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1. 发明专利

JP2017022308A インプリント用のテンプレート製造装置及びテンプレート製造方法审中-公开
标题翻译：模板的制造装置和模板压印制造方法
公开(公告)号：JP2017022308A
公开(公告)日：2017-01-26
申请号：JP2015140425
申请日：2015-07-14
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社 , 株式会社東芝
发明人：出村健介 , 中村聡 , 松嶋大輔 , 幡野正之 , 柏木宏之
IPC分类号： B29C59/02 , B29C33/42 , H01L21/027
CPC分类号： B29C33/42 , B29C59/02 , H01L21/027
摘要：【課題】パターン異常及びテンプレート異常の発生を抑えることが可能なインプリント用テンプレートを製造することができるテンプレート製造装置及びテンプレート製造方法を提供する。【解決手段】実施形態に係るインプリント用のテンプレート製造装置1は、凹凸パターンが形成された凸部を有する、ステージ上のテンプレートWに液状の撥液材を供給する供給ヘッド11と、供給ヘッド11及びステージをステージに沿う方向に相対移動させる移動機構と、供給ヘッド11が凹凸パターンを避けて少なくとも凸部の側面に液状の撥液材を塗布するように供給ヘッド11及び移動機構を制御する制御部40と、液状の撥液材が塗布されたテンプレートWに液体を供給する洗浄部30とを備える。液状の撥液材は、テンプレートWの表面と反応する撥液成分及び非撥液成分と、撥液成分を溶かす揮発性溶剤とを含む。前述の液体は、非撥液成分を溶かすフッ素系の揮発性溶剤である。【選択図】図1
摘要翻译：为了提供能够产生能够压印模板抑制模板异常的发生的图案异常和模板制造装置和模板的制造方法。根据第一实施例的压印模板制造装置，具有形成有凹凸图形的凸部，用于在舞台上供应液体的疏液性的材料与模板W上的供给头11，分配头和11和用于在一个方向上沿平台相对移动上载物台移动机构，供给头11，以控制供给头11和移动机构，以便施加的液体的疏液性的材料的至少凸部的侧表面上，以避免不平坦图案和控制单元40，以及用于向模板W¯¯防液材料供给液体的清洁单元30以液体形式被施加。疏液材料的液体包括液体排斥和液体非驱避剂成分，其与模板的表面反应是W，挥发性溶剂以溶解疏液部件。上述液体是氟溶解非疏液性成分的挥发性溶剂。点域1

2. 发明专利

JP2017022307A インプリント用のテンプレート製造装置及びテンプレート製造方法审中-公开
标题翻译：模板的制造装置和模板压印制造方法
公开(公告)号：JP2017022307A
公开(公告)日：2017-01-26
申请号：JP2015140424
申请日：2015-07-14
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社 , 株式会社東芝
发明人：出村健介 , 中村聡 , 松嶋大輔 , 幡野正之 , 柏木宏之
IPC分类号： B29C59/02 , B29C33/38 , H01L21/027
CPC分类号： B29C33/38 , B29C59/02 , H01L21/027
摘要：【課題】パターン異常及びテンプレート異常の発生を抑えることが可能なインプリント用テンプレートを製造することができるテンプレート製造装置及びテンプレート製造方法を提供する。【解決手段】実施形態に係るインプリント用のテンプレート製造装置は、凹凸パターンが形成された凸部52を有するテンプレートWを支持するステージ13と、ステージ13上のテンプレートWに液状の撥液材を供給する供給ヘッド11と、供給ヘッド11及びステージ13をステージ13に沿う方向に相対移動させる移動機構15、17A及び17Bと、供給ヘッド11が凹凸パターンを避けて少なくとも凸部52の側面に液状の撥液材を塗布するように供給ヘッド11及び移動機構を制御する制御部40とを備える。液状の撥液材は、テンプレートWの表面と反応する撥液成分及び非撥液成分と、撥液成分を溶かす揮発性溶剤と、非撥液成分を溶かすフッ素系の揮発性溶剤とを含む。【選択図】図3
摘要翻译：为了提供能够产生能够压印模板抑制模板异常的发生的图案异常和模板制造装置和模板的制造方法。对于根据本实施例压印模板制造装置包括一个平台13，用于支撑模板W的凸部52具有不平坦图案形成在其上，所述液体与模板W的上载物台13疏液性材料用于供给的移动机构15,17A和17B的供给头11相对于沿进给头11和台13的阶段13中，至少在凸部52的侧表面上的液体的供给头11的方向移动，以避免凹凸图案和用于控制该供给头11的控制单元40和移动机构，以便施加疏液性材料。疏液材料的液体包括液体排斥和液体非驱避剂成分，其与模板W的表面发生反应，挥发性溶剂以溶解疏液部件和所述氟溶解非疏液性成分的挥发性溶剂。点域

3. 发明专利

JP2016195228A インプリント用のテンプレート製造装置审中-公开
标题翻译：用于制造印模的装置
公开(公告)号：JP2016195228A
公开(公告)日：2016-11-17
申请号：JP2015113045
申请日：2015-06-03
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社 , 株式会社東芝
发明人：中村聡 , 出村健介 , 松嶋大輔 , 幡野正之 , 柏木宏之
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027
CPC分类号： B05C5/0225 , B05C5/0204 , B29C33/3842 , B29C59/022 , G03F7/0002
摘要：【課題】パターン異常及びテンプレート異常の発生を抑えることが可能なインプリント用のテンプレートを製造することができるテンプレート製造装置を提供する。【解決手段】実施形態に係るインプリント用のテンプレート製造装置1は、主面を有する基体11と、主面上に設けられ、主面と反対側の端面を有し、凹凸パターンがその端面に形成された凸部12とにより構成されたテンプレートWを支持するステージ3と、ステージ3上のテンプレートWに液状の撥液材を供給する供給ヘッド4と、ステージ3及び供給ヘッド4をステージ3に沿う方向に相対移動させる移動機構(Y軸移動機構6や一対のX軸移動機構8A及び8B)と、供給ヘッド4が凹凸パターンを避けて少なくとも凸部12の側面に液状の撥液材を塗布するように供給ヘッド4及び移動機構を制御する制御部9とを備える。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种模板制造装置，其能够制造能够抑制图案异常和模板异常发生的印模用模板。解决方案：制造印模用模板的装置1包括：用于支撑模板的载物台3 W由具有主表面的基板11和设置在主表面上并且在与主表面相对的一侧的端面在其端面上形成有凹凸图案的突起12构成; 供给头4，用于向台架3上的模板W供给拒水材料; 用于使台架3和供给头4沿着台架3的方向相对移动的移动机构（Y轴运动机构6和一对X轴运动机构8A和8B）以及控制部9，用于控制供给头4和移动机构，以便通过使供给头4避免不均匀的图案来在至少突起12的侧表面上涂覆防液材料。图1

4. 发明专利

JP2016195247A インプリント用のテンプレート製造装置审中-公开
标题翻译：用于制造印模的装置
公开(公告)号：JP2016195247A
公开(公告)日：2016-11-17
申请号：JP2016062077
申请日：2016-03-25
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社 , 株式会社東芝
发明人：中村聡 , 出村健介 , 松嶋大輔 , 幡野正之 , 柏木宏之 , 陳康 , イヴァンペトロフガナシェフ
IPC分类号： B29C59/02 , B29C33/38 , H01L21/027
CPC分类号： C23C14/042 , B29C33/3842 , B29C59/022 , C23C14/246 , G03F7/0002
摘要：【課題】パターン異常及びテンプレート異常の発生を抑えることが可能なインプリント用のテンプレートを製造することができるテンプレート製造装置を提供する。【解決手段】実施形態に係るインプリント用のテンプレート製造装置1は、主面を有する基体11と、主面上に設けられ、主面と反対側の端面を有し、凹凸パターンがその端面に形成された凸部12とにより構成されたテンプレートWを、凸部12を下方に向けて支持する支持部3と、支持部3上のテンプレートWの下方に設けられ、撥液材を気化させる気化部5と、支持部3上のテンプレートWの下方に設けられ、気化した撥液材が支持部3上のテンプレートWの凸部12の側面に付着することを許し、凹凸パターンに付着することを防止する防着板7とを備える。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种可以制造能够抑制图案异常和模板异常发生的印模模板的模板制造装置。解决方案：用于制造压印模板的装置1包括：支撑部件3，模板W由具有主表面的基板11和设置在主表面上并且在与主表面相反的一侧具有端面的突起12和形成在其表面上的不平坦图案构成，通过引导突起12到下部; 蒸发部5，其设置在支撑部3上的模板W的下部，并蒸发疏液材料; 以及设置在支撑部3上的模板W的下部的防止沉积板7，其能够使汽化的防液性材料附着在支撑部3上的模板W的突起12的侧面并且防止其粘附到不均匀的图案。选择图：图1

5. 发明专利

JP2016195169A インプリント用のテンプレート审中-公开
标题翻译：模版模板
公开(公告)号：JP2016195169A
公开(公告)日：2016-11-17
申请号：JP2015074108
申请日：2015-03-31
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社 , 株式会社東芝
发明人：中村聡 , 出村健介 , 松嶋大輔 , 幡野正之 , 柏木宏之
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027
CPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027
摘要：【課題】パターン異常及びテンプレート異常の発生を抑えることができるインプリント用のテンプレートを提供する。【解決手段】実施形態に係るインプリント用のテンプレート1は、主面2aを有する基体2と、主面2a上に設けられ、主面2aと反対側に端面を有し、液状の被転写物に押し付ける凹凸パターン3aがその端面に形成された凸部3と、凹凸パターン3aを避けて少なくとも凸部3の側面に形成され、液状の被転写物を弾く撥液層4とを備える。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供能够抑制图案异常和模板异常发生的印记模板。解决方案：用于印记的模板1包括：具有主表面2a的物质2; 在主表面2a上设置有在与主表面2a相对的一侧上的端面，并且在其表面上形成有压在液体转印体上的凹凸图案3a的突起3; 以及通过避免不均匀图案3a而形成在至少突起3的侧表面上的液体排斥层4，并且翻转液体转移物体。图1

6. 发明专利

JP6532419B2 インプリント用のテンプレート製造装置有权
公开(公告)号：JP6532419B2
公开(公告)日：2019-06-19
申请号：JP2016062077
申请日：2016-03-25
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社 , 東芝メモリ株式会社
发明人：中村聡 , 出村健介 , 松嶋大輔 , 幡野正之 , 柏木宏之 , 陳康 , イヴァンペトロフガナシェフ
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027 , B29C33/38

7. 发明专利

JP6486206B2 インプリント用のテンプレート製造装置有权
公开(公告)号：JP6486206B2
公开(公告)日：2019-03-20
申请号：JP2015113045
申请日：2015-06-03
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社 , 東芝メモリ株式会社
发明人：中村聡 , 出村健介 , 松嶋大輔 , 幡野正之 , 柏木宏之
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027

8. 发明专利

JP2016225370A テンプレートおよびパターン形成方法有权
标题翻译：模板和图案形成方法
公开(公告)号：JP2016225370A
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：JP2015107823
申请日：2015-05-27
申请人：株式会社東芝
发明人：河村嘉久 , 幡野正之 , 小松瑶子 , 柏木宏之
IPC分类号： B29C59/02 , B29C33/42 , H01L21/027
CPC分类号： B29C33/424 , B29C43/021 , B29C43/36 , H01L21/02118 , H01L21/02318 , H01L21/02348 , B29C2033/426 , B29L2031/34 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , Y10S977/887
摘要：【課題】インプリント処理時にテンプレートのパターン形成面からその外周部へのレジストの染み出しを防止するテンプレートを提供する。【解決手段】テンプレート基板10の一方の主面に凹凸パターンが形成されたテンプレートが提供される。テンプレートは、凹凸パターンが配置されるパターン配置領域の周囲に沿って、レジストに対して撥液性を有する撥液パターン32を備える。【選択図】図3
摘要翻译：为了提供一个模板，以防止它们的压印的外周部时的抗蚀剂从所述模板的图案形成面渗水。被设置在形成于模板基板10的一个主表面的模板凹凸图案。模板，沿其中不平坦图案被布置在图案区域的周围，并且具有相对于所述抗蚀剂液体排斥性疏液性的图案32。点域

9. 发明专利

JP2017053823A 電子線照射装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017053823A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：JP2015180089
申请日：2015-09-11
申请人：株式会社東芝
发明人：松木一人 , 鈴木良市 , 柏木宏之 , 佐藤隆
IPC分类号： G21K5/10 , G21K5/04
CPC分类号： H01J37/073 , G21K5/04 , H01J33/00 , H01J37/20 , H01J2237/202
摘要：【課題】電子線の照射ムラを抑制可能な電子線照射装置を提供する。【解決手段】電子線照射装置は、ステージと、本体部と、第1機構と、を含む。本体部は、ステージの上に設けられる。本体部は、基板と、複数の第1部材と、第1層と、を含む。複数の第1部材は、基板のステージと対向する第1面に設けられ、第1方向と交差する第2方向に離間して並ぶ。第1層は、ステージと複数の第1部材との間、及び、ステージと基板との間に設けられる。第1層は、光線を電子線に変換する。第1機構は、ステージ及び本体部の少なくともいずれかに設けられる。第1機構は、ステージ及び本体部の少なくともいずれかを、第2方向に相対的に移動させる。移動の距離は、第1部材の第2方向における中心と、第1部材と隣り合う別の第1部材の第2方向における中心と、の間隔以上である。【選択図】図1

10. 发明专利

JP2016046346A テンプレート、テンプレート形成方法および半導体装置の製造方法有权
标题翻译：模板，模板形成方法和制造半导体器件的方法
公开(公告)号：JP2016046346A
公开(公告)日：2016-04-04
申请号：JP2014168551
申请日：2014-08-21
申请人：株式会社東芝
发明人：徳江寛 , 幡野正之 , 小松瑶子 , 柏木宏之 , 辻真俊
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027
CPC分类号： B24C1/04 , B29C33/3842 , B29C59/026 , G03F7/0002 , B29K2101/00 , B29L2031/00 , B29L2031/34
摘要：【課題】離型力を減少させつつ充填性を高めることができるテンプレートを提供すること。【解決手段】実施形態によれば、テンプレートが提供される。前記テンプレートは、凸部パターンおよび凹部パターンを有したテンプレートパターンを備えている。前記テンプレートには、レジストに対する接触角が所定値よりも高い高接触角部が配置されている。前記高接触角部は、前記テンプレートパターンの壁面のうち、前記凸部パターンの頂上面と、前記凹部パターンの谷底面との少なくとも一方の面である配置面に配置されている。【選択図】図4
摘要翻译：要解决的问题：提供能够提高填充性能同时降低释放力的模板。解决方案：模板包括具有凸部图案和凹部图案的模板图案。具有高于预定值的抗蚀剂接触角的高接触角部分布置在模板上。高接触角部分布置在布置表面上，即凸部图案的顶表面和凹部图案的谷底表面中的至少一个，离开模板图案的壁表面。选定的图示：图4

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