U
公开(公告)日：2004-02-21
申请号：TW092209942
申请日：2003-05-30
申请人：行政院原子能委員會核能研究所 INSTITUTE OF NUCLEAR ENERGY RESEARCH, AEC
发明人：林立夫 , 藍國琪 , 任天熹 , 籃山明 , 楊村農 , 杜定賢 , 辛華煜 SHIN, HWA YUH , 楊清田 , 曹正熙 , 張添昌 , 耿台成 GUNNG, TAI CHENG , 楊慶威
IPC分类号： H01L
摘要：一種半導體製程用之粒子射束遮蔽罩裝置，主要用於以高能粒子射束照射晶片或晶圓局部區域之製程中，以阻擋高能量粒子。該裝置係由三部份組成：一射束罩、一準直器、及一承載框架。本創作之技術特徵在於利用射束罩之精密可加工性，提供準確控制高能粒子佈植區域的功能；並利用準直器過濾及吸收不需要與漫射之高能粒子，以減少射束罩在高能粒子照射下之曝露面積，同時可使入射粒子以較垂直且一致之角度入射；此外無論準直器或是具有冷卻迴路的承載框架均提供了快速排導熱能的功能，因此本創作之裝置將可以解決習知技術所遭遇之問題，大大提高其可利用性。五、(一)、本案代表圖為：第圖三圖
(二)、本案代表圖之元件代表符號簡單說明：1-射束罩 2-準直器3-承載框架 31-冷卻迴路4-晶圓41-晶片上之所需粒子佈植區域
简体摘要：一种半导体制程用之粒子射束屏蔽罩设备，主要用于以高能粒子射束照射芯片或晶圆局部区域之制程中，以阻挡高能量粒子。该设备系由三部份组成：一射束罩、一准直器、及一承载框架。本创作之技术特征在于利用射束罩之精密可加工性，提供准确控制高能粒子布植区域的功能；并利用准直器过滤及吸收不需要与漫射之高能粒子，以减少射束罩在高能粒子照射下之曝露面积，同时可使入射粒子以较垂直且一致之角度入射；此外无论准直器或是具有冷却回路的承载框架均提供了快速排导热能的功能，因此本创作之设备将可以解决习知技术所遭遇之问题，大大提高其可利用性。五、(一)、本案代表图为：第图三图 (二)、本案代表图之组件代表符号简单说明：1-射束罩 2-准直器3-承载框架 31-冷却回路4-晶圆41-芯片上之所需粒子布植区域

2. 实用新型

TWM252139U 高能粒子束照射晶圓之轉盤裝置失效
简体标题：高能粒子束照射晶圆之转盘设备
公开(公告)号：TWM252139U
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：TW093202832
申请日：2004-02-27
申请人：行政院原子能委員會核能研究所 INSTITUTE OF NUCLEAR ENERGY RESEARCH, AEC
发明人：林立夫 , 藍國琪 , 任天熹 , 范光欽 , 張添昌 , 楊齊飛 , 楊村農 , 籃山明 , 杜定賢 , 林武智 LIN, WUU JYH , 楊玉堂 , 胡迪安 , 許銘喨
IPC分类号： H01L
摘要：一種高能粒子束照射晶圓之轉盤裝置，可使晶圓於高能粒子束照射時迅速將熱量導離，以維持較低操作溫度，並可一次完成數片晶圓之照射，以增快生產速率。本創作主要是由一高能粒子束導引裝置、一反應腔、一轉盤式承載裝置、一往返移動台車、一組平移驅動裝置以及一組旋轉驅動裝置所構成，其中轉盤式承載裝置置於反應腔內部，而反應腔則安裝於在往返移動台車上，在高能粒子束方向固定狀況下，兩組驅動裝置分別驅動轉盤式承載裝置旋轉與往返移動台車往返移動，可使晶圓表面均勻地承受粒子束之照射，而該反應腔與該轉盤式承載裝置內部之導熱散熱裝置，係可使晶圓於真空環境中，完成快速之粒子束照射步驟。
简体摘要：一种高能粒子束照射晶圆之转盘设备，可使晶圆于高能粒子束照射时迅速将热量导离，以维持较低操作温度，并可一次完成数片晶圆之照射，以增快生产速率。本创作主要是由一高能粒子束导引设备、一反应腔、一转盘式承载设备、一往返移动台车、一组平移驱动设备以及一组旋转驱动设备所构成，其中转盘式承载设备置于反应腔内部，而反应腔则安装于在往返移动台车上，在高能粒子束方向固定状况下，两组驱动设备分别驱动转盘式承载设备旋转与往返移动台车往返移动，可使晶圆表面均匀地承受粒子束之照射，而该反应腔与该转盘式承载设备内部之导热散热设备，系可使晶圆于真空环境中，完成快速之粒子束照射步骤。

3. 实用新型

TWM255426U 一種用於晶圓與射束遮蔽罩對位之調整裝置失效
简体标题：一种用于晶圆与射束屏蔽罩对位之调整设备
公开(公告)号：TWM255426U
公开(公告)日：2005-01-11
申请号：TW093202833
申请日：2004-02-27
申请人：行政院原子能委員會核能研究所 INSTITUTE OF NUCLEAR ENERGY RESEARCH, AEC
发明人：林立夫 , 藍國琪 , 林政良 , 任天熹 , 張添昌 , 楊齊飛 , 楊村農 , 林武智 LIN, WUU JYH , 杜定賢 , 楊玉堂 , 胡迪安
IPC分类号： G03F
摘要：一種用於晶圓與射束遮蔽罩對位之調整裝置，其中包括有待對位調整組件、基板、固定裝置、複數個頂舉裝置、射束遮蔽罩移位裝置、三軸滑台、影像感應裝置及運動控制裝置；其中待對位調整組件又包括有射束遮蔽罩、晶圓、照射靶及複數個彈性結合裝置，當待對位調整組件放置於基板上，固定裝置將照射靶夾緊固定，頂舉裝置頂起彈性結合裝置，藉由影像感應裝置比對射束遮蔽罩與晶圓間之位置誤差，運動控制裝置則負責驅動射束遮蔽罩移位裝置及三軸滑台，射束遮蔽罩移位裝置可移動射束遮蔽罩，三軸滑台移動整個基板，經過往覆的比對及移動，將晶圓與射束遮蔽罩間之定位誤差縮小至允許之範圍內。
简体摘要：一种用于晶圆与射束屏蔽罩对位之调整设备，其中包括有待对位调整组件、基板、固定设备、复数个顶举设备、射束屏蔽罩移位设备、三轴滑台、影像感应设备及运动控制设备；其中待对位调整组件又包括有射束屏蔽罩、晶圆、照射靶及复数个弹性结合设备，当待对位调整组件放置于基板上，固定设备将照射靶夹紧固定，顶举设备顶起弹性结合设备，借由影像感应设备比对射束屏蔽罩与晶圆间之位置误差，运动控制设备则负责驱动射束屏蔽罩移位设备及三轴滑台，射束屏蔽罩移位设备可移动射束屏蔽罩，三轴滑台移动整个基板，经过往覆的比对及移动，将晶圆与射束屏蔽罩间之定位误差缩小至允许之范围内。

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