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1. 发明专利

JP2014232889A リソグラフィ装置及び方法有权
标题翻译： LITHOGRAPHY设备和方法
公开(公告)号：JP2014232889A
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：JP2014179119
申请日：2014-09-03
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー , Carl Zeiss Smt Gmbh
发明人： MATEIASU SHIYUUMATSUHAA , BURKHARD CORVES , JENS KUGLER , MARKUS KNUEFERMANN , BERNHARD GEUPPERT , STEPHEN SALTER , GELLRICH BERNHARD
IPC分类号： H01L21/027 , F16F15/023 , F16F15/04 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70825 , F16M11/20 , G03F7/70725 , G03F7/70833 , G03F7/709
摘要：【課題】リソグラフィ装置を立設した床が動いた場合にリソグラフィ装置の損傷を回避する。【解決手段】第1コンポーネント(204)と、第2コンポーネント(206)と、第1コンポーネント(204)及び第2コンポーネント(206)を相互に結合するよう構成した結合デバイス(222)と、リソグラフィ装置(202)を立設した床(200)の運動(Z)を捕捉する捕捉デバイス(230)と、第1コンポーネント(204)に対する第2コンポーネント(206)の運動を制限するために、床(200)の捕捉した運動(Z)に応じて結合デバイス(222)を作動するよう構成した制御デバイス(232)とを備えたリソグラフィ装置(202)を開示する。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：为了避免光刻设备在其上移动的地板上的光刻设备的损坏。解决方案：光刻设备（202）包括：第一部件（204）; 第二部件（206）; 构造成将所述第一部件（204）与所述第二部件（206）相互联接的联接装置（222）。用于捕获光刻设备（202）所在的地板（200）的移动（Z）的捕获装置（230）以及控制装置（232），其被构造成根据所述地板（200）的捕获的移动（Z）来操作所述联接装置（222），以便限制所述第二部件（206）相对于所述第一部件（206）的移动 204）。

2. 发明专利

JP2014168095A Optical imaging device 有权
标题翻译：光学成像装置
公开(公告)号：JP2014168095A
公开(公告)日：2014-09-11
申请号：JP2014097025
申请日：2014-05-08
申请人： Carl Zeiss Smt Gmbh , カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人： BERNHARD GERLICH , JENS KUGLER , THOMAS ITTNER , STEPHAN HEIMBACH , KARL-HEINZ SCHIMITZEK , PAYAM TAYEBATI , HOLDERER HUBERT
IPC分类号： H01L21/027 , G02B21/00
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70891
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical imaging device and an optical imaging method, which make it possible to easily compensate for an environmental influence, in particular on an optical element, due to local heat with consideration given to an action of absorbing projection light.SOLUTION: An optical imaging device, in particular for use in microlithography, includes a mask device for accommodating a mask having a projection pattern, a projection device with an optical element group, a substrate device for accommodating a substrate, and an immersion zone. The optical element group is constructed so as to project the projection pattern onto the substrate and includes a plurality of optical elements having an immersion element that is at least temporarily located adjacent to an immersion zone 110 during operation. During operation, the immersion zone is located between the immersion element and the substrate and is at least temporarily filled with an immersion medium 110.1. A thermal attenuation device 111 is provided which is constructed so as to reduce a fluctuation induced in a temperature distribution TE of the immersion element by the immersion medium.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种光学成像装置和光学成像方法，其可以考虑到吸收投影光的作用，容易地补偿由于局部热而引起的对光学元件的环境影响解决方案：特别是用于微光刻的光学成像装置包括用于容纳具有投影图案的掩模的掩模装置，具有光学元件组的投影装置，用于容纳基板的基板装置和浸没区域。光学元件组被构造成将投影图案投影到基板上，并且包括多个光学元件，其具有在操作期间至少临时定位为与浸没区域110相邻的浸没元件。在操作期间，浸没区位于浸没元件和基底之间，并且至少暂时用浸没介质110.1填充。提供一种热衰减装置111，其被构造成减少由浸没介质在浸没元件的温度分布TE中引起的波动。

3. 发明专利

JP2013047836A Optical module 有权
标题翻译：光学模块
公开(公告)号：JP2013047836A
公开(公告)日：2013-03-07
申请号：JP2012234822
申请日：2012-10-24
申请人： Carl Zeiss Smt Gmbh , カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人： JENS KUGLER , ULRICH WEBER , NICOLAI WENGERT
IPC分类号： G02B7/02 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7015 , G02B7/003 , G02B7/02 , G03F7/70825
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a support element and a method for supporting an optical element of a microlithographic projection exposure system, which allow, in a simple manner, high accuracy and large control bandwidth in positioning of the optical element, with long lifetimes of the support element.SOLUTION: A bipod 109.1 including two bipod braces to retain an optical element 106.1 is such that one brace head and a connecting line connecting two brace feet are located on a plane of the bipod 109.1, and the spacing of the brace feet can be adjusted by one lever 113 which is retained on a bearing and engages with one brace foot via a connection unit and is moveable in one direction of motion. A connection unit has at least one flexure 114 with precisely one bending plane, and the flexure 114 has a rigid configuration perpendicularly to the bending plane.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于支持微光刻投影曝光系统的光学元件的支撑元件和方法，其允许以简单的方式在光学元件的定位中具有高精度和大的控制带宽，与支撑元件的使用寿命长。解决方案：包括用于保持光学元件106.1的两个双足杆支架的双头109.1使得连接两个支撑脚的一个支撑头和连接线位于双脚架109.1的平面上，并且支撑脚的间隔可以通过保持在轴承上的一个杠杆113调节，并通过连接单元与一个支撑脚接合，并可在一个运动方向上移动。连接单元具有至少一个具有精确的一个弯曲平面的挠曲件114，并且挠曲件114具有垂直于弯曲平面的刚性构型。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP2015007784A 投影光学系有权
标题翻译：投影光学系统
公开(公告)号：JP2015007784A
公开(公告)日：2015-01-15
申请号：JP2014158976
申请日：2014-08-04
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー , Carl Zeiss Smt Gmbh
发明人： RAU JOHANNES , SHAPAHAR ALMIN , BERNHARD GERLICH , JENS KUGLER , MAHLMANN MARTIN , GOYPERT BERNHARD , PETASCH THOMAS , FUERTER GERHARD
IPC分类号： G02B7/02 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7015 , G02B7/00 , G02B7/008 , G02B7/021 , G02B7/028 , G02B7/22 , G02B17/08 , G02B17/0804 , G02B17/0812 , G02B17/0892 , G03F7/70808 , G03F7/70825 , G03F7/70833 , G03F7/70883
摘要：【課題】マイクロリソグラフィシステムの投影光学系の補助光学系、特にレンズユニットの支持部を提供する。【解決手段】第1光学素子モジュールは、第1筐体ユニット3.1と、少なくとも第1光学素子とを有する。第2光学素子モジュール7.1及び8.1は、第1光学素子モジュールに隣接して設けられ、少なくとも1つの第2光学素子7.2及び8.2を有する。第2光学素子7.2及び8.2は投影光学ユニットの第2・第3光学軸7.3及び8.3を規定する。第1筐体ユニット3.1は、第1筐体軸3.2と、第1光学軸10.13及び10.14に対して周方向に延びる外壁3.3を有する。第1光学軸10.13及び10.14は、横方向にずれており、第1筐体軸3.2に関して傾斜している。さらに、第1筐体軸3.2は実質的に第2光学軸7.3及び8.3と同一直線上にある。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供微光刻系统的投影光学系统的辅助光学系统的支撑部分，特别是透镜单元。解决方案：第一光学元件模块包括第一壳体单元3.1和至少第一光学元件。第二光学元件模块7.1和8.1被设置为与第一光学元件模块相邻并且分别包括至少单个第二光学元件7.2和8.2。第二光学元件7.2和8.2调节投影光学单元的第二和第三光轴7.3和8.3。第一壳体单元3.1包括第一壳体轴线3.2和相对于第一光轴10.13和10.14在圆周方向上延伸的外壁3.3。第一光轴10.13和10.14相对于第一壳体轴线3.2横向偏转并倾斜，并且第一壳体轴线3.2与第二光轴7.3和8.3基本上处于相同的直线。

5. 发明专利

JP2012256921A Optical imaging device 有权
标题翻译：光学成像装置
公开(公告)号：JP2012256921A
公开(公告)日：2012-12-27
申请号：JP2012175295
申请日：2012-08-07
申请人： Carl Zeiss Smt Gmbh , カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人： GELLRICH BERNHARD , JENS KUGLER , THOMAS ITTNER , STEPHAN HEIMBACH , KARL-HEINZ SCHIMITZEK , PAYAM TAYEBATI , HOLDERER HUBERT
IPC分类号： H01L21/027 , G02B21/00 , G02B21/28 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70891
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical imaging device and an optical imaging method capable of simply compensating environmental influences of local heat on an optical element.SOLUTION: An optical imaging device especially used for microlithography comprises a mask device for housing a mask having a projection pattern, a projection device having an optical element group, a substrate device for housing the substrate, and a liquid immersion zone 110. The optical element group is constituted to project the projection pattern on the substrate, and comprises a plurality of optical elements having liquid immersion elements at least temporarily arranged adjacent to the liquid immersion zone 110 during an operation. During an operation, the liquid immersion zone 110 is arranged between the liquid immersion elements and a substrate, and is at least temporarily filled with a liquid immersion medium 110.1. A heat attenuating device 111 is provided, and is constituted to reduce variation induced by a temperature distribution TE of the liquid immersion elements by the liquid immersion medium 110.1.
摘要翻译：要解决的问题：提供能够简单地补偿局部热对光学元件的环境影响的光学成像装置和光学成像方法。解决方案：特别用于微光刻的光学成像装置包括用于容纳具有突出图案的掩模的掩模装置，具有光学元件组的投影装置，用于容纳基板的基板装置和液浸区域110。光学元件组被构造成将投影图案投影在基板上，并且包括在操作期间至少临时布置为与液浸区域110相邻的液浸元件的多个光学元件。在操作期间，液浸区域110布置在液浸元件和基底之间，并且至少暂时填充有浸液介质110.1。设置有热衰减装置111，构成为通过液浸介质110.1降低由液浸元件的温度分布TE引起的变化。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

6. 发明专利

JP2012042967A Projection optical system 有权
标题翻译：投影光学系统
公开(公告)号：JP2012042967A
公开(公告)日：2012-03-01
申请号：JP2011208150
申请日：2011-09-22
申请人： Carl Zeiss Smt Gmbh , カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人： RAU JOHANNES , SHAPAHAR ALMIN , GELLRICH BERNHARD , JENS KUGLER , MAHLMANN MARTIN , GOYPERT BERNHARD , PETASCH THOMAS , FUERTER GERHARD
IPC分类号： G02B7/02 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7015 , G02B7/00 , G02B7/008 , G02B7/021 , G02B7/028 , G02B7/22 , G02B17/08 , G02B17/0804 , G02B17/0812 , G02B17/0892 , G03F7/70808 , G03F7/70825 , G03F7/70833 , G03F7/70883
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure of an airtight and light-tight housing preventing complication of a whole system in a support section of an auxiliary optical system of a projection optical system of a microlithography system.SOLUTION: A first optical element module 7 includes a first housing and at least a first optical element, and the first optical element is stored in the first housing and includes a first optical use region 10.7 that regulates a first optical axis 10.13 and is optically used. At least a single second optical element module 8 is provided adjacent to the first optical element module 7 and includes at least a single second optical element, and the second optical element regulates a second optical axis 10.14 of a projection optical unit 2. The first housing includes a first housing axis 3.2 and an external wall 3.3 extending in the circumferential direction with respect to the first optical axis 10.13, the first optical axis 10.13 is laterally deflected and is at least one of axes being inclined with respect to the first housing axis 3.2, and the first housing axis 3.2 is substantially in a same straight line with the second optical axis 8.3.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种气密和不透光的壳体的结构，以防止在微光刻系统的投影光学系统的辅助光学系统的支撑部分中的整个系统的复杂化。解决方案：第一光学元件模块7包括第一壳体和至少第一光学元件，并且第一光学元件被存储在第一壳体中并且包括第一光学使用区域10.7，其调节第一光轴10.13和被光学使用。至少单个第二光学元件模块8设置成与第一光学元件模块7相邻并且包括至少一个第二光学元件，并且第二光学元件调节投影光学单元2的第二光轴10.14。第一壳体包括第一壳体轴线3.2和相对于第一光轴10.13在圆周方向上延伸的外壁3.3，第一光轴10.13横向偏转，并且至少一个轴线相对于第一壳体轴线3.2倾斜并且第一壳体轴线3.2与第二光轴8.3基本上处于相同的直线。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

7. 发明专利

JP2014160257A Optical module 有权
标题翻译：光学模块
公开(公告)号：JP2014160257A
公开(公告)日：2014-09-04
申请号：JP2014060303
申请日：2014-03-24
申请人： Carl Zeiss Smt Gmbh , カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人： JENS KUGLER , ULRICH WEBER , NICOLAI WENGERT
IPC分类号： G02B7/02
CPC分类号： G03F7/7015 , G02B7/003 , G02B7/02 , G03F7/70825
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a support element and a method for supporting an optical element which allow in a simple manner a high accuracy and a high control bandwidth in positioning and orienting the optical element and extension of the lifetime of the support element.SOLUTION: An optical module comprises: a support unit; and at least one bipod 109.1 for holding and/or positioning an optical element 106.1 of a microlithographic projection exposure system relative to the support unit. The bipod 109.1 includes two bipod braces, for each of which a brace foot is directly or indirectly connected to the support unit 110 at a first end and a brace head is directly or indirectly connected to an optical element 106.1 at a second end, and which can be adjusted by at least one lever 113. At least one direction of motion of the lever is outside of the bipod plane, and a connection unit has at least one flexure with precisely one bending plane.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种支撑元件和支撑光学元件的方法，其允许以简单的方式在定位和定向光学元件以及延长支撑元件的寿命的同时具有高精度和高控制带宽。光模块包括：支撑单元; 以及至少一个双头109.1，用于保持和/或定位相对于支撑单元的微光刻投影曝光系统的光学元件106.1。双脚架109.1包括两个双脚架，其中支撑脚在第一端处直接或间接地连接到支撑单元110，并且支架头在第二端处直接或间接地连接到光学元件106.1，并且哪个可以通过至少一个杠杆113进行调节。杠杆的至少一个运动方向在双脚架平面之外，并且连接单元具有至少一个具有精确的一个弯曲平面的挠曲。

8. 发明专利

JP2014022739A Lithography apparatus and method 有权
标题翻译：平面设备和方法
公开(公告)号：JP2014022739A
公开(公告)日：2014-02-03
申请号：JP2013147694
申请日：2013-07-16
申请人： Carl Zeiss Smt Gmbh , カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人： MATEIASU SHIYUUMATSUHAA , BURKHARD CORVES , JENS KUGLER , MARKUS KNUEFERMANN , BERNHARD GEUPPERT , STEPHEN SALTER , GELLRICH BERNHARD
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70825 , F16M11/20 , G03F7/70725 , G03F7/70833 , G03F7/709
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithography apparatus in which damage to components of the lithography apparatus is avoided when a floor on which the lithography apparatus stands moves.SOLUTION: There is disclosed a lithography apparatus 202 which comprises: a first component 204; a second component 206; a coupling device 222 configured to couple the first component 204 and the second component 206 to one another; a capture device 230 for capturing a movement Z of a floor 200 on which the lithography apparatus 202 stands; and a control device 232 configured to actuate the coupling device 222 depending on the captured movement Z of the floor 200 in order to restrict a movement of the second component 206 relative to the first component 204.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种光刻设备，其中当光刻设备所处的地面移动时，避免对光刻设备的部件造成损坏。解决方案：公开了一种光刻设备202，其包括：第一部件204; 第二部件206; 被配置为将第一组件204和第二组件206彼此耦合的耦合设备222; 用于捕获光刻设备202所在的地面200的移动Z的捕获装置230; 以及控制装置232，其被配置为根据所捕获的地板200的移动Z致动联接装置222，以便限制第二部件206相对于第一部件204的移动。

9. 发明专利

JP2013080933A Parasitic load minimization optical element module 有权
标题翻译： PARASITIC LOAD MINIMIZATION光学元件模块
公开(公告)号：JP2013080933A
公开(公告)日：2013-05-02
申请号：JP2012239984
申请日：2012-10-31
申请人： Carl Zeiss Smt Gmbh , カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人： JENS KUGLER , ULRICH WEBER , DIRK SHAFER
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a support structure which supports an optical element unit and comprises a contact device placed in the support device.SOLUTION: By the action of the holding force generated on an optical element unit 108 in a first direction via a first contact face 109.5 of a contact device, the first contact face is in contact with a second contact face of the optical element unit. The contact device comprises a first link part and a second link part which extend along a second direction transverse to the first direction.

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