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1. 发明专利

TWI490966B 加熱之噴頭組件有权
简体标题：加热之喷头组件
公开(公告)号：TWI490966B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW098100201
申请日：2009-01-06
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：卡杜祺詹姆斯D , CARDUCCI, JAMES D. , 瑞杰門歐嘉 , REGELMAN, OLGA , 貝拉卡羅 , BERA, KALLOL , 布卻柏格道格拉斯A , BUCHBERGER, DOUGLAS A. , 布利哈特保羅 , BRILLHART, PAUL
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/30
CPC分类号： H01J37/3244 , B32B43/00 , C23C16/4412 , C23C16/45565 , C23C16/4557 , C23C16/45591 , H01J37/32449 , H01J37/32724 , H01J2237/3343 , Y10T29/49815

2. 发明专利

TW201911974A 用於電漿處理的分佈式電極陣列审中-公开
简体标题：用于等离子处理的分布式电极数组
公开(公告)号：TW201911974A
公开(公告)日：2019-03-16
申请号：TW107126405
申请日：2018-07-31
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：柯林斯肯尼士S , COLLINS, KENNETH S. , 萊斯麥可R , RICE, MICHAEL R. , 拉馬斯瓦米卡提克 , RAMASWAMY, KARTIK , 卡度希詹姆士D , CARDUCCI, JAMES D. , 郭岳 , GUO, YUE , 瑞杰門歐嘉 , REGELMAN, OLGA
IPC分类号： H05H1/34 , H05H7/00
摘要：本揭示的實施例提供可用於任何數量的基板處理技術的電漿源組件及處理腔室設計。電漿源可以包括與參考電極及氣體饋送結構整合的複數個分離電極，以在處理期間產生均勻、穩定、且可重複的電漿。複數個分離電極包括電極陣列，電極陣列可以相對於參考電極而單獨偏壓，以群組的方式偏壓，或全部一致偏壓。複數個分離電極可以包括複數個導電桿，複數個導電桿經定位以在處理腔室的處理區域內產生電漿。複數個分離電極係由施加於與電極連接的功率分佈元件上的駐波或行進波提供RF功率。
简体摘要：本揭示的实施例提供可用于任何数量的基板处理技术的等离子源组件及处理腔室设计。等离子源可以包括与参考电极及气体馈送结构集成的复数个分离电极，以在处理期间产生均匀、稳定、且可重复的等离子。复数个分离电极包括电极数组，电极数组可以相对于参考电极而单独偏压，以群组的方式偏压，或全部一致偏压。复数个分离电极可以包括复数个导电杆，复数个导电杆经定位以在处理腔室的处理区域内产生等离子。复数个分离电极系由施加于与电极连接的功率分布组件上的驻波或行进波提供RF功率。

3. 发明专利

TW201440143A 噴氣頭絕緣器及蝕刻室襯墊审中-公开
简体标题：喷气头绝缘器及蚀刻室衬垫
公开(公告)号：TW201440143A
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：TW103119762
申请日：2009-01-10
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：卡杜祺詹姆斯D , CARDUCCI, JAMES D. , 瑞杰門歐嘉 , REGELMAN, OLGA
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/67
CPC分类号： H01J37/32633 , H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01J37/32477
摘要：本發明大致包含一噴氣頭絕緣器，以將一噴氣頭組件與一處理腔室壁電絕緣；一腔室襯墊組件，以加襯墊於一處理腔室；一下部腔室襯墊，以加襯墊於一處理腔室之一排氣區；以及一均流篩，以確保一處理腔室的均勻排氣。當在蝕刻腔室內處理一基板時，噴氣頭需與地面電絕緣。噴氣頭絕緣器可將噴氣頭與地面絕緣，同時亦防止電漿進入其所佔據的容積。腔室襯墊可保護腔室避免於污染，並減少腔室清潔。均流篩能使處理氣體均勻地被牽引入排氣通道中，而非以一不均衡的流進入排氣通道中。下部襯墊可助於均勻地抽吸真空，並保護腔室避免於污染。
简体摘要：本发明大致包含一喷气头绝缘器，以将一喷气头组件与一处理腔室壁电绝缘；一腔室衬垫组件，以加衬垫于一处理腔室；一下部腔室衬垫，以加衬垫于一处理腔室之一排气区；以及一均流筛，以确保一处理腔室的均匀排气。当在蚀刻腔室内处理一基板时，喷气头需与地面电绝缘。喷气头绝缘器可将喷气头与地面绝缘，同时亦防止等离子进入其所占据的容积。腔室衬垫可保护腔室避免于污染，并减少腔室清洁。均流筛能使处理气体均匀地被牵引入排气信道中，而非以一不均衡的流进入排气信道中。下部衬垫可助于均匀地抽吸真空，并保护腔室避免于污染。

4. 发明专利

TWI445078B 噴氣頭絕緣器及蝕刻室襯墊有权
简体标题：喷气头绝缘器及蚀刻室衬垫
公开(公告)号：TWI445078B
公开(公告)日：2014-07-11
申请号：TW098100874
申请日：2009-01-10
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：卡杜祺詹姆斯D , CARDUCCI, JAMES D. , 瑞杰門歐嘉 , REGELMAN, OLGA
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/67
CPC分类号： H01J37/32633 , H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01J37/32477

5. 发明专利

TWI689966B 用於原子精度之蝕刻的方法有权
简体标题：用于原子精度之蚀刻的方法
公开(公告)号：TWI689966B
公开(公告)日：2020-04-01
申请号：TW105121868
申请日：2016-07-12
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：朵夫雷歐尼德 , DORF, LEONID , 柯林斯肯尼士S , COLLINS, KENNETH S. , 羅夫沙西德 , RAUF, SHAHID , 拉馬斯瓦米卡提克 , RAMASWAMY, KATIK , 卡度希詹姆士D , CARDUCCI, JAMES D. , 塔法梭利哈米德 , TAVASSOLI, HAMID , 瑞杰門歐嘉 , REGELMAN, OLGA , 張穎 , ZHANG, YING
IPC分类号： H01J37/32 , H01L21/3065

6. 发明专利

TW201715560A 用於原子精度之蝕刻而具備在電漿密度、基組成及離子能上之獨立控制的低電子溫度蝕刻腔室审中-公开
简体标题：用于原子精度之蚀刻而具备在等离子密度、基组成及离子能上之独立控制的低电子温度蚀刻腔室
公开(公告)号：TW201715560A
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW105121868
申请日：2016-07-12
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：朵夫雷歐尼德 , DORF, LEONID , 柯林斯肯尼士S , COLLINS, KENNETH S. , 羅夫沙西德 , RAUF, SHAHID , 拉馬斯瓦米卡提克 , RAMASWAMY, KATIK , 卡度希詹姆士D , CARDUCCI, JAMES D. , 塔法梭利哈米德 , TAVASSOLI, HAMID , 瑞杰門歐嘉 , REGELMAN, OLGA , 張穎 , ZHANG, YING
IPC分类号： H01J37/32 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32174 , H01J37/06 , H01J37/32082 , H01J37/3233 , H01J37/32357 , H01J37/32422 , H01J37/3244 , H01J37/32458 , H01J37/32532 , H01J2237/3151 , H01J2237/3174 , H01J2237/334 , H01J2237/3348 , H01L21/3065 , H01L21/31116
摘要：本揭示案關於操作電漿反應器的方法，該電漿反應器具有電子束電漿來源以獨立調整電子束密度、電漿離子能量及基總體。本揭示案進一步關於用於電漿反應器的電子束來源，該電漿反應器具有RF驅動電極以產生電子束。
简体摘要：本揭示案关于操作等离子反应器的方法，该等离子反应器具有电子束等离子来源以独立调整电子束密度、等离子离子能量及基总体。本揭示案进一步关于用于等离子反应器的电子束来源，该等离子反应器具有RF驱动电极以产生电子束。

7. 发明专利

TWI563562B 噴氣頭絕緣器及蝕刻室襯墊有权
简体标题：喷气头绝缘器及蚀刻室衬垫
公开(公告)号：TWI563562B
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：TW103119762
申请日：2009-01-10
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：卡杜祺詹姆斯D , CARDUCCI, JAMES D. , 瑞杰門歐嘉 , REGELMAN, OLGA
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/67
CPC分类号： H01J37/32633 , H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01J37/32477

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