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1. 发明专利

TWI601281B 有機電致發光顯示器用之包含反射陽極電極之配線構造有权
简体标题：有机电致发光显示器用之包含反射阳极电极之配线构造
公开(公告)号：TWI601281B
公开(公告)日：2017-10-01
申请号：TW101118523
申请日：2012-05-24
申请人：神戶製鋼所股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：奧野博行 , OKUNO, HIROYUKI , 三木綾 , MIKI, AYA , 釘宮敏洋 , KUGIMIYA, TOSHIHIRO
IPC分类号： H01L27/32 , H01L51/50 , H05B33/26 , C22C21/00
CPC分类号： H01L27/3276 , C22C21/00 , H01L27/3248 , H01L51/5218

2. 发明专利

TWI537400B 觸控面板感測器用銅合金配線膜及其之製造方法、以及觸控面板感測器、以及濺鍍靶有权
简体标题：触摸皮肤传感器用铜合金配线膜及其之制造方法、以及触摸皮肤传感器、以及溅镀靶
公开(公告)号：TWI537400B
公开(公告)日：2016-06-11
申请号：TW101139508
申请日：2012-10-25
申请人：神戶製鋼所股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：奧野博行 , OKUNO, HIROYUKI , 三木綾 , MIKI, AYA , 釘宮敏洋 , KUGIMIYA, TOSHIHIRO
IPC分类号： C22C9/00 , C23C14/14 , C23C14/34 , G06F3/041
CPC分类号： C22C9/00 , B22F3/10 , C22C9/04 , C22C9/05 , C22C9/06 , C22C2204/00 , C23C14/185 , C23C14/3414 , H01B1/026

3. 发明专利

TW201303051A 顯示裝置或半導體裝置用Ａｌ合金膜，具備Ａｌ合金膜的顯示裝置或半導體裝置，及濺射靶审中-公开
简体标题：显示设备或半导体设备用Ａｌ合金膜，具备Ａｌ合金膜的显示设备或半导体设备，及溅射靶
公开(公告)号：TW201303051A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW101106537
申请日：2012-02-29
申请人：神戶製鋼所股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：奧野博行 , OKUNO, HIROYUKI , 釘宮敏洋 , KUGIMIYA, TOSHIHIRO
IPC分类号： C23C14/18 , C23C14/34 , H01L21/28 , H01L29/45
CPC分类号： C22C21/00 , C22F1/04 , C23C14/165 , C23C14/185 , C23C14/3414 , H01L21/28008 , H01L21/2855 , H01L23/53219 , H01L27/124 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要：本發明之目的，係在提供高溫耐熱性優良，膜本身之電阻(配線電阻)也較低，鹼性環境下之耐蝕性也較優良之顯示裝置用Al合金膜。本發明，係與含有Ge(0.01~2.0原子%)、及X群元素(Ta、Ti、Zr、Hf、W、Cr、Nb、Mo、Ir、Pt、Re、及/或Os)，而且，執行450~600℃之加熱處理時，控制含有Al、X群元素、及Ge之析出物之圓相當直徑為50nm以上之析出物的密度之Al合金膜相關。
简体摘要：本发明之目的，系在提供高温耐热性优良，膜本身之电阻(配线电阻)也较低，碱性环境下之耐蚀性也较优良之显示设备用Al合金膜。本发明，系与含有Ge(0.01~2.0原子%)、及X群元素(Ta、Ti、Zr、Hf、W、Cr、Nb、Mo、Ir、Pt、Re、及/或Os)，而且，运行450~600℃之加热处理时，控制含有Al、X群元素、及Ge之析出物之圆相当直径为50nm以上之析出物的密度之Al合金膜相关。

4. 发明专利

TW201207523A 配線構造审中-公开
简体标题：配线构造
公开(公告)号：TW201207523A
公开(公告)日：2012-02-16
申请号：TW100111316
申请日：2011-03-31
申请人：神戶製鋼所股份有限公司
发明人：奧野博行 , 前田剛彰 , 後藤裕史
IPC分类号： G02F , H01L
CPC分类号： H01L23/53219 , H01L23/53223 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要：提供一種即使防止起因於水份從裂痕侵入的金屬配線端面的腐蝕,或者金屬配線端面產生腐蝕的情形下,也能防止該腐蝕到達構成驅動液晶顯示裝置之液晶顯示部分的閘極線等之金屬配線的技術。本發明係有關一種配線構造,針對在基板之上具有於同一平面上形成有複數金屬配線,且在金屬配線之上形成有絕緣膜的層積構成,且具有利用切割加工露出切斷端面之第一金屬配線的配線構造,其特徵為:當第一金屬配線的線寬為X(��m)、第一金屬配線的長度為Y(��m)時,滿足(1)或(2)及/或下述(3)之要件;當(1)X≦20��m、(2)X>20��m時,Y≧10X-160,(3)在第一金屬配線之切斷端面至鄰接於第一金屬配線的第二金屬配線之間,第一金屬配線具有絕緣膜不存在的區域Z。又,本發明是有關一種配線構造,為一種在基板上具有利用切割加工露出切斷端面的第一金屬配線、第二金屬配線、和絕緣膜的顯示裝置用配線構造,前述第一金屬配線係具有100��m以上的不連續部,因前述不連續部而分斷的各第一金屬配線,係因第二金屬配線而連結,前述被分斷的第一金屬配線和前述第二金屬配線的接觸界面的至少一方,係具有比構成前述第一金屬配線或前述第二金屬配線的金屬微貴的金屬的腐蝕防止層為其特徵。
简体摘要：提供一种即使防止起因于水份从裂痕侵入的金属配线端面的腐蚀,或者金属配线端面产生腐蚀的情形下,也能防止该腐蚀到达构成驱动液晶显示设备之液晶显示部分的闸极线等之金属配线的技术。本发明系有关一种配线构造,针对在基板之上具有于同一平面上形成有复数金属配线,且在金属配线之上形成有绝缘膜的层积构成,且具有利用切割加工露出切断端面之第一金属配线的配线构造,其特征为:当第一金属配线的线宽为X(��m)、第一金属配线的长度为Y(��m)时,满足(1)或(2)及/或下述(3)之要件;当(1)X≦20��m、(2)X>20��m时,Y≧10X-160,(3)在第一金属配线之切断端面至邻接于第一金属配线的第二金属配线之间,第一金属配线具有绝缘膜不存在的区域Z。又,本发明是有关一种配线构造,为一种在基板上具有利用切割加工露出切断端面的第一金属配线、第二金属配线、和绝缘膜的显示设备用配线构造,前述第一金属配线系具有100��m以上的不连续部,因前述不连续部而分断的各第一金属配线,系因第二金属配线而链接,前述被分断的第一金属配线和前述第二金属配线的接触界面的至少一方,系具有比构成前述第一金属配线或前述第二金属配线的金属微贵的金属的腐蚀防止层为其特征。

5. 发明专利

TW200948997A Ａ１基合金濺鍍靶及其製造方法审中-公开
简体标题：Ａ１基合金溅镀靶及其制造方法
公开(公告)号：TW200948997A
公开(公告)日：2009-12-01
申请号：TW098110441
申请日：2009-03-30
申请人：鋼臂功科研股份有限公司 , 神戶製鋼所股份有限公司
发明人：高木勝壽 , 岩崎祐紀 , 得平雅也 , 後藤裕史 , 三木綾 , 奧野博行 , 越智元隆 , 岸智彌
IPC分类号： C23C , C22C , C22F
CPC分类号： C23C14/3414 , C22C21/00 , C22F1/04
摘要：本發明提供一種能減少濺鍍靶在使用初期階段產生的飛濺，藉此防止配線膜等中產生缺陷，提高FPD的成品率和動作性能的Al-(Ni,Co)-(Cu,Ge)-(La,Gd,Nd)系合金濺鍍靶及其製造方法。本發明關於構成分別含有選自A群（Ni,Co）中的至少一種、選自B群（Cu,Ge）中的至少一種與選自C群（La,Gd,Nd）中的至少一種的Al-(Ni,Co)-(Cu,Ge)-(La,Gd,Nd)系合金濺鍍靶，且其維氏硬度（HV）為35以上的Al基合金濺鍍靶。
简体摘要：本发明提供一种能减少溅镀靶在使用初期阶段产生的飞溅，借此防止配线膜等中产生缺陷，提高FPD的成品率和动作性能的Al-(Ni,Co)-(Cu,Ge)-(La,Gd,Nd)系合金溅镀靶及其制造方法。本发明关于构成分别含有选自A群（Ni,Co）中的至少一种、选自B群（Cu,Ge）中的至少一种与选自C群（La,Gd,Nd）中的至少一种的Al-(Ni,Co)-(Cu,Ge)-(La,Gd,Nd)系合金溅镀靶，且其维氏硬度（HV）为35以上的Al基合金溅镀靶。

6. 发明专利

TWI548762B 含鉭之氧化鋁薄膜有权
简体标题：含钽之氧化铝薄膜
公开(公告)号：TWI548762B
公开(公告)日：2016-09-11
申请号：TW101148080
申请日：2012-12-18
申请人：神戶製鋼所股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.) , 鋼臂功科研股份有限公司 , KOBELCO RESEARCH INSTITUTE, INC.
发明人：前田剛彰 , MAEDA, TAKEAKI , 奧野博行 , OKUNO, HIROYUKI
IPC分类号： C23C14/08 , C23C14/34 , H01L21/314 , H01L29/786

7. 发明专利

TW201335390A 觸控面板感測器用銅合金配線膜及其之製造方法、以及觸控面板感測器、以及濺鍍靶审中-公开
简体标题：触摸皮肤传感器用铜合金配线膜及其之制造方法、以及触摸皮肤传感器、以及溅镀靶
公开(公告)号：TW201335390A
公开(公告)日：2013-09-01
申请号：TW101139508
申请日：2012-10-25
申请人：神戶製鋼所股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：奧野博行 , OKUNO, HIROYUKI , 三木綾 , MIKI, AYA , 釘宮敏洋 , KUGIMIYA, TOSHIHIRO
IPC分类号： C22C9/00 , C23C14/14 , C23C14/34 , G06F3/041
CPC分类号： C22C9/00 , B22F3/10 , C22C9/04 , C22C9/05 , C22C9/06 , C22C2204/00 , C23C14/185 , C23C14/3414 , H01B1/026
摘要：〔課題〕提供一種耐氧化性和密接性優異，電阻小觸控面板感測器用Cu合金配線膜。〔解決手段〕觸控面板感測器用Cu合金配線膜，含有從Ni、Zn和Mn所構成的群中選擇的合金元素的至少一種，合計量0.1~40原子%含，剩餘部分是Cu和不可避免的雜質。另外觸控面板感測器用Cu合金配線膜，由含有從Ni、Zn和Mn所構成的群中選擇的合金元素的至少一種的Cu合金構成，含有一種前述合金元素時，為Ni：0.1~6原子%，Zn：0.1~6原子%，或Mn：0.1~1.9原子%的任意一種含量，含有兩種以上前述合金元素時，合計量為0.1~6原子%(其中，含有Mn時為〔((6-x)×2)÷6〕原子%以下，式中，x為Ni和Zn的合計添加量)。
简体摘要：〔课题〕提供一种耐氧化性和密接性优异，电阻小触摸皮肤传感器用Cu合金配线膜。〔解决手段〕触摸皮肤传感器用Cu合金配线膜，含有从Ni、Zn和Mn所构成的群中选择的合金元素的至少一种，合计量0.1~40原子%含，剩余部分是Cu和不可避免的杂质。另外触摸皮肤传感器用Cu合金配线膜，由含有从Ni、Zn和Mn所构成的群中选择的合金元素的至少一种的Cu合金构成，含有一种前述合金元素时，为Ni：0.1~6原子%，Zn：0.1~6原子%，或Mn：0.1~1.9原子%的任意一种含量，含有两种以上前述合金元素时，合计量为0.1~6原子%(其中，含有Mn时为〔((6-x)×2)÷6〕原子%以下，式中，x为Ni和Zn的合计添加量)。

8. 发明专利

TW201330104A 顯示裝置用配線構造审中-公开
简体标题：显示设备用配线构造
公开(公告)号：TW201330104A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101134153
申请日：2012-09-18
申请人：神戶製鋼所股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：奧野博行 , OKUNO, HIROYUKI , 釘宮敏洋 , KUGIMIYA, TOSHIHIRO
IPC分类号： H01L21/3205 , C22C21/00 , C23C14/34 , H01L21/28
CPC分类号： G02F1/13439 , B32B15/016 , B32B15/017 , C22C14/00 , C22C21/00 , C22C27/02 , C22C27/04 , C23C14/0036 , C23C14/025 , C23C14/0641 , G02F1/136286 , G02F2001/136295 , H01J11/46 , H01J31/127 , H01L21/4885 , H01L23/53219 , H01L23/53223 , H01L27/124 , H01L2924/0002 , Y10T428/1095 , Y10T428/265 , Y10T428/31678 , H01L2924/00
摘要：本發明提供即使被暴露於450~600℃程度的高溫下，也不會發生小丘(hillock)高溫耐熱性優異，配線構造全體的電阻(配線電阻)也可以抑制得很低，進而耐氟酸性也優異的顯示裝置用配線構造。本發明之顯示裝置用配線構造，由基板側依序含有：包含由Ta、Nb、Re、Zr、W、Mo、V、Hf、Ti、Cr及Pt構成的群(X群)所選擇的至少一種元素，與稀土類元素之至少一種的Al合金之第1層，與Ti、Mo、Al、Ta、Nb、Re、Zr、W、V、Hf、及Cr構成的群(Y群)所選擇的至少一種元素的氮化物，或Al合金的氮化物之第2層被層積之構造。
简体摘要：本发明提供即使被暴露于450~600℃程度的高温下，也不会发生小丘(hillock)高温耐热性优异，配线构造全体的电阻(配线电阻)也可以抑制得很低，进而耐氟酸性也优异的显示设备用配线构造。本发明之显示设备用配线构造，由基板侧依序含有：包含由Ta、Nb、Re、Zr、W、Mo、V、Hf、Ti、Cr及Pt构成的群(X群)所选择的至少一种元素，与稀土类元素之至少一种的Al合金之第1层，与Ti、Mo、Al、Ta、Nb、Re、Zr、W、V、Hf、及Cr构成的群(Y群)所选择的至少一种元素的氮化物，或Al合金的氮化物之第2层被层积之构造。

9. 发明专利

TWI395333B 顯示裝置用鋁合金膜、顯示裝置及濺鍍靶有权
简体标题：显示设备用铝合金膜、显示设备及溅镀靶
公开(公告)号：TWI395333B
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：TW098113489
申请日：2009-04-23
申请人：神戶製鋼所股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：中井淳一 , NAKAI, JUNICHI , 南部旭 , NANBU, AKIRA , 後藤裕史 , GOTO, HIROSHI , 奧野博行 , OKUNO, HIROYUKI , 三木綾 , MIKI, AYA
IPC分类号： H01L29/786 , C22C21/00
CPC分类号： H01L23/53219 , C23C14/185 , G02F2001/136295 , H01L27/124 , H01L29/458 , H01L29/4908 , H01L2924/0002 , H01L2924/00

10. 发明专利

TW201033378A 顯示裝置用鋁合金膜、顯示裝置及濺鍍靶审中-公开
简体标题：显示设备用铝合金膜、显示设备及溅镀靶
公开(公告)号：TW201033378A
公开(公告)日：2010-09-16
申请号：TW098137601
申请日：2009-11-05
申请人：神戶製鋼所股份有限公司
发明人：南部旭 , 後藤裕史 , 三木綾 , 奧野博行 , 中井淳一 , 岸智彌 , 高木敏晃 , 難波茂信 , 長尾護 , 小林宣裕
IPC分类号： C22C , C23C , H01L
CPC分类号： C23C14/18 , C23C14/3414 , G02F1/136227 , G02F1/1368 , H01L21/2855 , H01L23/53219 , H01L27/124 , H01L29/458 , H01L29/4908 , H01L2924/0002 , Y10T428/12014 , H01L2924/00
摘要：本發明係於使用在顯示裝置的薄膜電晶體基板之配線構造，開發可以使鋁合金膜與透明畫素電極直接接觸，可改善對使用於薄膜電晶體的製造程序中的胺系剝離液的腐蝕性之鋁合金膜，提供具備該鋁合金膜之顯示裝置。本發明係關於在顯示裝置的基板上，與透明導電膜直接連接的鋁合金膜，其特徵為：該鋁合金膜，包含鍺0.05～2.0原子百分比，以及包含元素群X（Ni、Ag、Co、Zn、Cu）所選擇的至少1種元素，與由稀土類元素構成的元素群Q所選擇的至少1種元素0.02～2原子百分比，且於前述鋁合金膜中，存在含鍺析出物及／或鍺濃化部之至少一種之顯示裝置用鋁合金膜，及具備該鋁合金膜之顯示裝置。
简体摘要：本发明系于使用在显示设备的薄膜晶体管基板之配线构造，开发可以使铝合金膜与透明像素电极直接接触，可改善对使用于薄膜晶体管的制造进程中的胺系剥离液的腐蚀性之铝合金膜，提供具备该铝合金膜之显示设备。本发明系关于在显示设备的基板上，与透明导电膜直接连接的铝合金膜，其特征为：该铝合金膜，包含锗0.05～2.0原子百分比，以及包含元素群X（Ni、Ag、Co、Zn、Cu）所选择的至少1种元素，与由稀土类元素构成的元素群Q所选择的至少1种元素0.02～2原子百分比，且于前述铝合金膜中，存在含锗析出物及／或锗浓化部之至少一种之显示设备用铝合金膜，及具备该铝合金膜之显示设备。

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