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1. 发明申请

WO2004089555A1 VORRICHTUNG ZUM BESCHICHTEN EINER LAUFENDEN MATERIALBAHN 审中-公开
标题翻译：设备用于涂覆的跑料WEB
公开(公告)号：WO2004089555A1
公开(公告)日：2004-10-21
申请号：PCT/EP2004/002481
申请日：2004-03-11
申请人： BACHOFEN + MEIER AG , METZGER, Rolf , HOLTMANN, Bruno , ZINDEL, Arno
发明人： METZGER, Rolf , HOLTMANN, Bruno , ZINDEL, Arno
IPC分类号： B05C5/00
CPC分类号： B05C5/008 , G03C1/74 , Y10S118/04
摘要： Zum Beschichten einer laufenden Materialbahn (13) sind Vorrichtungen mit einem Gießbehälter (1) bekannt, der - eine Gießfläche (8) zur Abgabe des Beschichtungsmaterials in einem frei fallenden Vorhang (C), - zumindest eine sich quer zur Bahnlaufrichtung erstreckende Verteilkammer (2) mit einer Zufuhr (10) für Beschichtungsmaterial und einem Austrittsschlitz (9) auf die Gießfläche (8) und - zwei seitliche, sich nach unten erstreckende Führungselemente (7, 12) für die Ränder des Vorhangs (C) aufweist. Nach der Erfindung, sind die seitlichen Führungselemente (7, 12) an ihrem oberen Ende den Verlauf der Gießfläche (8) entsprechend gekrümmt gestaltet und auf der Gießfläche (8) quer verstellbar befestigt und die Beschichtungsmaterialzufuhr (10) mündet im mittleren Bereich des Gießbehälters (1) in die Verteilkammer (2).
摘要翻译：用于涂覆的行驶材料幅（13）是具有浇注容器（1）是已知的装置，其 - 浇铸表面（8），用于在自由下落帘幕（C）分配所述涂层材料， - 至少一个横向延伸到web运行方向分配室（2）与涂层材料的供给（10）和出口槽（9）在料斗面（8），以及 - 具有用于帘（C）的边缘的两个侧，向下延伸的引导元件（7,12）。根据本发明，横向引导元件（7,12）在其上端处的铸件表面的过程中（8）被设计相应弯曲和浇铸表面（8）调节的横向固定的，并且涂层材料供给装置（10）在铸造的中心区域打开（ 1）在分配室（2）。

2. 发明申请

WO2004052764A1 VAKUUM-KÜHLWALZE 审中-公开
标题翻译：真空冷却辊
公开(公告)号：WO2004052764A1
公开(公告)日：2004-06-24
申请号：PCT/EP2003/011613
申请日：2003-10-21
申请人： BACHOFEN + MEIER AG MASCHINENFABRIK , HOLTMANN, Bruno , DESSOVIC, Konrad , METZGER, Rolf , ZINDEL, Arno
发明人： HOLTMANN, Bruno , DESSOVIC, Konrad , METZGER, Rolf , ZINDEL, Arno
IPC分类号： B65H20/12
CPC分类号： B65H20/12 , B65H27/00 , B65H2301/5144 , B65H2406/331 , B65H2406/3612
摘要： Vakuum-Kühlwalze für bahnförmige Materialien, insbesondere für Papier- oder Karton-bahnen, Kunststoff oder Metallfolien, deren Mantel Luftdurchtrittsöffnungen (22) aufweist, die zumindest im Umschlingungsbereich der Bahn mit einem Unterdruck beaufschlagbar sind und die Mittel zum Kühlen der Mantelfläche (9) aufweisen, wobei die Kühlung der Mantelfläche (9) über axial im Walzenmantel (9) verlaufende von einem Kühlmedium durchströmte Kühlkanäle (21), insbesondere Bohrungen, erfolgt.
摘要翻译：包括真空冷却辊对幅状材料，特别是用于纸或纸板幅材，塑料或金属箔，外空气通道开口，其可根据至少在幅材的缠绕到真空和用于冷却圆周表面的装置被作用（22）（9）其中，所述外表面（9）沿轴向在辊壳的冷却（9）延伸的流过通过冷却介质的冷却通道（21），特别是孔发生。

3. 发明申请

WO2010020445A1 TRAP 审中-公开
标题翻译：陷阱
公开(公告)号：WO2010020445A1
公开(公告)日：2010-02-25
申请号：PCT/EP2009/057390
申请日：2009-06-15
申请人： OERLIKON SOLAR IP AG, TRÜBBACH , FISCHER, Tobias , SCHNEIDER, Stefan , GÖTTLICH, Hagen , BHANGU, Kavreet , VOGLER, Benjamin , WIDMEIER, Christoph , ZINDEL, Arno
发明人： FISCHER, Tobias , SCHNEIDER, Stefan , GÖTTLICH, Hagen , BHANGU, Kavreet , VOGLER, Benjamin , WIDMEIER, Christoph , ZINDEL, Arno
IPC分类号： C23C16/44
CPC分类号： C23C16/4412
摘要： The present invention provides a hot-trap device (1) comprising an enclosure (2) with at least one inlet (3), at least one outlet (5) at least one heating means (7) and at least one collector means (10) for the conversion of reaction by-products into products, wherein the collector means is arranged within the enclosure between the inlet and the outlet has a diameter that substantially matches the diameter of the enclosure and has at least one opening (18).
摘要翻译：本发明提供一种热阱装置（1），其包括具有至少一个入口（3），至少一个出口（5）至少一个加热装置（7）和至少一个收集器装置（10）的外壳（2）），用于将反应副产物转化成产物，其中收集器装置布置在入口和出口之间的外壳内，其直径基本上与外壳的直径相匹配并具有至少一个开口（18）。

4. 发明申请

WO2008106812A1 VACUUM COATING APPARATUS 审中-公开
标题翻译：真空涂装装置
公开(公告)号：WO2008106812A1
公开(公告)日：2008-09-12
申请号：PCT/CH2008/000080
申请日：2008-02-29
申请人： OC OERLIKON BALZERS AG , ZINDEL, Arno , POPPELLER, Markus , ZIMIN, Dmitry , KUHN, Hansjörg , KERSCHBAUMER, Joerg
发明人： ZINDEL, Arno , POPPELLER, Markus , ZIMIN, Dmitry , KUHN, Hansjörg , KERSCHBAUMER, Joerg
IPC分类号： C23C14/56 , C23C14/54 , C23C16/54
CPC分类号： C23C14/568 , C23C14/541 , C23C16/54
摘要： An inline vacuum processing apparatus for processing of substrates in vacuum comprises at least one load-lock chamber (10), at least two subsequent deposition chambers (4-7) to be operated with essentially the same set of coating parameters and at least one unload-lock chamber (10) plus means for transferring, post-processing and/or handling substrates through and in the various chambers. A method for depositing a thin film on a substrate in such processing system comprises the steps of introducing a first substrate into a load-lock chamber, lowering the pressure in said chamber; transferring the substrate into a first deposition chamber; depositing a layer of a first material on said first substrate using a first set of coating parameters; transferring said first substrate into a second, subsequent deposition chamber of said inline system without breaking vacuum and depositing a further layer of said first material on said first substrate using substantially the same set of parameters. Simultaneously to step f) a second substrate is being treated in said inline vacuum system according to step d).
摘要翻译：用于在真空中处理衬底的在线真空处理设备包括至少一个装载锁定室（10），至少两个随后的沉积室（4-7），其基本上具有相同的涂层参数组和至少一个卸载 - 锁定室（10）以及用于通过各室和在各个室中传送，后处理和/或处理基板的装置。一种在这种处理系统中在衬底上沉积薄膜的方法包括以下步骤：将第一衬底引入加载锁定室，降低所述腔室中的压力; 将衬底转移到第一沉积室中; 使用第一组涂层参数在所述第一衬底上沉积第一材料层; 将所述第一衬底转移到所述在线系统的第二后续沉积室中，而不会破坏真空并且使用基本上相同的参数集将所述第一材料的另一层沉积在所述第一衬底上。在步骤f）的同时，根据步骤d）在所述在线真空系统中处理第二衬底。

5. 发明申请

WO2010022530A1 METHOD FOR MANUFACTURING TRANSPARENT CONDUCTIVE OXIDE (TCO) FILMS; PROPERTIES AND APPLICATIONS OF SUCH FILMS 审中-公开
标题翻译：制造透明导电氧化物（TCO）膜的方法; 这种膜的性质和应用
公开(公告)号：WO2010022530A1
公开(公告)日：2010-03-04
申请号：PCT/CH2009/000291
申请日：2009-08-28
申请人： OERLIKON SOLAR IP AG, TRÜBBACH , DIMITRY, Zimin , ZINDEL, Arno , TEREN, Andrew , WATKINS, Owan Charles , DESPONT, Laurent , WIDER, Joachim , RAMOINO, Luca , GOSSLA, Mario , VOGLER, Benjamin , KERSCHBAUMER, Joerg , SCHNEIDER, Stefan , MARK, Andreas , POPPELLER, Markus , KUHN, Hansjoerg , BORRELLO, Daniel , BENAGLI, Stefano , MEIER, Johannes , KROLL, Ulrich , VALLAT-SAUVAIN, Evelyne
发明人： DIMITRY, Zimin , ZINDEL, Arno , TEREN, Andrew , WATKINS, Owan Charles , DESPONT, Laurent , WIDER, Joachim , RAMOINO, Luca , GOSSLA, Mario , VOGLER, Benjamin , KERSCHBAUMER, Joerg , SCHNEIDER, Stefan , MARK, Andreas , POPPELLER, Markus , KUHN, Hansjoerg , BORRELLO, Daniel , BENAGLI, Stefano , MEIER, Johannes , KROLL, Ulrich , VALLAT-SAUVAIN, Evelyne
IPC分类号： C23C16/40 , C23C16/44 , H01L31/0224 , H01L31/0392 , H01L31/18 , H01L21/365
CPC分类号： C23C16/407 , C23C16/44 , H01L21/02422 , H01L21/02554 , H01L21/02573 , H01L21/0262 , H01L31/022483 , H01L31/075 , H01L31/1884 , Y02E10/548
摘要： A method for manufacturing a boron doped, transparent, conductive zinc oxide layer from on a substrate is disclosed. The layer is being deposited from at least diethylzinc, water and diborane by low pressure chemical vapour deposition (LPCVD) in a process chamber of a deposition system comprising wherein the gas flow ratio of diethylzinc and water is kept between 0.87 and 1.3 and the gas flow ratio of diborane and diethylzinc is being kept between 0.05 and 0.4. The haze of such manufactured layer, measured as ratio of diffuse transmittance to total transmittance at 600nm, is between 10 and 25%.
摘要翻译：公开了一种从衬底上制造硼掺杂的透明导电氧化锌层的方法。该层在沉积系统的处理室中通过低压化学气相沉积（LPCVD）从至少二乙基锌，水和乙硼烷沉积，其中二乙基锌和水的气体流量比保持在0.87和1.3之间，气流乙硼烷和二乙基锌的比例保持在0.05和0.4之间。以600nm处的扩散透射率与总透射率的比率测量的这种制造层的雾度在10％和25％之间。

6. 发明申请

WO2010020446A1 TRAP 审中-公开
标题翻译：陷阱
公开(公告)号：WO2010020446A1
公开(公告)日：2010-02-25
申请号：PCT/EP2009/057395
申请日：2009-06-15
申请人： OERLIKON SOLAR IP AG, TRÜBBACH , SCHNEIDER, Stefan , BHANGU, Kavreet , FISCHER, Tobias , GÖTTLICH, Hagen , VOGLER, Benjamin , WIDMEIER, Christoph , ZINDEL, Arno
发明人： SCHNEIDER, Stefan , BHANGU, Kavreet , FISCHER, Tobias , GÖTTLICH, Hagen , VOGLER, Benjamin , WIDMEIER, Christoph , ZINDEL, Arno
IPC分类号： C23C16/44
CPC分类号： C23C16/4412
摘要： The present invention provides a hot-trap device for the efficient removal of reaction by- products from exhausted process gases in vacuum processing systems, wherein collector means for the conversion of such reaction by-products are provided as pellets. Furthermore, a vacuum treatment system comprising such a hot-trap device and methods for the removal of reaction by-products utilizing the hot-trap device or the vacuum treatment system are provided.
摘要翻译：本发明提供了一种用于在真空处理系统中有效地除去排出的工艺气体的反应副产物的热阱装置，其中用于转化这种反应副产物的收集装置被提供为颗粒。此外，提供了包括这种热阱装置的真空处理系统和利用热阱装置或真空处理系统去除反应副产物的方法。

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