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1. 发明专利

JP2018041737A 電子線装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018041737A
公开(公告)日：2018-03-15
申请号：JP2017204941
申请日：2017-10-24
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：野路伸治 , 佐竹徹 , 曽布川拓司 , 金馬利文 , 畠山雅規 , 吉川省二 , 村上武司 , 渡辺賢治 , 狩俣努 , 末松健一 , 田部豊 , 田島涼 , 遠山敬一
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/244 , H01J37/22 , H01L21/66 , H01J37/28
摘要：【課題】半導体製造工程におけるウェーハの欠陥を検出する場合に、検査対象の表面に形成されたパターン等を高いスループットで検査する検査装置を提供する。【解決手段】電子ビームを試料に向けて照射する手段26・6と、試料を載置し、XY方向に移動するステージ26・22と、電子ビームの試料に向けた照射によって試料の表面の情報を得た電子を検出器26・4に拡大投影して結像させる手段26・2と、検出器に導かれた電子を画像として合成する手段26・5とを備える電子線装置であって、検出器に導かれた電子を画像として合成する手段が、TDI−CCDとを備え、ステージの移動方向を、電子ビームの照度むらの生じ易い方向がTDI−CCDの積分方向に一致するように決める。【選択図】図26

2. 发明专利

JP6091573B2 試料観察方法及び装置有权
标题翻译：样观察的方法和装置
公开(公告)号：JP6091573B2
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：JP2015187508
申请日：2015-09-24
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：畠山雅規 , 村上武司 , 内藤儀彦 , 寺尾健二 , 木村憲雄 , 渡辺賢治
IPC分类号： G01N23/203 , G01N23/22 , H01J37/295 , H01J37/09 , H01J37/244 , G01N23/225
CPC分类号： H01J37/28 , H01J37/22 , H01J37/244 , H01J37/29 , H01J2237/24475 , H01J2237/24585 , H01J2237/24592 , H01J2237/2805 , H01J2237/2806 , H01J2237/2817 , H01L22/12

3. 发明专利

JP5719391B2 電子線装置及びこれを用いた試料観察方法有权
标题翻译：电子束装置和使用其的样品观察方法
公开(公告)号：JP5719391B2
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：JP2013032082
申请日：2013-02-21
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：加賀徹 , 寺尾健二 , 畠山雅規 , 渡辺賢治 , 内藤儀彦 , 村上武司 , 木村憲雄
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/29

5. 发明专利

JP2016106374A 異物付着防止機能を備えた電子線検査装置及び方法有权
标题翻译：电子束检测装置及防止外来粘合的功能的方法
公开(公告)号：JP2016106374A
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：JP2016040808
申请日：2016-03-03
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：渡辺賢治 , 畠山雅規 , 内藤儀彦 , 小濱達也 , 寺尾健二 , 村上武司 , 林丈英 , 塚本究 , 曽布川拓司 , 木村憲雄
IPC分类号： H01J37/29 , H01J37/09 , H01J37/244 , H01L21/66 , H01J37/20
CPC分类号： H01J37/22 , H01J37/265 , H01J37/29 , H01J2237/004 , H01J2237/022 , H01J2237/24495 , H01J2237/24564 , H01J2237/2817
摘要：【課題】試料表面に異物が付着することを極力防止することができる電子線検査装置を提供する。【解決手段】試料200を配置したステージ100が真空排気可能な真空チャンバ112の内部に設置されており、該試料200の周囲を包囲する位置に集塵電極122が配置されている。集塵電極122には、試料200に印加される電圧と同じ極性で絶対値が等しいかそれ以上の電圧が印加される。これにより、集塵電極122にパーティクル等の異物が付着するので、試料表面への異物付着を低減することができる。集塵電極を用いる代わりに、ステージを包含する真空チャンバの壁面に凹みを形成するか、又は、所定の電圧が印加されるメッシュ構造の金属製平板を壁面に敷設してもよい。また、中央に貫通孔124aを有する隙間制御板124を試料200及び集塵電極122の上方に間隙制御板124を配置することにより、異物付着をより低減することができる。【選択図】図3
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够尽可能防止异物附着到试样表面的电子束检查装置。解决方案：将放置样品200的载物台100设置在真空室112的内部，该真空室112可被抽真空并将集尘电极122配置在样品200周围的位置。集尘电极122被施加与施加到样品200的电压相同极性的电压，绝对值为等于或大于电压。因此，由于诸如颗粒的异物粘附到集尘电极122，所以可以减少异物附着到样品表面。代替使用集尘电极，可以在包含载物台的真空室的壁表面上形成凹部，或者在壁表面上设置具有施加了预定电压的网格结构的金属板。此外，通过在样品200上方的间隙控制板124和集尘电极122，间隙控制板124的中心具有通孔124a，可以进一步降低异物的附着。图3

6. 发明专利

JP5815627B2 試料観察方法及び装置、並びにそれらを用いた検査方法及び装置有权
标题翻译：样观察的方法和装置，和检测的方法和装置使用相同的
公开(公告)号：JP5815627B2
公开(公告)日：2015-11-17
申请号：JP2013203667
申请日：2013-09-30
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：畠山雅規 , 村上武司 , 内藤儀彦 , 寺尾健二 , 木村憲雄 , 渡辺賢治
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/29 , H01J37/244 , H01J37/09 , H01J37/22 , H01J37/28 , G01N23/225
CPC分类号： H01J37/28 , H01J37/22 , H01J37/244 , H01J37/29 , H01J2237/24475 , H01J2237/24585 , H01J2237/24592 , H01J2237/2805 , H01J2237/2806 , H01J2237/2817 , H01L22/12

7. 发明专利

JP2019215957A ビームベンダ审中-公开
公开(公告)号：JP2019215957A
公开(公告)日：2019-12-19
申请号：JP2018110915
申请日：2018-06-11
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：村上武司
IPC分类号： H01J37/29 , H01J37/153 , H01J37/147
摘要：【課題】ビームベンダによって曲げられた電子線の集束性を向上することのできるビームベンダを提供する。【解決手段】ビームベンダ12の内側曲面17と外側曲面19の間を通過する電子線の進行方向に沿った第1断面において、内側曲面17の曲率および外側曲面19の曲率はそれぞれ一定であり、内側曲面17の曲率中心と外側曲面19の曲率中心は一致するように設定されている。電子線の進行方向に対して垂直な第2断面において、内側曲面17の曲率および外側曲面19の曲率はそれぞれ一定であり、内側曲面17の曲率中心と外側曲面19の曲率中心は一致するように設定されている。第2断面における内側曲面17の曲率半径は、第1断面における内側曲面17の曲率半径より大きく設定され、第2断面における外側曲面19の曲率半径は、第1断面における外側曲面19の曲率半径より大きく設定されている。【選択図】図1

8. 发明专利

JP6220423B2 検査装置有权
公开(公告)号：JP6220423B2
公开(公告)日：2017-10-25
申请号：JP2016127848
申请日：2016-06-28
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：畠山雅規 , 吉川省二 , 村上武司 , 渡辺賢治 , 内藤儀彦 , 當間康 , 狩俣努 , 林丈英 , 塚本究 , 小濱達也 , 小林登
IPC分类号： H01L21/66 , G01N23/227

9. 发明专利

JP2016183976A 検査装置有权
标题翻译：检查装置
公开(公告)号：JP2016183976A
公开(公告)日：2016-10-20
申请号：JP2016127848
申请日：2016-06-28
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：畠山雅規 , 吉川省二 , 村上武司 , 渡辺賢治 , 内藤儀彦 , 當間康 , 狩俣努 , 林丈英 , 塚本究 , 小濱達也 , 小林登
IPC分类号： H01L21/66 , G01N23/227
摘要：【課題】検査精度を向上させ、5〜30nmのデザインルールにも適用できる検査方法及び検査装置を提供すること。【解決手段】本発明の検査装置は、荷電粒子又は電磁波の何れか一つをビームとして発生させるビーム発生手段と、ワーキングチャンバ内に保持した検査対象に前記ビームを導き照射する1次光学系と、可動式のニューメリカルアパーチャ、および前記検査対象から発生して当該ニューメリカルアパーチャを通過した二次荷電粒子を検出する第1検出器を有する2次光学系と、前記第1検出器によって検出された二次荷電粒子に基づいて画像を形成する画像処理系と、前記可動式のニューメリカルアパーチャと前記第1検出器の間に設けられ、前記検査対象から発生する二次荷電粒子のクロスオーバ位置における位置及び形状を検出する第2検出器とを備える。【選択図】図58
摘要翻译：要解决的问题：提供一种检测方法和检查装置，其能够提高应用于5至30nm的设计规则的检查精度。解决方案：检查装置包括：束产生装置，用于产生带电粒子和电磁波作为光束; 用于将光束引入保持在工作室中的检查对象物以照射检查对象物的主光学系统; 具有可动型数值孔径的次级光学系统，以及用于检测从检查对象物产生的并通过数值孔径的二次带电粒子的第一检测器; 图像处理系统，用于基于由第一检测器检测到的二次带电粒子形成图像; 以及第二检测器，设置在可移动型数值孔径和第一检测器之间，并且用于检测从检查目标产生的二次带电粒子的交叉位置处的位置和形状。选择的图示：图58

10. 发明专利

JP2015062200A 試料観察方法及び試料検査方法审中-公开
标题翻译：样本观察方法和样本检查方法
公开(公告)号：JP2015062200A
公开(公告)日：2015-04-02
申请号：JP2014246164
申请日：2014-12-04
申请人：株式会社荏原製作所
发明人：畠山雅規 , 渡辺賢治 , 内藤儀彦 , 村上武司
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/22 , H01L21/66 , G01N23/203 , G01N23/22 , G01N23/225 , H01J37/29
摘要：【課題】観察目的箇所を迅速かつ正確に特定し得る試料観察方法の提供【解決手段】本発明の試料観察方法は、写像投影型観察装置と該写像投影型観察装置とは別のSEM型観察装置と光学顕微鏡により同一のステージ上に載置された試料を観察するための複合型の試料観察方法である。本発明の試料観察方法では、光学顕微鏡による試料観察、ミラー電子画像による試料観察、及び、SEM画像による試料観察で得られた各画像が観察対象試料のどの位置に対応しているのかを相互に対応付けることができる。これにより、上記3つの観察方法のうちのある方法で特定された観察目的個所を他の観察方法で観察しようとした場合でも、上記観察目的箇所を迅速かつ正確に特定することができる。【選択図】図21
摘要翻译：要解决的问题：提供可以快速准确地识别观察对象位置的样本观察方法。解决方案：本发明的样本观察方法是用于观察放置在单个阶段上的样本的复合型样本观察方法具有映射投影型观察装置和SEM型观察装置以及与映射投影型观察装置分离的光学显微镜。在本发明的样本观察方法中，通过用光学显微镜观察样品，通过镜像电子图像观察样品，并通过SEM图像观察样品，可以获得观察对象样品的图像。并且对应于图像的观察目标样本上的位置可以彼此相关联。利用这种结构，即使通过其他观察方法观察到由上述三种观察方法中的一种识别的观察对象位置，也能够快速准确地识别观察对象位置。

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