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1. 发明专利

TWI672077B 評估電漿製程裝置中內部表面調節的系統與方法有权
简体标题：评估等离子制程设备中内部表面调节的系统与方法
公开(公告)号：TWI672077B
公开(公告)日：2019-09-11
申请号：TW104132431
申请日：2015-10-01
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：朴書南 , PARK, SOONAM , 朱俞飛 , ZHU, YUFEI , 隋瑞茲愛德恩C , SUAREZ, EDWIN C. , 英格爾尼汀K , INGLE, NITIN K. , 路柏曼斯基迪米奇 , LUBOMIRSKY, DMITRY , 黃嘉瑩 , HUANG, JIAYIN
IPC分类号： H05H1/24 , H01J37/32

2. 发明专利

TW201622491A 評估電漿製程裝置中內部表面調節的系統與方法审中-公开
简体标题：评估等离子制程设备中内部表面调节的系统与方法
公开(公告)号：TW201622491A
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：TW104132431
申请日：2015-10-01
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：朴書南 , PARK, SOONAM , 朱俞飛 , ZHU, YUFEI , 隋瑞茲愛德恩C , SUAREZ, EDWIN C. , 英格爾尼汀K , INGLE, NITIN K. , 路柏曼斯基迪米奇 , LUBOMIRSKY, DMITRY , 黃嘉瑩 , HUANG, JIAYIN
IPC分类号： H05H1/24 , H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32972 , C23C16/4405 , C23C16/452 , C23C16/45565 , C23C16/50 , C23C16/52 , G01J3/0218 , G01J3/443 , H01J37/32082 , H01J37/32532 , H01J37/3255
摘要：在一實施例中，一種電漿源包括：第一電極，設以移送一種或更多種電漿源氣體通過其中的第一穿孔；絕緣體，被配置成圍繞該第一電極的外週與該第一電極接觸；以及第二電極，抵靠該絕緣體配置有該第二電極之外週，使得該第一和第二電極及該絕緣體界定電漿產生腔。該第二電極設以讓來自該電漿產生腔的電漿產物移動通過其中而前往處理腔室。電源提供電力橫跨該第一和第二電極，以在該電漿產生腔中使用該一種或更多種電漿源氣體點燃電漿而產生該電漿產物。該第一電極、該第二電極及該絕緣體中之一者包括端口，該端口提供來自該電漿的光訊號。
简体摘要：在一实施例中，一种等离子源包括：第一电极，设以移送一种或更多种等离子源气体通过其中的第一穿孔；绝缘体，被配置成围绕该第一电极的外周与该第一电极接触；以及第二电极，抵靠该绝缘体配置有该第二电极之外周，使得该第一和第二电极及该绝缘体界定等离子产生腔。该第二电极设以让来自该等离子产生腔的等离子产物移动通过其中而前往处理腔室。电源提供电力横跨该第一和第二电极，以在该等离子产生腔中使用该一种或更多种等离子源气体点燃等离子而产生该等离子产物。该第一电极、该第二电极及该绝缘体中之一者包括端口，该端口提供来自该等离子的光信号。

3. 发明专利

TW201538995A 陶瓷環測試裝置审中-公开
简体标题：陶瓷环测试设备
公开(公告)号：TW201538995A
公开(公告)日：2015-10-16
申请号：TW104105882
申请日：2015-02-24
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：小林悟 , KOBAYASHI, SATORU , 朱俞飛 , ZHU, YUFEI , 賈格沙魯巴 , GARG, SAURABH , 朴書南 , PARK, SOONAM , 路柏曼斯基迪米奇 , LUBOMIRSKY, DMITRY
IPC分类号： G01R31/12 , G01N33/38
摘要：一種用於測試腔室元件(例如陶瓷環)之電性特性的測試裝置，該測試裝置包括外部導體及內部導體，該內部導體設置於該外部導體內且與該外部導體電性隔離。該外部導體具有基座、頂部及設置於該基座與該頂部之間的內部體積側壁。該內部導體具有頂部部分及底部部分，該頂部部分具有第一直徑且該底部部分具有第二直徑，其中該第二直徑大於該第一直徑。樣品面積定義於該外部導體之該基座與該內部導體之該底部部分之間，且該樣品面積經配置以接收腔室元件。該腔室元件的電性特性可基於施加信號至該外部導體或該內部導體之至少一者而量測。
简体摘要：一种用于测试腔室组件(例如陶瓷环)之电性特性的测试设备，该测试设备包括外部导体及内部导体，该内部导体设置于该外部导体内且与该外部导体电性隔离。该外部导体具有基座、顶部及设置于该基座与该顶部之间的内部体积侧壁。该内部导体具有顶部部分及底部部分，该顶部部分具有第一直径且该底部部分具有第二直径，其中该第二直径大于该第一直径。样品面积定义于该外部导体之该基座与该内部导体之该底部部分之间，且该样品面积经配置以接收腔室组件。该腔室组件的电性特性可基于施加信号至该外部导体或该内部导体之至少一者而量测。

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