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1. 发明专利

JP2016225370A テンプレートおよびパターン形成方法有权
标题翻译：模板和图案形成方法
公开(公告)号：JP2016225370A
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：JP2015107823
申请日：2015-05-27
申请人：株式会社東芝
发明人：河村嘉久 , 幡野正之 , 小松瑶子 , 柏木宏之
IPC分类号： B29C59/02 , B29C33/42 , H01L21/027
CPC分类号： B29C33/424 , B29C43/021 , B29C43/36 , H01L21/02118 , H01L21/02318 , H01L21/02348 , B29C2033/426 , B29L2031/34 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , Y10S977/887
摘要：【課題】インプリント処理時にテンプレートのパターン形成面からその外周部へのレジストの染み出しを防止するテンプレートを提供する。【解決手段】テンプレート基板10の一方の主面に凹凸パターンが形成されたテンプレートが提供される。テンプレートは、凹凸パターンが配置されるパターン配置領域の周囲に沿って、レジストに対して撥液性を有する撥液パターン32を備える。【選択図】図3
摘要翻译：为了提供一个模板，以防止它们的压印的外周部时的抗蚀剂从所述模板的图案形成面渗水。被设置在形成于模板基板10的一个主表面的模板凹凸图案。模板，沿其中不平坦图案被布置在图案区域的周围，并且具有相对于所述抗蚀剂液体排斥性疏液性的图案32。点域

3. 发明专利

JP2017022307A インプリント用のテンプレート製造装置及びテンプレート製造方法审中-公开
标题翻译：模板的制造装置和模板压印制造方法
公开(公告)号：JP2017022307A
公开(公告)日：2017-01-26
申请号：JP2015140424
申请日：2015-07-14
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社 , 株式会社東芝
发明人：出村健介 , 中村聡 , 松嶋大輔 , 幡野正之 , 柏木宏之
IPC分类号： B29C59/02 , B29C33/38 , H01L21/027
CPC分类号： B29C33/38 , B29C59/02 , H01L21/027
摘要：【課題】パターン異常及びテンプレート異常の発生を抑えることが可能なインプリント用テンプレートを製造することができるテンプレート製造装置及びテンプレート製造方法を提供する。【解決手段】実施形態に係るインプリント用のテンプレート製造装置は、凹凸パターンが形成された凸部52を有するテンプレートWを支持するステージ13と、ステージ13上のテンプレートWに液状の撥液材を供給する供給ヘッド11と、供給ヘッド11及びステージ13をステージ13に沿う方向に相対移動させる移動機構15、17A及び17Bと、供給ヘッド11が凹凸パターンを避けて少なくとも凸部52の側面に液状の撥液材を塗布するように供給ヘッド11及び移動機構を制御する制御部40とを備える。液状の撥液材は、テンプレートWの表面と反応する撥液成分及び非撥液成分と、撥液成分を溶かす揮発性溶剤と、非撥液成分を溶かすフッ素系の揮発性溶剤とを含む。【選択図】図3
摘要翻译：为了提供能够产生能够压印模板抑制模板异常的发生的图案异常和模板制造装置和模板的制造方法。对于根据本实施例压印模板制造装置包括一个平台13，用于支撑模板W的凸部52具有不平坦图案形成在其上，所述液体与模板W的上载物台13疏液性材料用于供给的移动机构15,17A和17B的供给头11相对于沿进给头11和台13的阶段13中，至少在凸部52的侧表面上的液体的供给头11的方向移动，以避免凹凸图案和用于控制该供给头11的控制单元40和移动机构，以便施加疏液性材料。疏液材料的液体包括液体排斥和液体非驱避剂成分，其与模板W的表面发生反应，挥发性溶剂以溶解疏液部件和所述氟溶解非疏液性成分的挥发性溶剂。点域

4. 发明专利

JP2017022308A インプリント用のテンプレート製造装置及びテンプレート製造方法审中-公开
标题翻译：模板的制造装置和模板压印制造方法
公开(公告)号：JP2017022308A
公开(公告)日：2017-01-26
申请号：JP2015140425
申请日：2015-07-14
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社 , 株式会社東芝
发明人：出村健介 , 中村聡 , 松嶋大輔 , 幡野正之 , 柏木宏之
IPC分类号： B29C59/02 , B29C33/42 , H01L21/027
CPC分类号： B29C33/42 , B29C59/02 , H01L21/027
摘要：【課題】パターン異常及びテンプレート異常の発生を抑えることが可能なインプリント用テンプレートを製造することができるテンプレート製造装置及びテンプレート製造方法を提供する。【解決手段】実施形態に係るインプリント用のテンプレート製造装置1は、凹凸パターンが形成された凸部を有する、ステージ上のテンプレートWに液状の撥液材を供給する供給ヘッド11と、供給ヘッド11及びステージをステージに沿う方向に相対移動させる移動機構と、供給ヘッド11が凹凸パターンを避けて少なくとも凸部の側面に液状の撥液材を塗布するように供給ヘッド11及び移動機構を制御する制御部40と、液状の撥液材が塗布されたテンプレートWに液体を供給する洗浄部30とを備える。液状の撥液材は、テンプレートWの表面と反応する撥液成分及び非撥液成分と、撥液成分を溶かす揮発性溶剤とを含む。前述の液体は、非撥液成分を溶かすフッ素系の揮発性溶剤である。【選択図】図1
摘要翻译：为了提供能够产生能够压印模板抑制模板异常的发生的图案异常和模板制造装置和模板的制造方法。根据第一实施例的压印模板制造装置，具有形成有凹凸图形的凸部，用于在舞台上供应液体的疏液性的材料与模板W上的供给头11，分配头和11和用于在一个方向上沿平台相对移动上载物台移动机构，供给头11，以控制供给头11和移动机构，以便施加的液体的疏液性的材料的至少凸部的侧表面上，以避免不平坦图案和控制单元40，以及用于向模板W¯¯防液材料供给液体的清洁单元30以液体形式被施加。疏液材料的液体包括液体排斥和液体非驱避剂成分，其与模板的表面反应是W，挥发性溶剂以溶解疏液部件。上述液体是氟溶解非疏液性成分的挥发性溶剂。点域1

5. 发明专利

JP2016157785A テンプレート形成方法、テンプレートおよびテンプレート基材审中-公开
标题翻译：模板形成方法，模板和模板基体材料
公开(公告)号：JP2016157785A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：JP2015034019
申请日：2015-02-24
申请人：株式会社東芝
发明人：辻真俊 , 幡野正之 , 小松瑶子 , 中杉哲郎
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027
CPC分类号： C23F1/16 , G03F7/0002
摘要：【課題】テンプレートをレジストに押印した際のレジストのはみ出しを抑制できるテンプレート形成方法を提供すること。【解決手段】実施形態によれば、テンプレート形成方法が提供される。前記テンプレート形成方法では、基板のおもて面にあるテンプレートパターン面にテンプレートパターンが形成される。また、前記基板のおもて面上で前記テンプレートパターン面とは異なる領域に前記基板の裏面よりもレジストに対する接触角が高い高撥液性部が形成される。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种模板形成方法，其能够防止抗蚀剂在被模板压制时伸出。解决方案：提供了模板形成方法。根据实施例，在板的正面上的模板图案平面上形成模板图案。此外，在板的前表面上，形成了与抗蚀剂的接触角高于板的背面的与模板图案平面不同的区域的高度的液体排斥部分。图示：图1

6. 发明专利

JP2016157784A パターン形成方法およびパターン形成装置审中-公开
标题翻译：图案形成方法和图案形成装置
公开(公告)号：JP2016157784A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：JP2015034018
申请日：2015-02-24
申请人：株式会社東芝
发明人：幡野正之 , 河村嘉久
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0002
摘要：【課題】短時間でインプリント処理を実行することができるパターン形成方法を提供すること。【解決手段】実施形態のパターン形成方法では、テンプレートのおもて面側に形成されたテンプレートパターンと、レジストの配置された基板との間の距離を所定の距離に近づける接触ステップが実行される。また、前記パターン形成方法では、前記テンプレートの裏面側の雰囲気圧力である背面側圧力を負圧に調整する圧力調整ステップが実行される。前記パターン形成方法では、前記負圧の状態で前記レジストを前記テンプレートパターンに充填する充填ステップと、前記レジストを硬化させる硬化ステップと、が実行される。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供可以在短时间内进行压印处理的图案形成方法。解决方案：在实施例的图案形成方法中，进行接触步骤，其中形成在其上的模板图案之间的距离将模板的顶面侧和其上设置有抗蚀剂的基板控制在预定距离。在图案形成方法中，进行压力调整步骤，其中作为模板背面侧的环境压力的背侧压力被调节到负压。在图案形成方法中，进行在负压条件下用抗蚀剂填充模板图案的填充步骤和固化抗蚀剂的固化步骤。选择的图：图2

7. 发明专利

JP2015144193A インプリント方法、テンプレートおよびインプリント装置审中-公开
标题翻译：印刷方法，模板和印刷装置
公开(公告)号：JP2015144193A
公开(公告)日：2015-08-06
申请号：JP2014016945
申请日：2014-01-31
申请人：株式会社東芝
发明人：辻真俊 , 幡野正之
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0002
摘要：【課題】テンプレートに損傷を与えることなく、隣接ショット間のずれを補正することができるインプリント方法を提供すること。【解決手段】実施形態のインプリント方法では、パターンが中央領域および外側領域に配置されたテンプレートが、第1のインプリントショットに押し当てられる。前記外側領域が押し当てられているレジストの一部領域が、目標硬度よりも小さくなるよう減光部材を介して光が照射され、その後、離型される。さらに、第1および第2のインプリントショットが前記一部領域で重なるよう、前記テンプレートが前記第2のインプリントショットに押し当てられる。そして、前記一部領域のレジストが目標硬度に到達するよう光が照射され、その後、離型される。【選択図】図5
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够校正相邻镜头之间的位移而不会对模板造成任何损害的压印方法。解决方案：压印方法包括以下步骤：将具有设置在中心区域中的图案和外部区域，反对第一次印记; 用光束照射通过遮光部件压在外部区域上的抗蚀剂的局部区域，使得目标硬度较小，随后去除模具; 在第二次打印拍摄时按压模板，使得第一和第二印记拍摄彼此重叠; 并用光束照射部分区域中的抗蚀剂以达到目标硬度，随后除去模具。

8. 发明专利

JP2016195247A インプリント用のテンプレート製造装置审中-公开
标题翻译：用于制造印模的装置
公开(公告)号：JP2016195247A
公开(公告)日：2016-11-17
申请号：JP2016062077
申请日：2016-03-25
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社 , 株式会社東芝
发明人：中村聡 , 出村健介 , 松嶋大輔 , 幡野正之 , 柏木宏之 , 陳康 , イヴァンペトロフガナシェフ
IPC分类号： B29C59/02 , B29C33/38 , H01L21/027
CPC分类号： C23C14/042 , B29C33/3842 , B29C59/022 , C23C14/246 , G03F7/0002
摘要：【課題】パターン異常及びテンプレート異常の発生を抑えることが可能なインプリント用のテンプレートを製造することができるテンプレート製造装置を提供する。【解決手段】実施形態に係るインプリント用のテンプレート製造装置1は、主面を有する基体11と、主面上に設けられ、主面と反対側の端面を有し、凹凸パターンがその端面に形成された凸部12とにより構成されたテンプレートWを、凸部12を下方に向けて支持する支持部3と、支持部3上のテンプレートWの下方に設けられ、撥液材を気化させる気化部5と、支持部3上のテンプレートWの下方に設けられ、気化した撥液材が支持部3上のテンプレートWの凸部12の側面に付着することを許し、凹凸パターンに付着することを防止する防着板7とを備える。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种可以制造能够抑制图案异常和模板异常发生的印模模板的模板制造装置。解决方案：用于制造压印模板的装置1包括：支撑部件3，模板W由具有主表面的基板11和设置在主表面上并且在与主表面相反的一侧具有端面的突起12和形成在其表面上的不平坦图案构成，通过引导突起12到下部; 蒸发部5，其设置在支撑部3上的模板W的下部，并蒸发疏液材料; 以及设置在支撑部3上的模板W的下部的防止沉积板7，其能够使汽化的防液性材料附着在支撑部3上的模板W的突起12的侧面并且防止其粘附到不均匀的图案。选择图：图1

9. 发明专利

JP2016195169A インプリント用のテンプレート审中-公开
标题翻译：模版模板
公开(公告)号：JP2016195169A
公开(公告)日：2016-11-17
申请号：JP2015074108
申请日：2015-03-31
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社 , 株式会社東芝
发明人：中村聡 , 出村健介 , 松嶋大輔 , 幡野正之 , 柏木宏之
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027
CPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027
摘要：【課題】パターン異常及びテンプレート異常の発生を抑えることができるインプリント用のテンプレートを提供する。【解決手段】実施形態に係るインプリント用のテンプレート1は、主面2aを有する基体2と、主面2a上に設けられ、主面2aと反対側に端面を有し、液状の被転写物に押し付ける凹凸パターン3aがその端面に形成された凸部3と、凹凸パターン3aを避けて少なくとも凸部3の側面に形成され、液状の被転写物を弾く撥液層4とを備える。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供能够抑制图案异常和模板异常发生的印记模板。解决方案：用于印记的模板1包括：具有主表面2a的物质2; 在主表面2a上设置有在与主表面2a相对的一侧上的端面，并且在其表面上形成有压在液体转印体上的凹凸图案3a的突起3; 以及通过避免不均匀图案3a而形成在至少突起3的侧表面上的液体排斥层4，并且翻转液体转移物体。图1

10. 发明专利

JP5833045B2 パターン形成方法及びパターン形成装置有权
公开(公告)号：JP5833045B2
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：JP2013041993
申请日：2013-03-04
申请人：株式会社東芝
发明人：辻真俊 , 中杉哲郎 , 幡野正之
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0002 , B29C2059/023 , B82Y40/00

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