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    • 10. 发明申请
    • PVD - VAKUUMBESCHICHTUNGSANLAGE
    • PVD - 真空涂布设备
    • WO2009070903A1
    • 2009-06-11
    • PCT/CH2008/000485
    • 2008-11-17
    • OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACHRAMM, JuergenWOHLRAB, Christian
    • RAMM, JuergenWOHLRAB, Christian
    • C23C14/32C23C14/50
    • C23C14/325C23C14/50C23C14/505
    • Eine Vakuumbeschichtungsanlage enthält einen Reaktivgaseinlass (12), mindestens eine PVD - Beschichtungsquelle (8, 21) mit einer flächigen Kathode (11) und einen Substratträger (6) mit enthaltend mehrere Substrate (7), wobei der Substratträger (6) eine zweidimensionale horizontale Ausdehnung ausbildet und dieser zwischen mindestens zwei PVD - Beschichtungsquellen positioniert ist und dass die mehreren Substrate (7) Schneidwerkzeuge sind mit mindestens einer Schneidkante (E), im peripheren Randbereich des flächigen Substrates (7), die in einer Ebene der zweidimensionalen Ausdehnung des Substratträgers (6) verteilt abgelegt sind, wobei der Substratträger (6) in einer horizontalen Ebene (3) in der Vakuumprozesskammer (1) beabstandet, zwischen den flächigen Kathoden (11) der mindestens zwei PVD - Beschichtungsquellen (8, 21) positioniert angeordnet ist derart, dass mindestens ein Teil jeder der mindestens einen Schneidkante (E) eine aktive Schneidkante (E') enthält und diese gegenüber mindestens einer der Kathoden (11) der PVD - Beschichtungsquellen (8, 21) jederzeit in Sichtverbindung exponiert ausgerichtet ist.
    • 一种真空涂覆设备,其包括反应性气体入口(12),至少一个PVD - 涂布源(8,21),其具有片状阴极(11)和(6)含有多个基板(7)的基板支撑件,其中,所述衬底支撑件(6)的二维水平延伸 形式和至少两个之间PVD - 涂料源被定位,并且具有至少一个切削刃(e)中,所述多个基板(7)切割工具的在薄片基板(7)(的周缘区域中的基片载体6的二维扩展的平面 )被存储分布,其中,所述衬底支撑件(6)在水平面(3)(以在一定距离的真空处理室1)(的所述至少两个PVD平面阴极11)之间 - 涂料源(8,21)被布置成定位成使得 至少每个所述至少一个切削刃(e)和一个工作的切削刃(E“)的针对此的一部分 在PVD的阴极(11)中的至少一个 - 涂料源(8,21)在任何时候都在视线对准露出。