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1. 发明专利

TW202030347A 氧化物半導體薄膜、薄膜電晶體及濺鍍靶审中-公开
简体标题：氧化物半导体薄膜、薄膜晶体管及溅镀靶
公开(公告)号：TW202030347A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW109103693
申请日：2020-02-06
申请人：日商神戶製鋼所股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：寺前裕美 , TERAMAE, YUMI , 西山功兵 , NISHIYAMA, KOHEI , 越智元隆 , OCHI, MOTOTAKA , 後藤裕史 , GOTO, HIROSHI
IPC分类号： C23C14/08 , C23C14/34 , H01L29/786
摘要：本發明提供一種可獲得應力耐受性優異的薄膜電晶體的氧化物半導體薄膜。氧化物半導體薄膜具有第一氧化物半導體層與第二氧化物半導體層，第一氧化物半導體層及第二氧化物半導體層分別包含作為金屬元素的In、Ga、Zn及Sn、以及O，於第一氧化物半導體層中，滿足0.05≦In/（In+Ga+Zn+Sn）≦0.25、0.20≦Ga/（In+Ga+Zn+Sn）≦0.60、0.20≦Zn/（In+Ga+Zn+Sn）≦0.60、0.05≦Sn/（In+Ga+Zn+Sn）≦0.15，於第二氧化物半導體層中，滿足0.20≦In/（In+Ga+Zn+Sn）≦0.60、0.05≦Ga/（In+Ga+Zn+Sn）≦0.25、0.15≦Zn/（In+Ga+Zn+Sn）≦0.60、0.01≦Sn/（In+Ga+Zn+Sn）≦0.20。
简体摘要：本发明提供一种可获得应力耐受性优异的薄膜晶体管的氧化物半导体薄膜。氧化物半导体薄膜具有第一氧化物半导体层与第二氧化物半导体层，第一氧化物半导体层及第二氧化物半导体层分别包含作为金属元素的In、Ga、Zn及Sn、以及O，于第一氧化物半导体层中，满足0.05≦In/（In+Ga+Zn+Sn）≦0.25、0.20≦Ga/（In+Ga+Zn+Sn）≦0.60、0.20≦Zn/（In+Ga+Zn+Sn）≦0.60、0.05≦Sn/（In+Ga+Zn+Sn）≦0.15，于第二氧化物半导体层中，满足0.20≦In/（In+Ga+Zn+Sn）≦0.60、0.05≦Ga/（In+Ga+Zn+Sn）≦0.25、0.15≦Zn/（In+Ga+Zn+Sn）≦0.60、0.01≦Sn/（In+Ga+Zn+Sn）≦0.20。

2. 发明专利

TWI701358B 塗裝鋅鍍敷鋼板有权
简体标题：涂装锌镀敷钢板
公开(公告)号：TWI701358B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW108109664
申请日：2019-03-21
申请人：日商神戶製鋼所股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：山本哲也 , YAMAMOTO, TETSUYA , 酒井大輝 , SAKAI, HIROKI , 白岩礼士 , SHIRAIWA, NORIHITO
IPC分类号： C23C28/00 , C09D7/61 , C09D5/08

3. 发明专利

TWI701353B 氧化物半導體薄膜、薄膜電晶體及濺鍍靶材有权
简体标题：氧化物半导体薄膜、薄膜晶体管及溅镀靶材
公开(公告)号：TWI701353B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW107140437
申请日：2018-11-14
申请人：日商神戶製鋼所股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：寺前裕美 , TERAMAE, YUMI , 後藤裕史 , GOTO, HIROSHI , 越智元隆 , OCHI, MOTOTAKA , 日野綾 , HINO, AYA
IPC分类号： C23C14/08 , C23C14/34 , H01L21/363 , H01L29/786

4. 发明专利

TWI699518B 輪胎試驗機有权
简体标题：轮胎试验机
公开(公告)号：TWI699518B
公开(公告)日：2020-07-21
申请号：TW108107388
申请日：2019-03-06
申请人：日商神戶製鋼所股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：住谷敬志 , SUMITANI, TAKASHI , 住元優 , SUMIMOTO, YU
IPC分类号： G01M17/02

5. 发明专利

TWI697652B 散熱零件用銅合金板、散熱零件，以及散熱零件的製造方法有权
简体标题：散热零件用铜合金板、散热零件，以及散热零件的制造方法
公开(公告)号：TWI697652B
公开(公告)日：2020-07-01
申请号：TW107122550
申请日：2016-12-22
申请人：日商神戶製鋼所股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：橋本大輔 , HASHIMOTO,DAISUKE , 西村昌泰 , NISHIMURA,MASAYASU
IPC分类号： F28F21/08 , C22C9/06 , C21D9/46

6. 发明专利

TWI695139B 液化天然氣氣化系統有权
简体标题：液化天然气气化系统
公开(公告)号：TWI695139B
公开(公告)日：2020-06-01
申请号：TW108107708
申请日：2019-03-08
申请人：日商神戶製鋼所股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：岩崎正英 , IWASAKI, MASAHIDE , 浅田和彦 , ASADA, KAZUHIKO , 江頭慎二 , EGASHIRA, SHINJI , 鈴木朝寛 , SUZUKI, TOMOHIRO
IPC分类号： F17C7/00 , F02C7/14

7. 发明专利

TWI674197B 塗裝鍍鋅鋼板有权
简体标题：涂装镀锌钢板
公开(公告)号：TWI674197B
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：TW107108362
申请日：2018-03-13
申请人：日商神戶製鋼所股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：山本哲也 , YAMAMOTO, TETSUYA , 江口徹 , EGUCHI, TORU , 酒井大輝 , SAKAI, HIROKI
IPC分类号： B32B33/00 , B32B15/18 , C09D7/61 , C09D5/24 , C09D5/08 , C09D123/08

8. 发明专利

TW201919841A 附設輥子之螺旋擠出機审中-公开
简体标题：附设辊子之螺旋挤出机
公开(公告)号：TW201919841A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107127600
申请日：2018-08-08
申请人：日商神戶製鋼所股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：東孝祐 , HIGASHI, KOSUKE , 福谷和久 , FUKUTANI, KAZUHISA
IPC分类号： B29C43/24 , B29C43/34
摘要：本發明的附設輥子之螺旋擠出機(1)是具備：用來擠出材料的螺旋體(2，3)；用來收容螺旋體(2，3)且設有材料的投入口(12)之機殼(4)；配置在機殼(4)的前方，用來將螺旋體(2，3)所擠出的材料予以成形為薄片狀之配成一對的上側輥子(5)與下側輥子(6)；　　而上側輥子(5)與下側輥子(6)之其中一方的輥子是具有：位於其軸方向上的兩端部、以及位於前述兩端部之間的本體部分，在本體部分中之與前述軸方向垂直交叉的剖面是形成卵圓形狀。
简体摘要：本发明的附设辊子之螺旋挤出机(1)是具备：用来挤出材料的螺旋体(2，3)；用来收容螺旋体(2，3)且设有材料的投入口(12)之机壳(4)；配置在机壳(4)的前方，用来将螺旋体(2，3)所挤出的材料予以成形为薄片状之配成一对的上侧辊子(5)与下侧辊子(6)；　　而上侧辊子(5)与下侧辊子(6)之其中一方的辊子是具有：位于其轴方向上的两端部、以及位于前述两端部之间的本体部分，在本体部分中之与前述轴方向垂直交叉的剖面是形成卵圆形状。

9. 发明专利

TWI650230B 反射電極及鋁合金濺鍍靶有权
简体标题：反射电极及铝合金溅镀靶
公开(公告)号：TWI650230B
公开(公告)日：2019-02-11
申请号：TW106128892
申请日：2017-08-25
申请人：日商神戶製鋼所股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：田內裕基 , TAUCHI, YUKI , 日野綾 , HINO, AYA
IPC分类号： B32B15/04 , B32B15/20 , C22C21/00 , C23C14/34 , H05B33/24 , H05B33/26 , C09K11/06 , H01L51/50

10. 发明专利

TW201902805A 橡膠片監視裝置及橡膠片監視方法审中-公开
简体标题：橡胶片监视设备及橡胶片监视方法
公开(公告)号：TW201902805A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107113124
申请日：2018-04-18
申请人：日商神戶製鋼所股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
发明人：高橋英二 , TAKAHASHI, EIJI , 真鍋知多佳 , MANABE, CHITAKA , 小西徹 , KONISHI, AKIRA , 三浦穂高 , MIURA, HODAKA
IPC分类号： B65H43/04 , B65H26/02 , B29D30/44
摘要：橡膠片監視裝置(1)，具備第1拍攝部(11)、第2拍攝部(13)、第1生成部(142)及第2算出部(146)。第1拍攝部，逐次取得形成於橡膠片(6)的表面之第1光切線(CL1)的圖像。第2拍攝部，逐次取得形成於橡膠片的背面之第2光切線(CL2)的圖像。第1生成部，對於被逐次取得的第1光切線的圖像各者，執行使用第1光切線的圖像而生成示意沿著橡膠片的寬幅方向之截面的高度分布之第1資料(D1)之處理，對於被逐次取得的第2光切線的圖像各者，執行使用第2光切線的圖像而生成示意沿著橡膠片的寬幅方向之截面的高度分布之第2資料(D2)之處理。第2算出部，以同一截面的第1資料與第2資料為基礎，算出該截面下的橡膠片的厚度。
简体摘要：橡胶片监视设备(1)，具备第1拍摄部(11)、第2拍摄部(13)、第1生成部(142)及第2算出部(146)。第1拍摄部，逐次取得形成于橡胶片(6)的表面之第1光切线(CL1)的图像。第2拍摄部，逐次取得形成于橡胶片的背面之第2光切线(CL2)的图像。第1生成部，对于被逐次取得的第1光切线的图像各者，运行使用第1光切线的图像而生成示意沿着橡胶片的宽幅方向之截面的高度分布之第1数据(D1)之处理，对于被逐次取得的第2光切线的图像各者，运行使用第2光切线的图像而生成示意沿着橡胶片的宽幅方向之截面的高度分布之第2数据(D2)之处理。第2算出部，以同一截面的第1数据与第2数据为基础，算出该截面下的橡胶片的厚度。

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