基本信息:
- 专利标题： 用於電漿處理的分佈式電極陣列
- 专利标题（英）：A DISTRIBUTED ELECTRODE ARRAY FOR PLASMA PROCESSING
- 专利标题（中）：用于等离子处理的分布式电极数组
- 申请号：TW107126405 申请日：2018-07-31
- 公开(公告)号：TW201911974A 公开(公告)日：2019-03-16
- 发明人： 柯林斯 肯尼士S , COLLINS, KENNETH S. , 萊斯 麥可R , RICE, MICHAEL R. , 拉馬斯瓦米 卡提克 , RAMASWAMY, KARTIK , 卡度希 詹姆士D , CARDUCCI, JAMES D. , 郭岳 , GUO, YUE , 瑞杰門 歐嘉 , REGELMAN, OLGA
- 申请人： 美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
- 专利权人： 美商應用材料股份有限公司,APPLIED MATERIALS, INC.
- 当前专利权人： 美商應用材料股份有限公司,APPLIED MATERIALS, INC.
- 代理人： 李世章; 彭國洋
- 优先权： 62/543,769 20170810
- 主分类号： H05H1/34
- IPC分类号： H05H1/34 ; H05H7/00
摘要：
本揭示的實施例提供可用於任何數量的基板處理技術的電漿源組件及處理腔室設計。電漿源可以包括與參考電極及氣體饋送結構整合的複數個分離電極，以在處理期間產生均勻、穩定、且可重複的電漿。複數個分離電極包括電極陣列，電極陣列可以相對於參考電極而單獨偏壓，以群組的方式偏壓，或全部一致偏壓。複數個分離電極可以包括複數個導電桿，複數個導電桿經定位以在處理腔室的處理區域內產生電漿。複數個分離電極係由施加於與電極連接的功率分佈元件上的駐波或行進波提供RF功率。
摘要（中）：
本揭示的实施例提供可用于任何数量的基板处理技术的等离子源组件及处理腔室设计。等离子源可以包括与参考电极及气体馈送结构集成的复数个分离电极，以在处理期间产生均匀、稳定、且可重复的等离子。复数个分离电极包括电极数组，电极数组可以相对于参考电极而单独偏压，以群组的方式偏压，或全部一致偏压。复数个分离电极可以包括复数个导电杆，复数个导电杆经定位以在处理腔室的处理区域内产生等离子。复数个分离电极系由施加于与电极连接的功率分布组件上的驻波或行进波提供RF功率。
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H05 | 其他类目不包含的电技术 |
| ----H05H | 等离子体技术（离子束管入H01J27/00；磁流体发电机入H02K44/08；涉及生成等离子体的产生X射线的入H05G2/00）；加速的带电粒子或中子的产生（从放射源获取中子的入G21，例如：G21B，G21C，G21G）；中性分子或原子射束的产生或加速 |
| ------H05H1/00 | 等离子体的产生；等离子体的处理 |
| --------H05H1/02 | .用电场或磁场约束等离子体的装置；加热等离子体的装置 |
| ----------H05H1/26 | ..等离子体喷管 |
| ------------H05H1/32 | ...应用电弧的 |
| --------------H05H1/34 | ....零部件，例如电极、喷嘴 |