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1. 发明专利

JP2016195228A インプリント用のテンプレート製造装置审中-公开
标题翻译：用于制造印模的装置
公开(公告)号：JP2016195228A
公开(公告)日：2016-11-17
申请号：JP2015113045
申请日：2015-06-03
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社 , 株式会社東芝
发明人：中村聡 , 出村健介 , 松嶋大輔 , 幡野正之 , 柏木宏之
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027
CPC分类号： B05C5/0225 , B05C5/0204 , B29C33/3842 , B29C59/022 , G03F7/0002
摘要：【課題】パターン異常及びテンプレート異常の発生を抑えることが可能なインプリント用のテンプレートを製造することができるテンプレート製造装置を提供する。【解決手段】実施形態に係るインプリント用のテンプレート製造装置1は、主面を有する基体11と、主面上に設けられ、主面と反対側の端面を有し、凹凸パターンがその端面に形成された凸部12とにより構成されたテンプレートWを支持するステージ3と、ステージ3上のテンプレートWに液状の撥液材を供給する供給ヘッド4と、ステージ3及び供給ヘッド4をステージ3に沿う方向に相対移動させる移動機構(Y軸移動機構6や一対のX軸移動機構8A及び8B)と、供給ヘッド4が凹凸パターンを避けて少なくとも凸部12の側面に液状の撥液材を塗布するように供給ヘッド4及び移動機構を制御する制御部9とを備える。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种模板制造装置，其能够制造能够抑制图案异常和模板异常发生的印模用模板。解决方案：制造印模用模板的装置1包括：用于支撑模板的载物台3 W由具有主表面的基板11和设置在主表面上并且在与主表面相对的一侧的端面在其端面上形成有凹凸图案的突起12构成; 供给头4，用于向台架3上的模板W供给拒水材料; 用于使台架3和供给头4沿着台架3的方向相对移动的移动机构（Y轴运动机构6和一对X轴运动机构8A和8B）以及控制部9，用于控制供给头4和移动机构，以便通过使供给头4避免不均匀的图案来在至少突起12的侧表面上涂覆防液材料。图1

2. 发明专利

JP2017022307A インプリント用のテンプレート製造装置及びテンプレート製造方法审中-公开
标题翻译：模板的制造装置和模板压印制造方法
公开(公告)号：JP2017022307A
公开(公告)日：2017-01-26
申请号：JP2015140424
申请日：2015-07-14
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社 , 株式会社東芝
发明人：出村健介 , 中村聡 , 松嶋大輔 , 幡野正之 , 柏木宏之
IPC分类号： B29C59/02 , B29C33/38 , H01L21/027
CPC分类号： B29C33/38 , B29C59/02 , H01L21/027
摘要：【課題】パターン異常及びテンプレート異常の発生を抑えることが可能なインプリント用テンプレートを製造することができるテンプレート製造装置及びテンプレート製造方法を提供する。【解決手段】実施形態に係るインプリント用のテンプレート製造装置は、凹凸パターンが形成された凸部52を有するテンプレートWを支持するステージ13と、ステージ13上のテンプレートWに液状の撥液材を供給する供給ヘッド11と、供給ヘッド11及びステージ13をステージ13に沿う方向に相対移動させる移動機構15、17A及び17Bと、供給ヘッド11が凹凸パターンを避けて少なくとも凸部52の側面に液状の撥液材を塗布するように供給ヘッド11及び移動機構を制御する制御部40とを備える。液状の撥液材は、テンプレートWの表面と反応する撥液成分及び非撥液成分と、撥液成分を溶かす揮発性溶剤と、非撥液成分を溶かすフッ素系の揮発性溶剤とを含む。【選択図】図3
摘要翻译：为了提供能够产生能够压印模板抑制模板异常的发生的图案异常和模板制造装置和模板的制造方法。对于根据本实施例压印模板制造装置包括一个平台13，用于支撑模板W的凸部52具有不平坦图案形成在其上，所述液体与模板W的上载物台13疏液性材料用于供给的移动机构15,17A和17B的供给头11相对于沿进给头11和台13的阶段13中，至少在凸部52的侧表面上的液体的供给头11的方向移动，以避免凹凸图案和用于控制该供给头11的控制单元40和移动机构，以便施加疏液性材料。疏液材料的液体包括液体排斥和液体非驱避剂成分，其与模板W的表面发生反应，挥发性溶剂以溶解疏液部件和所述氟溶解非疏液性成分的挥发性溶剂。点域

3. 发明专利

JP2016195247A インプリント用のテンプレート製造装置审中-公开
标题翻译：用于制造印模的装置
公开(公告)号：JP2016195247A
公开(公告)日：2016-11-17
申请号：JP2016062077
申请日：2016-03-25
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社 , 株式会社東芝
发明人：中村聡 , 出村健介 , 松嶋大輔 , 幡野正之 , 柏木宏之 , 陳康 , イヴァンペトロフガナシェフ
IPC分类号： B29C59/02 , B29C33/38 , H01L21/027
CPC分类号： C23C14/042 , B29C33/3842 , B29C59/022 , C23C14/246 , G03F7/0002
摘要：【課題】パターン異常及びテンプレート異常の発生を抑えることが可能なインプリント用のテンプレートを製造することができるテンプレート製造装置を提供する。【解決手段】実施形態に係るインプリント用のテンプレート製造装置1は、主面を有する基体11と、主面上に設けられ、主面と反対側の端面を有し、凹凸パターンがその端面に形成された凸部12とにより構成されたテンプレートWを、凸部12を下方に向けて支持する支持部3と、支持部3上のテンプレートWの下方に設けられ、撥液材を気化させる気化部5と、支持部3上のテンプレートWの下方に設けられ、気化した撥液材が支持部3上のテンプレートWの凸部12の側面に付着することを許し、凹凸パターンに付着することを防止する防着板7とを備える。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种可以制造能够抑制图案异常和模板异常发生的印模模板的模板制造装置。解决方案：用于制造压印模板的装置1包括：支撑部件3，模板W由具有主表面的基板11和设置在主表面上并且在与主表面相反的一侧具有端面的突起12和形成在其表面上的不平坦图案构成，通过引导突起12到下部; 蒸发部5，其设置在支撑部3上的模板W的下部，并蒸发疏液材料; 以及设置在支撑部3上的模板W的下部的防止沉积板7，其能够使汽化的防液性材料附着在支撑部3上的模板W的突起12的侧面并且防止其粘附到不均匀的图案。选择图：图1

4. 发明专利

JP2016195169A インプリント用のテンプレート审中-公开
标题翻译：模版模板
公开(公告)号：JP2016195169A
公开(公告)日：2016-11-17
申请号：JP2015074108
申请日：2015-03-31
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社 , 株式会社東芝
发明人：中村聡 , 出村健介 , 松嶋大輔 , 幡野正之 , 柏木宏之
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027
CPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027
摘要：【課題】パターン異常及びテンプレート異常の発生を抑えることができるインプリント用のテンプレートを提供する。【解決手段】実施形態に係るインプリント用のテンプレート1は、主面2aを有する基体2と、主面2a上に設けられ、主面2aと反対側に端面を有し、液状の被転写物に押し付ける凹凸パターン3aがその端面に形成された凸部3と、凹凸パターン3aを避けて少なくとも凸部3の側面に形成され、液状の被転写物を弾く撥液層4とを備える。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供能够抑制图案异常和模板异常发生的印记模板。解决方案：用于印记的模板1包括：具有主表面2a的物质2; 在主表面2a上设置有在与主表面2a相对的一侧上的端面，并且在其表面上形成有压在液体转印体上的凹凸图案3a的突起3; 以及通过避免不均匀图案3a而形成在至少突起3的侧表面上的液体排斥层4，并且翻转液体转移物体。图1

5. 发明专利

JP2017022308A インプリント用のテンプレート製造装置及びテンプレート製造方法审中-公开
标题翻译：模板的制造装置和模板压印制造方法
公开(公告)号：JP2017022308A
公开(公告)日：2017-01-26
申请号：JP2015140425
申请日：2015-07-14
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社 , 株式会社東芝
发明人：出村健介 , 中村聡 , 松嶋大輔 , 幡野正之 , 柏木宏之
IPC分类号： B29C59/02 , B29C33/42 , H01L21/027
CPC分类号： B29C33/42 , B29C59/02 , H01L21/027
摘要：【課題】パターン異常及びテンプレート異常の発生を抑えることが可能なインプリント用テンプレートを製造することができるテンプレート製造装置及びテンプレート製造方法を提供する。【解決手段】実施形態に係るインプリント用のテンプレート製造装置1は、凹凸パターンが形成された凸部を有する、ステージ上のテンプレートWに液状の撥液材を供給する供給ヘッド11と、供給ヘッド11及びステージをステージに沿う方向に相対移動させる移動機構と、供給ヘッド11が凹凸パターンを避けて少なくとも凸部の側面に液状の撥液材を塗布するように供給ヘッド11及び移動機構を制御する制御部40と、液状の撥液材が塗布されたテンプレートWに液体を供給する洗浄部30とを備える。液状の撥液材は、テンプレートWの表面と反応する撥液成分及び非撥液成分と、撥液成分を溶かす揮発性溶剤とを含む。前述の液体は、非撥液成分を溶かすフッ素系の揮発性溶剤である。【選択図】図1
摘要翻译：为了提供能够产生能够压印模板抑制模板异常的发生的图案异常和模板制造装置和模板的制造方法。根据第一实施例的压印模板制造装置，具有形成有凹凸图形的凸部，用于在舞台上供应液体的疏液性的材料与模板W上的供给头11，分配头和11和用于在一个方向上沿平台相对移动上载物台移动机构，供给头11，以控制供给头11和移动机构，以便施加的液体的疏液性的材料的至少凸部的侧表面上，以避免不平坦图案和控制单元40，以及用于向模板W¯¯防液材料供给液体的清洁单元30以液体形式被施加。疏液材料的液体包括液体排斥和液体非驱避剂成分，其与模板的表面反应是W，挥发性溶剂以溶解疏液部件。上述液体是氟溶解非疏液性成分的挥发性溶剂。点域1

6. 发明专利

JP2021168343A 基板処理装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021168343A
公开(公告)日：2021-10-21
申请号：JP2020070972
申请日：2020-04-10
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：中村美波 , 服部圭 , 松嶋大輔 , 出村健介 , 神谷将也
IPC分类号： H01L21/304
摘要：【課題】凍結前の液体が基板の周縁から排出されるのを抑制することができる基板処理装置を提供することである。【解決手段】実施形態に係る基板処理装置は、基板を支持可能な載置台と、前記載置台と、前記基板と、の間の空間に、冷却ガスを供給可能な冷却部と、前記基板の、前記載置台側とは反対側の面に液体を供給可能な液体供給部と、板状を呈し、前記基板の周縁を囲むプレートと、少なくとも、前記プレートの、前記載置台側とは反対側の面に設けられ、前記基板よりも前記液体をはじきやすい性質を有する撥液部と、を備えている。【選択図】図4

7. 发明专利

JP6501519B2 多層レジストの除去方法、およびプラズマ処理装置有权
公开(公告)号：JP6501519B2
公开(公告)日：2019-04-17
申请号：JP2014266191
申请日：2014-12-26
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：出村健介 , 松嶋大輔 , 中村聡 , 笹平幸之介
IPC分类号： H01L21/027 , H05H1/46 , H05H3/02 , H01L21/3065

8. 发明专利

JP2018157233A 洗浄システム、および洗浄方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018157233A
公开(公告)日：2018-10-04
申请号：JP2018127156
申请日：2018-07-03
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：出村健介 , 松嶋大輔 , 中村聡 , 鈴木将文
IPC分类号： B08B3/02 , B08B7/00 , H01L21/304
摘要：【課題】残留成分の除去を効果的に行うことができる洗浄システム、および洗浄方法を提供することである。【解決手段】実施形態に係る洗浄システムは、被処理物に第1の溶液を供給する第1の供給部と、前記第1の溶液が供給された被処理物に第2の溶液を供給する第2の供給部と、前記第2の溶液が供給された被処理物を乾燥させる乾燥部と、大気圧よりも減圧された雰囲気を維持可能な容器と、前記容器の内部に載置された前記乾燥させた被処理物を加熱する加熱部と、前記容器の内部にガスを供給するガス供給部と、前記容器の内部を所定の圧力まで減圧する減圧部と、を備えている。【選択図】図1

9. 发明专利

JP6067372B2 プラズマ処理装置有权
公开(公告)号：JP6067372B2
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：JP2012287550
申请日：2012-12-28
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：出村健介
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/027 , H01L21/3065

10. 发明专利

JP6833923B2 反射型マスクの洗浄装置および反射型マスクの洗浄方法有权
公开(公告)号：JP6833923B2
公开(公告)日：2021-02-24
申请号：JP2019137845
申请日：2019-07-26
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：松嶋大輔 , 出村健介 , 鈴木将文 , 中村聡
IPC分类号： G03F1/24 , B08B3/02 , H01L21/304 , G03F1/82

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