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1. 发明专利

JP2015034966A 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、および画像表示装置有权
标题翻译：彩色组合物，固化膜，彩色滤光片，生产彩色滤光片的方法，固态成像元件和图像显示装置
公开(公告)号：JP2015034966A
公开(公告)日：2015-02-19
申请号：JP2014073225
申请日：2014-03-31
申请人：富士フイルム株式会社 , Fujifilm Corp
发明人： HARA AKIHIRO , WATANABE TETSUYA , KANEKO YUJI , SAMEJIMA KEN , ITO JUNICHI , MURO SUKETSUGU , ODA KAZUYA , TAGUCHI TAKANORI
IPC分类号： G02B5/20 , C09B67/20 , G03F7/004 , G03F7/11
CPC分类号： G03F7/0007 , C08F2/44 , C08F2/48 , C09B11/12 , C09B11/24 , C09B23/04 , C09B23/06 , C09B23/083 , C09B57/00 , C09B57/007 , C09B69/008 , C09B69/06 , C09B69/103 , C09B69/105 , C09B69/109 , C09K11/06 , C09K2211/1022 , C09K2211/1029 , C09K2211/188 , G02B5/223 , G03F7/031 , G03F7/105 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/36
摘要：【課題】耐熱性が向上した着色組成物、ならびに、着色組成物を利用した、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置の提供。【解決手段】(A)下記一般式(I)で示される色素および(B)重合性化合物を含有する着色組成物。一般式(I)中、Qは、(m+n)価の連結基を表し、Rは、置換基を表し、Dは、色素残基を表す。mは、0〜6の整数を表し、nは、2〜8の整数を表し、(m+n)は2〜8の整数を表す。mが2以上の場合、複数のRは互いに異なっていても良く、nが2以上の場合、複数のDは互いに異なっていても良い。一般式(I) (R)m−Q−(D)n【選択図】なし
摘要翻译：待解决的问题：提供：具有改善的耐热性的着色组合物; 以及利用着色组合物的固化膜，滤色器，制造滤色器的方法，固态成像元件和图像显示装置。溶液：着色组合物含有（A）由通式（ I）由（R）-Q-（D）定义; 和（B）可聚合化合物。在通式（I）中，Q表示（m + n）价连接基团; R表示取代基; D代表染料残留物; m表示0-6的整数; n表示2-8的整数; 和（m + n）表示2-8的整数。在m为2以上的情况下，多个R部分可以不同; 在n为2以上的情况下，多个D部分可以不同。

2. 发明专利

JP2015028144A 色素多量体、着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置有权
标题翻译：颜料多元素，着色组合物，固化膜，彩色滤光片，制造彩色滤光片的方法，固态成像元件和图像显示装置
公开(公告)号：JP2015028144A
公开(公告)日：2015-02-12
申请号：JP2014115703
申请日：2014-06-04
申请人：富士フイルム株式会社 , Fujifilm Corp
发明人： KANEKO YUJI , WATANABE TETSUYA , SAMEJIMA KEN , ITO JUNICHI , MURO SUKETSUGU , TAGUCHI TAKANORI , ODA KAZUYA
IPC分类号： C09B69/10 , C08F20/36 , C08F290/12 , C09B67/20 , G02B5/20 , G02F1/1335 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/031
CPC分类号： C08F224/00 , C07D311/88 , C08F8/00 , C08F12/22 , C08F12/26 , C08F12/32 , C08F20/36 , C08F290/12 , C08G18/32 , C08G18/3819 , C09B11/12 , C09B11/24 , C09B23/04 , C09B23/06 , C09B23/08 , C09B47/00 , C09B69/103 , C09B69/105 , C09B69/108 , G02B5/20 , G02B5/223 , G03F7/0007 , G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/0388 , G03F7/105
摘要：【課題】パターンを形成する際に、適切にパターンを形成できる色素多量体の提供。さらに、色素多量体を用いた着色組成物、着色組成物を利用した、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置の提供。【解決手段】 (A)非求核性の対アニオンを有する色素多量体。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种颜料多聚体，其中可以在形成图案期间适当地形成图案，并且还提供使用该颜料多聚体的着色组合物，以及固化膜，滤色器，滤色器的制造方法，固体 - 状态成像元件和使用着色组合物的图像显示装置。解决方案：（A）颜料多聚体具有非亲核抗衡阴离子。

3. 发明专利

JP2014006491A Actinic ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic ray- or radiation-sensitive film based on the same, and method of forming pattern 有权
标题翻译：丙烯酰胺或辐射敏感性树脂组合物，基于其的抗紫外线或辐射敏感膜，以及形成图案的方法
公开(公告)号：JP2014006491A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：JP2012232271
申请日：2012-10-19
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： SHIBUYA AKINORI , TOKUGAWA YOKO , MATSUDA TOMOKI , ITO JUNICHI , KATAOKA SHOHEI , FUKUHARA TOSHIAKI , TANGO NAOHIRO , IWATO KAORU , YOSHITOME MASAHIRO , SUGIYAMA SHINICHI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F20/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/038 , C07C303/32 , C07C309/04 , C07C309/12 , C07D295/16 , C07D327/06 , C07D339/08 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which is excellent in exposure latitude and pattern roughness such as LWR, reduces occurrence of particles over time, and reduces, in the case of liquid-immersion exposure, elution of generated acids into an immersion liquid; an actinic ray- or radiation-sensitive film based on the same; and a method of forming a pattern.SOLUTION: The actinic ray- or radiation-sensitive resin composition includes (A) a compound represented by the specified general formula (1) that generates an acid when exposed to actinic rays or radiation, and (B) a resin.
摘要翻译：要解决的问题：提供：曝光宽容度和图案粗糙度如LWR优异的光化射线或辐射敏感性树脂组合物可以减少颗粒随时间的发生，并且在液浸曝光的情况下，将产生的酸溶解到浸液中; 基于其的光化射线或辐射敏感膜; 以及形成图案的方法。解决方案：光化射线或辐射敏感性树脂组合物包含（A）当暴露于光化射线或辐射时产生酸的特定通式（1）表示的化合物和（B ）树脂。

4. 发明专利

JP2013167731A Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using the same 审中-公开
标题翻译：化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物和使用其的图案形成方法
公开(公告)号：JP2013167731A
公开(公告)日：2013-08-29
申请号：JP2012030486
申请日：2012-02-15
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： SHIBUYA AKINORI , TOKUGAWA YOKO , MATSUDA TOMOKI , ITO JUNICHI , KATAOKA SHOHEI , FUKUHARA TOSHIAKI , TANGO NAOHIRO , IWATO KAORU , YOSHITOME MASAHIRO , SUGIYAMA SHINICHI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/26 , G03F7/038
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of suppressing pattern collapse and improving LWR (line width roughness) and storage stability, and a pattern forming method using the composition.SOLUTION: An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises: (A) resin having a repeating unit expressed by the following general formula (1) and a repeating unit that is decomposed by an action of an acid to increase the solubility in an alkali developing solution; (B) a compound Rincluding at least one nitrogen atom or a compound which is an ionic compound including a basic moiety Rincluding at least one nitrogen atom, both having such a property that R-Hor R-Has conjugated acids thereof has a pKa of 8 or lower; and (C) a compound that generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation. In the general formula (1), L represents a single bond or a divalent connecting group; Rrepresents a hydrogen atom or an alkyl group; and Z represents a cyclic acid anhydride structure.
摘要翻译：要解决的问题：提供能够抑制图案塌陷并提高LWR（线宽粗糙度）和保存稳定性的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物以及使用该组合物的图案形成方法。解决方案：敏感或辐射敏感性树脂组合物包含：（A）具有由以下通式（1）表示的重复单元的树脂和通过酸作用分解以提高在碱性显影液中的溶解度的重复单元; （B）包含至少一个氮原子的化合物或作为包含碱性部分的离子化合物的化合物包含至少一个氮原子的化合物，其具有R-Hor R-has共轭酸的pKa为8的性质或更低; 和（C）通过用光化射线或辐射照射产生酸的化合物。在通式（1）中，L表示单键或二价连接基团; R表示氢原子或烷基; Z表示环状酸酐结构。

5. 发明专利

JP2012140586A Dipyrromethene metal complex compound, colored composition containing the same, ink sheet for thermosensitive transfer recording, color toner, ink for inkjet recording, and color filter 有权
标题翻译： DIPYRROMETHENE金属复合化合物，含有它们的有色组合物，用于感温转印记录的墨盒，用于墨水记录的色调剂，墨水和彩色滤纸
公开(公告)号：JP2012140586A
公开(公告)日：2012-07-26
申请号：JP2011180561
申请日：2011-08-22
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： SASAKI DAISUKE , FUJIE YOSHIHIKO , ITO JUNICHI
IPC分类号： C09B23/00 , B41J2/01 , B41M5/00 , B41M5/385 , B41M5/388 , B41M5/39 , C09B57/10 , C09D11/00 , C09D11/328 , G03G9/09
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dipyrromethene metal complex compound exhibiting a sharp absorption spectrum peak, and excellent in the fastness and the dissolvability to a solvent.SOLUTION: The dipyrromethene metal complex compound is represented by formula (1) (wherein Rto Reach independently denote a monovalent substituent; M denotes a metal or a metal compound; and X denotes a (un)substituted 2C-3C acyloxy group, a (un)substituted alkylsulfonyloxy group, or the like).
摘要翻译：要解决的问题：提供表现出尖锐吸收光谱峰值的二吡咯亚甲基金属络合物，并且对溶剂的牢度和溶解性优异。解决方案：二吡咯亚甲基金属络合物由式（1）（其中R 1 分别独立地表示为R 8 表示一价取代基; M表示金属或金属化合物; X表示（un）取代的2C-3C酰氧基，（un）取代的烷基磺酰氧基等）。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP2012127032A Dye composition for dyeing fiber and fiber material 审中-公开
标题翻译：用于染色纤维和纤维材料的染料组合物
公开(公告)号：JP2012127032A
公开(公告)日：2012-07-05
申请号：JP2010280895
申请日：2010-12-16
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： KATAYAMA AKIO , ANDO TAKESHI , ARAI KAZUMI , FUJIE YOSHIHIKO , ITO JUNICHI
IPC分类号： D06P1/00 , C09B1/16 , C09B57/10 , C09B67/20 , C09B67/22 , C09B67/46 , D06P1/20 , D06P3/00 , D06P5/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dye composition for dyeing fiber excellent in light resistance and washing resistance, and a fiber material.SOLUTION: A dye composition for dyeing fiber contains a pyrromethene dye. The pyrromethene dye is preferably a dipyrromethene based metal complex compound in which a compound expressed by the following general formula (I) coordinates to a metal atom or a metal compound. (In the general formula (I), R, R, R, R, Rand Reach independently represent a hydrogen atom or a substituent, and Rrepresents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group.)
摘要翻译：待解决的问题：提供耐光性和耐洗涤性优异的染色纤维的染料组合物和纤维材料。解决方案：用于染色纤维的染料组合物含有亚甲基吡咯染料。亚甲基吡咯染料优选为二吡咯亚甲基基金属络合物，其中由以下通式（I）表示的化合物与金属原子或金属化合物配位。（在通式（I）中，R 1 ，R 2 ，R 3 < / SP>，R 4 ，R 5 和R 6 表示氢原子或取代基，R 6表示氢原子，卤素原子，烷基，芳基或杂环基）。权利要求：（C）2012，JPO＆INPIT

7. 发明专利

JP2011225806A Colored curable composition, color filter and method for producing the same, and liquid crystal display element 有权
标题翻译：彩色可固化组合物，彩色滤光片及其制造方法和液晶显示元件
公开(公告)号：JP2011225806A
公开(公告)日：2011-11-10
申请号：JP2010226011
申请日：2010-10-05
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： ISHIZAKA SOJI , KODAMA TOMOHIRO , ITO JUNICHI , MOROZUMI KAZUMA
IPC分类号： C09B67/20 , C09B47/00 , C09B57/10 , C09B67/46 , G02B5/20 , G02B5/22 , G02F1/1335
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a colored curable composition which exhibits a good hue and contains few free metal ions.SOLUTION: The colored curable composition comprises (A) a metal complex dye, (B) a compound having the same dye matrix as the metal complex dye and formable of a metal complex, and (C) a polymerizable compound, wherein the proportion of the compound (B) to the metal complex dye (A) is 0.1-10 mass%.
摘要翻译：要解决的问题：提供显示良好的色调并且含有少量游离金属离子的着色可固化组合物。有色固化性组合物包含（A）金属络合物染料，（B）具有与金属络合物染料相同的染料基质并可形成金属络合物的化合物，和（C）可聚合化合物，其中化合物（B）与金属络合物染料（A）的比例为0.1〜10质量％。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

8. 发明专利

JP2011170307A Colored curable composition, method for producing color filter, color filter, solid-state image pickup device, and liquid crystal display device 有权
标题翻译：彩色可固化组合物，生产彩色滤光片的方法，彩色滤光片，固态图像拾取装置和液晶显示装置
公开(公告)号：JP2011170307A
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：JP2010070850
申请日：2010-03-25
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： ODA KAZUYA , KANNA SHINICHI , FUJIE YOSHIHIKO , ITO JUNICHI , MURAKAMI YOSUKE , SUZUKI SEIICHI
IPC分类号： G03F7/004 , C09B57/10 , C09B67/20 , G02B5/20 , G02F1/1335 , G03F7/031 , G03F7/40
CPC分类号： C07D207/34 , C09B23/04 , C09B57/00 , C09B67/0033 , G03F7/0007
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a colored curable composition capable of forming a colored cured film having excellent storage stability and high light resistance.
SOLUTION: The colored curable composition includes at least (A-1) a complex including a compound represented by general formula (I) and a metal atom or a metal compound, (A-2) a phthalocyanine pigment, (B) a dispersing agent, (C) a polymerizable compound, (D) a photoinitiator, and (E) an organic solvent, wherein R
1 to R
6 each independently represent H or a substituent; and R
7 represents H, halogen, alkyl, aryl or a heterocyclic group.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：解决问题：提供能够形成具有优异的储存稳定性和高耐光性的着色固化膜的着色固化性组合物。解决方案：着色固化性组合物至少包含（A-1）包含通式（I）表示的化合物和金属原子或金属化合物的络合物，（A-2）酞菁颜料，（B）分散剂，（C）可聚合化合物，（D）光引发剂和（E）有机溶剂，其中R 1至R 6各自独立地表示H或取代基; R 7表示H，卤素，烷基，芳基或杂环基。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JP2014002358A Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, method for manufacturing electronic device, and electronic device 有权
标题翻译：图案形成方法，抗紫外线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，电阻膜，制造电子器件的方法和电子器件
公开(公告)号：JP2014002358A
公开(公告)日：2014-01-09
申请号：JP2013046376
申请日：2013-03-08
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： ITO JUNICHI , YAMAGUCHI SHUHEI , TAKAHASHI HIDETOMO , YAMAMOTO KEI
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0046 , C08F220/18 , C08F220/22 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/091 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/32 , G03F7/325 , G03F7/40 , H01L21/027 , H01L21/0273
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method showing excellence in reduction of bridge defects and restrained in generation of particles in forming a fine pattern with a line width of 50 nm or less by a developing method using an organic developing solution, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition used for the method, a resist film, a method for manufacturing an electronic device, and an electronic device.SOLUTION: The pattern forming method includes steps of: (i) forming a film of an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition; (ii) exposing the film; and (iii) developing the film by using a developing solution containing an organic solvent to form a negative pattern. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises (A) a resin showing an increase in the polarity by an action of an acid to decrease the solubility with a developing solution containing an organic solvent, (B) a compound that generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation, (C) a solvent, and (D) a resin having a structural unit including a fluorine atom but no CFmoiety structure.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种图案形成方法，其通过使用有机显影液的显影方法，形成具有50nm以下的线宽的细微图案形成中桥接缺陷的降低和抑制粒子生成的图案形成方法，以及提供用于该方法的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，抗蚀剂膜，电子器件的制造方法和电子器件。解决方案：图案形成方法包括以下步骤：（i）形成膜的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物; （ii）曝光胶片; 和（iii）通过使用含有有机溶剂的显影溶液显影以形成负图案。光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含（A）通过酸的作用显示极性增加的树脂，以降低与含有机溶剂的显影液的溶解度，（B）产生酸，通过光化射线或辐射照射，（C）溶剂，和（D）具有包含氟原子但不具有CF结构的结构单元的树脂。

10. 发明专利

JP2013182023A Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and pattern formation method using said composition, and electronic device manufacturing method and electronic device 审中-公开
标题翻译：丙烯酸敏感性或辐射敏感性树脂组合物，丙烯酸类敏感性或辐射敏感性膜和使用组合物的图案形成方法，以及电子设备制造方法和电子设备
公开(公告)号：JP2013182023A
公开(公告)日：2013-09-12
申请号：JP2012043845
申请日：2012-02-29
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： TOKUGAWA YOKO , KATAOKA SHOHEI , SHIBUYA AKINORI , ITO JUNICHI , MATSUDA TOMOKI , IWATO KAORU , SUGIYAMA SHINICHI , TANGO NAOHIRO , FUKUHARA TOSHIAKI , YOSHITOME MASAHIRO
IPC分类号： G03F7/004 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/22 , C07C311/09 , C07C381/12 , C08F220/28 , C09K3/00 , G03F7/039
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in DOF and pattern roughness characteristics such as LWR without much deterioration in performance over time; an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern formation method which use the composition; and an electronic device manufacturing method and an electronic device.SOLUTION: An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains (A) a resin whose solubility in an alkaline developer is increased by the action of an acid, (B) a compound which is represented by the specified general formula (1) and generates an acid upon exposure to an actinic ray or radiation, and (C) a low molecular weight compound having on a nitrogen atom a group leaving by the action of an acid. (The meaning of each symbol in the formula is described in the claims.)
摘要翻译：要解决的问题：提供：具有优异的DOF和图案粗糙度特性如LWR的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，随着时间的推移性能不会降低; 光化射线敏感或辐射敏感膜和使用该组合物的图案形成方法; 电子器件的制造方法和电子器件。光解射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物含有（A）通过酸的作用使在碱性显影剂中的溶解度增加的树脂，（B）化合物其由指定的通式（1）表示，并且在暴露于光化射线或辐射时产生酸，和（C）在氮原子上具有通过酸作用离去的基团的低分子量化合物。（公式中每个符号的含义在权利要求中描述。）

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