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1. 发明专利

JP2013058801A Method of correcting/repairing lithography projection target instrument 有权
标题翻译：校正/修正LITHOGRAPHY投影目标仪器的方法
公开(公告)号：JP2013058801A
公开(公告)日：2013-03-28
申请号：JP2012269465
申请日：2012-12-10
申请人： Carl Zeiss Smt Gmbh , カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人： OLAF ROGALSKY , BORIS BITTNER , PETASCH THOMAS , JOCHEN HAEUSSLER
IPC分类号： H01L21/027 , G02B19/00
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70258 , G03F7/70975
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of correcting/repairing a projection target instrument of a lithography projection exposure apparatus.SOLUTION: The method of correcting/repairing a projection target instrument of a lithography projection exposure apparatus (10) including a plurality of optical elements, each containing at least one first optica element having a refractive power, between an object plane (12) and an image plane (16) includes the steps of: removing at least one first optical element from the projection target instrument in the field without replacing all optical elements; inserting at least one first preliminary optical element into the projection target instrument at the position of at least one first optical element; and adjusting the image quality of the projection target instrument to a desired quality.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种修正/修复光刻投影曝光设备的投影目标仪器的方法。解决方案：修正/修复包括多个光学元件的光刻投影曝光设备（10）的投影目标仪器的方法，每个光学元件在物平面（12）之间包含至少一个具有屈光力的第一光学元件）和图像平面（16）包括以下步骤：在现场从投影目标仪器中去除至少一个第一光学元件而不替换所有光学元件; 在至少一个第一光学元件的位置处将至少一个第一预备光学元件插入所述投影目标仪器中; 并且将投影目标仪器的图像质量调整到期望的质量。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

2. 发明专利

JP2015007784A 投影光学系有权
标题翻译：投影光学系统
公开(公告)号：JP2015007784A
公开(公告)日：2015-01-15
申请号：JP2014158976
申请日：2014-08-04
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー , Carl Zeiss Smt Gmbh
发明人： RAU JOHANNES , SHAPAHAR ALMIN , BERNHARD GERLICH , JENS KUGLER , MAHLMANN MARTIN , GOYPERT BERNHARD , PETASCH THOMAS , FUERTER GERHARD
IPC分类号： G02B7/02 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7015 , G02B7/00 , G02B7/008 , G02B7/021 , G02B7/028 , G02B7/22 , G02B17/08 , G02B17/0804 , G02B17/0812 , G02B17/0892 , G03F7/70808 , G03F7/70825 , G03F7/70833 , G03F7/70883
摘要：【課題】マイクロリソグラフィシステムの投影光学系の補助光学系、特にレンズユニットの支持部を提供する。【解決手段】第1光学素子モジュールは、第1筐体ユニット3.1と、少なくとも第1光学素子とを有する。第2光学素子モジュール7.1及び8.1は、第1光学素子モジュールに隣接して設けられ、少なくとも1つの第2光学素子7.2及び8.2を有する。第2光学素子7.2及び8.2は投影光学ユニットの第2・第3光学軸7.3及び8.3を規定する。第1筐体ユニット3.1は、第1筐体軸3.2と、第1光学軸10.13及び10.14に対して周方向に延びる外壁3.3を有する。第1光学軸10.13及び10.14は、横方向にずれており、第1筐体軸3.2に関して傾斜している。さらに、第1筐体軸3.2は実質的に第2光学軸7.3及び8.3と同一直線上にある。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供微光刻系统的投影光学系统的辅助光学系统的支撑部分，特别是透镜单元。解决方案：第一光学元件模块包括第一壳体单元3.1和至少第一光学元件。第二光学元件模块7.1和8.1被设置为与第一光学元件模块相邻并且分别包括至少单个第二光学元件7.2和8.2。第二光学元件7.2和8.2调节投影光学单元的第二和第三光轴7.3和8.3。第一壳体单元3.1包括第一壳体轴线3.2和相对于第一光轴10.13和10.14在圆周方向上延伸的外壁3.3。第一光轴10.13和10.14相对于第一壳体轴线3.2横向偏转并倾斜，并且第一壳体轴线3.2与第二光轴7.3和8.3基本上处于相同的直线。

3. 发明专利

JP2012042967A Projection optical system 有权
标题翻译：投影光学系统
公开(公告)号：JP2012042967A
公开(公告)日：2012-03-01
申请号：JP2011208150
申请日：2011-09-22
申请人： Carl Zeiss Smt Gmbh , カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人： RAU JOHANNES , SHAPAHAR ALMIN , GELLRICH BERNHARD , JENS KUGLER , MAHLMANN MARTIN , GOYPERT BERNHARD , PETASCH THOMAS , FUERTER GERHARD
IPC分类号： G02B7/02 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7015 , G02B7/00 , G02B7/008 , G02B7/021 , G02B7/028 , G02B7/22 , G02B17/08 , G02B17/0804 , G02B17/0812 , G02B17/0892 , G03F7/70808 , G03F7/70825 , G03F7/70833 , G03F7/70883
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure of an airtight and light-tight housing preventing complication of a whole system in a support section of an auxiliary optical system of a projection optical system of a microlithography system.SOLUTION: A first optical element module 7 includes a first housing and at least a first optical element, and the first optical element is stored in the first housing and includes a first optical use region 10.7 that regulates a first optical axis 10.13 and is optically used. At least a single second optical element module 8 is provided adjacent to the first optical element module 7 and includes at least a single second optical element, and the second optical element regulates a second optical axis 10.14 of a projection optical unit 2. The first housing includes a first housing axis 3.2 and an external wall 3.3 extending in the circumferential direction with respect to the first optical axis 10.13, the first optical axis 10.13 is laterally deflected and is at least one of axes being inclined with respect to the first housing axis 3.2, and the first housing axis 3.2 is substantially in a same straight line with the second optical axis 8.3.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种气密和不透光的壳体的结构，以防止在微光刻系统的投影光学系统的辅助光学系统的支撑部分中的整个系统的复杂化。解决方案：第一光学元件模块7包括第一壳体和至少第一光学元件，并且第一光学元件被存储在第一壳体中并且包括第一光学使用区域10.7，其调节第一光轴10.13和被光学使用。至少单个第二光学元件模块8设置成与第一光学元件模块7相邻并且包括至少一个第二光学元件，并且第二光学元件调节投影光学单元2的第二光轴10.14。第一壳体包括第一壳体轴线3.2和相对于第一光轴10.13在圆周方向上延伸的外壁3.3，第一光轴10.13横向偏转，并且至少一个轴线相对于第一壳体轴线3.2倾斜并且第一壳体轴线3.2与第二光轴8.3基本上处于相同的直线。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

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