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1. 发明专利

TW466336B 壓力偵知器的安裝構造有权
简体标题：压力侦知器的安装构造
公开(公告)号：TW466336B
公开(公告)日：2001-12-01
申请号：TW089120571
申请日：2000-10-03
申请人：富士金股份有限公司 , 東京威力科創股份有限公司 , 大見忠弘
发明人：大見忠弘 , 廣瀨隆 , 出田英二 , 池田信一 , 上肥亮介 , 西野功二 , 吉川和博 , 加賀爪哲 , 廣瀨潤 , 深澤和夫 , 小泉浩 , 長岡秀樹
IPC分类号： G01L
CPC分类号： G01L19/0023 , G01L19/0645 , G01L19/145 , G01L19/147
摘要：為提供一種將隔膜型壓力偵知器組裝於設在管路或機器等安裝用具時，可防止加於壓力偵知器之應力所起隔膜之變形，及組裝前之特性較大變化之壓力偵知器的安裝構造。
因此，本發明係在將具隔膜之隔膜座，與內藏有藉上述隔膜變位而移動之感測元件的感測元件座組合所成壓力偵知器，介由墊片插設於配管路或機械裝置所設安裝用具本體之插設孔內，且藉自上方插入於插設孔之抑壓構件壓任促使壓力偵知器以氣密固定之壓力偵知器的安裝構造，使抑壓構件抵觸於上述隔膜座本體部上面及使墊片抵觸於隔膜座本體部底面同時，在上述本體部底面與墊片抵觸部內側位置形成環狀淺槽，而藉該淺槽吸收因抑壓構件之抑押所產生之變形。
简体摘要：为提供一种将隔膜型压力侦知器组装于设在管路或机器等安装用具时，可防止加于压力侦知器之应力所起隔膜之变形，及组装前之特性较大变化之压力侦知器的安装构造。因此，本发明系在将具隔膜之隔膜座，与内藏有藉上述隔膜变位而移动之传感组件的传感组件座组合所成压力侦知器，介由垫片插设于配管路或机械设备所设安装用具本体之插设孔内，且藉自上方插入于插设孔之抑压构件压任促使压力侦知器以气密固定之压力侦知器的安装构造，使抑压构件抵触于上述隔膜座本体部上面及使垫片抵触于隔膜座本体部底面同时，在上述本体部底面与垫片抵触部内侧位置形成环状浅槽，而藉该浅槽吸收因抑压构件之抑押所产生之变形。

2. 发明专利

TW381205B 具有壓力式流量控制裝置之氣體供應設備有权
简体标题：具有压力式流量控制设备之气体供应设备
公开(公告)号：TW381205B
公开(公告)日：2000-02-01
申请号：TW088108875
申请日：1999-05-28
申请人：富士金股份有限公司 , 東京威力科創有限公司 , 大見忠弘
发明人：大見忠弘 , 加賀爪哲 , 池田信一 , 西野功二 , 吉川和博 , 出田英二 , 上肥亮介
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05D7/0635 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761
摘要：本發明之課題係將在半導體製造裝置等所使用具有壓力式流量控制裝置之氣體供應設備更加小型化來降低製造成本，並且，改善過渡流量特性來防止氣體供應揭示時之氣體之越標(overshoot)現象之發生，藉提升流量控制精度或設備之可靠性，來減少半導體製品品質之不均勻並且提高半導體製品之製造效率。
本發明之解決手段，係將孔口(orifice)之上游側壓力保持成下游側壓力之約2倍以上之狀態下邊進行氣體之流量控制透過孔口對應閥對於製程供應氣體之壓力式流量控制裝置之氣體供應設備，其特徵為備有﹔從氣體供應源接受氣體之控制閥，與設於控制閥下游側之孔口對應閥，與設在上述控制閥與孔口對應閥間之壓力檢測器，與設於孔口對應閥之閥機構部下游側之孔口，與從上述壓力檢測器之檢測壓力P1將流量以Qc=KP1(但是K係常數)來加以演算，並且，將流量指令訊號Qs與演算流量Qc之差值作為控制訊號Qy而輸出於控制閥驅動部之演算控制裝置來構成氣體供應設備。
简体摘要：本发明之课题系将在半导体制造设备等所使用具有压力式流量控制设备之气体供应设备更加小型化来降低制造成本，并且，改善过渡流量特性来防止气体供应揭示时之气体之越标(overshoot)现象之发生，藉提升流量控制精度或设备之可靠性，来减少半导体制品品质之不均匀并且提高半导体制品之制造效率。本发明之解决手段，系将孔口(orifice)之上游侧压力保持成下游侧压力之约2倍以上之状态下边进行气体之流量控制透过孔口对应阀对于制程供应气体之压力式流量控制设备之气体供应设备，其特征为备有﹔从气体供应源接受气体之控制阀，与设于控制阀下游侧之孔口对应阀，与设在上述控制阀与孔口对应阀间之压力检测器，与设于孔口对应阀之阀机构部下游侧之孔口，与从上述压力检测器之检测压力P1将流量以Qc=KP1(但是K系常数)来加以演算，并且，将流量指令信号Qs与演算流量Qc之差值作为控制信号Qy而输出于控制阀驱动部之演算控制设备来构成气体供应设备。

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