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1. 发明申请

WO2008069191A1 ウエーハ収納カセット検査装置及び方法审中-公开
标题翻译：包含CASSETTE检测装置的方法和方法
公开(公告)号：WO2008069191A1
公开(公告)日：2008-06-12
申请号：PCT/JP2007/073379
申请日：2007-12-04
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社 , 林義典 , 森秀樹 , 古川長樹
发明人：林義典 , 森秀樹 , 古川長樹
IPC分类号： G06T1/00
CPC分类号： G06T7/001 , G06T2207/30108
摘要：【課題】種類毎に撮影条件を変えることなく、異種のウエーハ収納カセットの各検査対象部位の形状等の外観的属性を同一の条件のもと表し得るウエーハ収納カセット検査装置を提供することである。【解決手段】撮影装置６１と、撮影装置６１からの画像信号を処理する処理ユニット５０とを有し、処理ユニット５０は、撮影装置６１からの基準体２０に対応した画像信号に基づいて基準画像情報を生成する基準画像生成手段（Ｓ１、Ｓ２）と、撮影装置６１からのウエーハ収納カセット１０内部の検査対象部位に対応した画像信号に基づいて被検査画像情報を生成する被検査画像情報生成手段Ｓ１１と、前記基準画像情報から所定画像を得るための処理を前記被検査画像情報に施して補正画像情報を生成する画像補正手段Ｓ１２と、前記補正画像情報に基づいて前記検査対象部位の外観的属性を表す外観属性情報を生成する手段Ｓ１４とを有する構成となる。
摘要翻译：本发明提供一种能够在不改变每种类型的成像条件的情况下，在相同的条件下，能够表现出不同类型的晶片的晶片的各个检查对象部分的各种检查对象部分的形状的外部视图属性的外观视图属性。用于解决问题的手段含晶片盒检查装置包括处理来自成像装置（61）的图像信号的成像装置（61）和处理单元（50）。处理单元（50）包括：根据与成像装置（61）对应于参考体（20）的图像信号产生参考图像信息的参考图像生成装置（S1，S2）。图像检查信息生成装置（S11），根据与来自成像装置（61）的晶片容纳盒（10）中的检查对象部分对应的图像信号，生成被检查图像信息; 图像校正装置（S12），其从所述参考图像信息执行用于获得预定图像的处理，用于生成校正图像信息; 以及根据校正图像信息生成表示检查对象部分的外部视图属性的外部视图属性信息的装置（S14）。

2. 发明申请

WO2008018537A1 円盤状基板の検査装置及び検査方法审中-公开
标题翻译：光盘检测设备和检查方法
公开(公告)号：WO2008018537A1
公开(公告)日：2008-02-14
申请号：PCT/JP2007/065597
申请日：2007-08-09
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社 , 林義典 , 古川長樹 , 森秀樹 , 堀徹真
发明人：林義典 , 古川長樹 , 森秀樹 , 堀徹真
IPC分类号： H01L21/66 , G01B11/24
CPC分类号： G01B11/08 , G01B11/24 , G01N21/9503 , G01R31/311
摘要： An inspecting device and method for inspecting a processed region formed on the surface of a disc wafer such as a semiconductor wafer with higher accuracy. The inspecting device comprises imaging means (130a, 130b) for imaging the periphery and its neighboring region of a rotating wafer, wafer periphery position measuring means (200) for measuring the radial position of the periphery at each of the rotation angle positions ?n of the wafer from the images captured by the imaging means (130a, 130b), periphery-to-periphery distance measuring means (200) for measuring the periphery-to-periphery distance B ?n between the periphery of the wafer and that of an insulating film at each of the rotation angle positions ?n with reference to the captured images, and inspection information creating means (200) for creating predetermined inspection information from the radial position A ?n of the periphery of the wafer and the periphery-to-periphery distance B ?n .
摘要翻译：一种检查装置和方法，用于以更高精度检查形成在诸如半导体晶片的盘晶片的表面上的处理区域。检查装置包括用于对旋转晶片的周边及其相邻区域进行成像的成像装置（130a，130b），用于在每个旋转角度位置θn处测量周边的径向位置的晶片周边位置测量装置（200）来自由成像装置（130a，130b）拍摄的图像的晶片，用于测量周边至外围距离B＆lt;＆lt;＆lt; 以及相对于拍摄图像在每个旋转角位置θn处的晶片和绝缘膜的晶片以及从径向位置A SUB产生预定检查信息的检查信息生成装置（200） >晶圆周边和周边到外围距离B＆lt;＆gt;

3. 发明专利

JP6935330B2 基板処理装置及び基板処理方法有权
公开(公告)号：JP6935330B2
公开(公告)日：2021-09-15
申请号：JP2017543643
申请日：2016-09-30
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：宮崎邦浩 , 古矢正明 , 林航之介 , 山崎克弘 , 齊藤裕樹 , 古川長樹
IPC分类号： H01L21/306

4. 发明专利

JP6861039B2 基板処理装置及び基板処理方法有权
公开(公告)号：JP6861039B2
公开(公告)日：2021-04-21
申请号：JP2017012627
申请日：2017-01-27
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：小林信雄 , 古川長樹 , 山崎克弘 , 齊藤裕樹
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/306

5. 发明专利

JPWO2017057727A1 基板処理装置及び基板処理方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017057727A1
公开(公告)日：2018-07-19
申请号：JP2016079113
申请日：2016-09-30
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：宮崎邦浩 , 古矢正明 , 林航之介 , 山崎克弘 , 齊藤裕樹 , 古川長樹
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： H01L21/306
摘要：少なくとも窒化膜と酸化膜とが形成された基板を処理する基板処理装置において、リン酸水溶液を貯留するリン酸水溶液貯留部と、前記リン酸水溶液貯留部にリン酸水溶液供給配管を介してリン酸水溶液を供給するリン酸水溶液供給部と、前記リン酸水溶液貯留部にシリカ添加剤供給配管を介してシリカ添加剤を供給するシリカ添加剤供給部と、前記リン酸水溶液貯留部に水供給配管を介して水を供給する水供給部と、前記リン酸水溶液貯留部に貯留された前記リン酸水溶液により前記基板を処理する処理部と、を有し、前記シリカ添加剤供給配管は、前記水供給配管の途中に接続され、シリカ添加剤を用いた処理であっても、適正なシリカ濃度で基板処理を実行することができる。

6. 发明专利

JP2017188658A 基板処理装置及び基板処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017188658A
公开(公告)日：2017-10-12
申请号：JP2017012627
申请日：2017-01-27
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：小林信雄 , 古川長樹 , 山崎克弘 , 齊藤裕樹
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/306
摘要：【課題】処理液を貯留するタンク内の所望液量を正確に把握することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。【解決手段】実施形態に係る基板処理装置は、処理液を貯留するタンク31と、タンク31に貯留された処理液が流入するようにタンク31に接続され、タンク31から流入した処理液の液面M1がタンク31内の処理液の増減に応じて移動するように形成された液面配管33と、液面配管33内の液面M1を検出する液面センサ35と、液面配管33内における液面M1より上の配管空間に気体を供給するための給気配管34と、給気配管34により気体が配管空間に供給されて液面配管33内の液面M1が移動することに応じ、液面センサ35の検出結果に基づいて液面センサ35の誤検出の有無を判断する制御部50とを備える。【選択図】図2

7. 发明专利

JP2021166307A 基板処理装置及び基板処理方法有权
公开(公告)号：JP2021166307A
公开(公告)日：2021-10-14
申请号：JP2021114513
申请日：2021-07-09
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：宮崎邦浩 , 古矢正明 , 林航之介 , 山崎克弘 , 齊藤裕樹 , 古川長樹
IPC分类号： H01L21/306
摘要：【課題】エッチング時の選択比を高くするためにシリカ添加剤を用いた場合であっても、シリカ添加剤による配管詰まりを防止すること。【解決手段】少なくとも窒化膜と酸化膜とが形成された基板を処理する基板処理装置において、リン酸水溶液を貯留するリン酸水溶液貯留部と、前記リン酸水溶液貯留部にリン酸水溶液供給配管を介してリン酸水溶液を供給するリン酸水溶液供給部と、前記リン酸水溶液貯留部にシリカ添加剤供給配管を介してシリカ添加剤を供給するシリカ添加剤供給部と、前記リン酸水溶液貯留部に水供給配管を介して水を供給する水供給部と、前記リン酸水溶液貯留部に貯留された前記リン酸水溶液により前記基板を処理する処理部と、を有し、前記シリカ添加剤供給配管は、前記水供給配管の途中に接続され、シリカ添加剤を用いた処理であっても、適正なシリカ濃度で基板処理を実行することができる。【選択図】図1

8. 发明专利

JP2021101488A 基板処理装置及び基板処理方法有权
公开(公告)号：JP2021101488A
公开(公告)日：2021-07-08
申请号：JP2021055396
申请日：2021-03-29
申请人：芝浦メカトロニクス株式会社
发明人：小林信雄 , 古川長樹 , 山崎克弘 , 齊藤裕樹
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/306
摘要：【課題】処理液を貯留するタンク内の所望液量を正確に把握することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。【解決手段】実施形態に係る基板処理装置は、基板を処理するための処理液を貯留するタンク31と、前記タンク31に貯留された処理液が流入するように前記タンク31に接続され、前記タンク31から流入した処理液の液面M1が前記タンク31内の処理液の増減に応じて移動するように形成された液面配管33と、前記液面配管33内の前記液面M1を検出する液面センサ35と、前記液面配管33内における前記液面M1より上の配管空間に気体を供給するための給気配管34と、前記給気配管34から前記液面配管33に前記気体を供給して前記液面配管33内の前記液面M1を下降移動させ、下降移動された前記液面M1を、前記配管空間から前記気体を排出して上昇移動させる制御部50と、を備える。【選択図】図5

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