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1. 发明专利

JP2015038248A アーク蒸着による所定の構造を有する金属酸化物層の製造方法有权
标题翻译：通过ARC蒸气沉积法生产具有指定结构的金属氧化物层的方法
公开(公告)号：JP2015038248A
公开(公告)日：2015-02-26
申请号：JP2014188025
申请日：2014-09-16
申请人：エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハOerlikon Trading AG,Truebbach , Oerlikon Trading Ag Truebbach , エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハOerlikon Trading AG,Truebbach
发明人： RAMM JURGEN
IPC分类号： C23C14/08 , C22C21/00 , C23C14/24
CPC分类号： C23C14/3414 , B22F2998/00 , C22C1/0416 , C23C14/0036 , C23C14/08 , C23C14/081 , C23C14/083 , C23C14/325 , Y10T428/12028 , B22F3/15
摘要：【課題】所定の結晶構造の金属酸化物層を信頼性高く固着させることができ、かつ、基板上に固着する金属酸化物の形成温度を望むように設定することができる、アーク蒸着により金属酸化物層を製造するための方法を提供する。【解決手段】本発明は、金属および半金属構成要素の三元およびより高次の酸化物を含む層を製造する方法に関し、前記酸化物の生成温度は、二元(またはより高次の)合金ターゲットの組成(状態図をもとにして)をもとにして実質的に確立される。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种通过电弧气相沉积制造金属氧化物层的方法，其可以高可靠性固定指定晶体结构的金属氧化物层，并且希望将待固定的金属氧化物的形成温度设定在基板上。溶液：提供含有金属或准金属组成元素的三元或更高级氧化物的层的制造方法，实际上基于组成，基于构成图，确定氧化物的形成温度次级（或更高阶）合金靶。

2. 发明专利

JP2015508448A 均質なＨＩＰＩＭＳ被覆方法有权
标题翻译：均相HIPIMS涂覆工艺
公开(公告)号：JP2015508448A
公开(公告)日：2015-03-19
申请号：JP2014547731
申请日：2012-11-23
申请人：エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハOerlikon Trading AG,Truebbach , エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハOerlikon Trading AG,Truebbach
发明人：クラスニッツァー，ジークフリート , ルディジェル，ヘルムート
IPC分类号： C23C14/34 , H01J37/34
CPC分类号： C23C14/35 , C23C14/3464 , C23C14/3485 , C23C14/3492 , C23C14/542 , H01J37/3417 , H01J37/3467
摘要：本発明は、被覆チャンバの高さに渡って均質な層を析出することができるHIPIMS方法に関する。この際、2つの部分カソードを採用する。本発明によれば、これらの部分カソードに個々にかけられる電力パルス間隔の長さは、個別に選択され、これにより所望の被覆厚の輪郭が被覆チャンバの高さに渡って達成される。
摘要翻译：本发明涉及一种能够在涂层室的高度沉淀的均匀层的HIPIMS方法。这时，它通过两个部分阴极。根据本发明，功率脉冲间隔的长度单独地施加阴极单独地选择这些部分，从而所需的涂层厚度的轮廓在涂层室的高度来实现的。

4. 发明专利

JP2010013737A Target having profiled thickness for rf magnetron 审中-公开
标题翻译：具有RF MAGNETRON型材厚度的目标
公开(公告)号：JP2010013737A
公开(公告)日：2010-01-21
申请号：JP2009240542
申请日：2009-10-19
申请人： Oerlikon Trading Ag Truebbach , エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハOerlikon Trading AG,Truebbach
发明人： VOSER STEPHAN , LORENZ EDUARD KARL
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/35 , G11B7/26 , H01J37/34
CPC分类号： H01J37/3423 , C23C14/3407 , H01J37/3408
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coating method for an insulation material, which can compensate a distribution change of a target of a sputter source over the service life of the target. SOLUTION: The invention relates to a vacuum sputtering method for producing an insulation layer. The aim is to obtain an excellent distribution of the layers over a substrate to be coated, in a reproducible manner over the entire service life of the target (9) to be sputtered. To achieve this, the thickness of the insulating target (9), which is sputtered using a high-frequency power, is profiled. The profiles are chosen in such a way that the target thickness is greater in the area of higher erosion rates and/or smaller in the area of lower erosion rates. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于绝缘材料的涂覆方法，其可以补偿靶的使用寿命期间溅射源的靶的分布变化。解决方案：本发明涉及一种用于制造绝缘层的真空溅射方法。目的是在待溅射的靶（9）的整个使用寿命内以可再现的方式在待涂覆的基底上获得优异的层分布。为了实现这一点，使用高频电力溅射的绝缘靶（9）的厚度被成型。选择轮廓，使得目标厚度在较高侵蚀速率的区域中较大，和/或在较低侵蚀速率的面积内较小。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

5. 发明专利

JP2014076540A Work-piece and processing method of the same 审中-公开
标题翻译：其工作方式及其处理方法
公开(公告)号：JP2014076540A
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：JP2013265589
申请日：2013-12-24
申请人： Oerlikon Trading Ag Truebbach , エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハOerlikon Trading AG,Truebbach
发明人： DERFLINGER VOLKER , REITER ANDREAS , GEY CHRISTOPH
IPC分类号： B23C5/16 , B23C5/10 , B23D43/04 , B23F21/26 , C23C14/00 , C23C14/02 , C23C14/06 , C23C14/34 , C23C14/58 , C23C28/04 , C23C30/00
CPC分类号： C23C14/0021 , C23C14/06 , C23C14/0641 , C23C14/325 , C23C28/044 , C23C28/048 , C23C30/00 , C23C30/005
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide components for (AlCr) X coated work-pieces such as a plane cliff tool, a metal-cutting tool, and a shaping tool, or for machine manufacturing and mold manufacturing, and to provide a method for depositing such a layer on a work-piece.SOLUTION: A work-piece or a component comprises a layer system comprising at least one layer having a composition (AlCr) X, where X is equal to N, C, B, CN, BN, CBN, NO, CO, BO, CNO, BNO, or CBNO, and y satisfies relation of 0.4≤y
摘要翻译：要解决的问题：为（AlCr）X涂层的工件（如平面悬臂工具，金属切削工具和成型工具）或机械制造和模具制造提供组件，并提供一种存款方法工件或组件包括一层包括至少一层具有组成（AlCr）X的层，其中X等于N，C，B，CN，BN， CBN，NO，CO，BO，CNO，BNO或CBNO，y满足0.4≤y<0.68的关系。该层内的层组成基本上是恒定的，或者以连续或渐变的方式跨越层的厚度变化。

6. 发明专利

JP2012246572A Method of and apparatus for producing substrate to be cleaned or clean substrate to be further treated 有权
标题翻译：用于生产要清洁或清洁的基材进一步处理的基材的方法和装置
公开(公告)号：JP2012246572A
公开(公告)日：2012-12-13
申请号：JP2012197147
申请日：2012-09-07
申请人： Oerlikon Trading Ag Truebbach , エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハOerlikon Trading AG,Truebbach
发明人： KRASSNITZER SIEGFRIED , GSTOEHL OLIVER , LENDI DANIEL
IPC分类号： C23C14/02
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of and an apparatus for producing a substrate to be cleaned or a clean substrate to be further treated.SOLUTION: The plasma etch cleaning of a substrate is carried out by using a plasma discharge device provided with an electron source cathode (5) and an anode device (7). The anode device (7) comprises an anode electrode (9) at one side and a locked-in part (11) isolated electrically from itself at the other side. The locked-in part (11) has an opening (13) headed for the area (S) of the substrate (21) to be cleaned. The supply circuit having an electricity supply source (19) supplies electricity to the electron source cathode (5) and the anode electrode (9). The circuit is operated floating electrically.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于制造待清洁的基板的方法和设备或用于进一步处理的清洁基板。解决方案：通过使用设置有电子源阴极（5）和阳极器件（7）的等离子体放电装置来进行衬底的等离子体蚀刻清洁。阳极装置（7）包括在一侧的阳极电极（9）和在另一侧与其自身隔离的锁定部分（11）。锁定部分（11）具有朝向待清洁的基板（21）的区域（S）的开口（13）。具有供电源（19）的电源电路向电子源阴极（5）和阳极电极（9）供电。电路运行电浮动。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

7. 发明专利

JP2010265552A Vacuum treatment planetary system workpiece carrier 有权
标题翻译：真空处理运输系统工作车
公开(公告)号：JP2010265552A
公开(公告)日：2010-11-25
申请号：JP2010195868
申请日：2010-09-01
申请人： Oerlikon Trading Ag Truebbach , エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハOerlikon Trading AG,Truebbach
发明人： ZAECH MARTIN , KUNZ ANTON
IPC分类号： C23C14/50 , C23C16/44
CPC分类号： C23C14/505
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To develop a vacuum treatment planetary system workpiece carrier. SOLUTION: The vacuum treatment planetary system workpiece carrier includes: sun systems 9, 9' which can be coupled with a driving apparatus 1 and rotatable around a sun system axle 7 and include a sun wheel 9; and planet systems 17, 17' coupled with the sun systems 9, 9' so as to rotate around the same and rotatable around a planet axle 11, the planet systems 17, 17' have driving coupling parts 15, 13. The carrier further includes driving connection to sun systems 9, 9', and includes at least one moon system 29, 31. The moon system has at least two moon wheels 29 alternately arranged so as to be superimposed along the moon axle 19. At least one receiver for a workpiece is provided on each moon wheel 29. The driving connection of the sun system to the moon system is established, at least during operation, in an uninterrupted manner. COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：开发真空处理行星系统工件载体。解决方案：真空处理行星系统工件载体包括：太阳系9,9'，其可与驱动装置1联接并且可围绕太阳系轴7旋转并且包括太阳轮9; 以及与太阳系9,9'联接的行星系统17,17'，以围绕行星轴11旋转，行星系统17,17'具有驱动联接部分15,13。载体还包括驱动连接到太阳系9,9'，并且包括至少一个月球系统29,31。月球系统具有交替地布置成沿着月球轴19重叠的至少两个月球轮29.至少一个用于工件被设置在每个月球轮29上。至少在操作期间以不间断的方式建立太阳系到月球系统的驱动连接。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

8. 发明专利

JP2015506410A 低温アーク放電イオンめっきコーティング审中-公开
标题翻译：冷电弧放电离子镀涂层
公开(公告)号：JP2015506410A
公开(公告)日：2015-03-02
申请号：JP2014547749
申请日：2012-12-14
申请人：エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハOerlikon Trading AG,Truebbach , エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハOerlikon Trading AG,Truebbach
发明人：クラスニッツァー，ジークフリート , クラポフ，デニス , レヒトハーラー，マルクス
IPC分类号： C23C14/32
CPC分类号： C23C14/345 , C23C14/325 , H01J37/32055 , H01J37/32568
摘要：真空チャンバにおける基板のアーク放電コーティングまたはアーク放電イオンめっきコーティングのためのコーティング方法であって、アーク蒸発器を用いて、陰極として機能する固体材料を蒸発させ、アーク蒸着中に、固体材料表面上の陰極スポットの移動は、固体材料表面からの大量のマクロ粒子または小滴の放出を回避するために、磁界を用いて加速され、アーク蒸発から結果として生じる負の荷電粒子が陰極から陽極に流れ、陰極から陽極への負の荷電粒子の移動は、基本的に陰極と陽極との間の電位差の絶対値のさらなる増大を引起さず、コーティング中において基板温度のより低い増分を可能にすることにより特徴付けられる、方法。
摘要翻译：用于在真空室中的电弧放电的涂层或电弧放电离子镀涂层的基材的涂布方法，使用电弧蒸发器以蒸发电弧蒸发期间用作阴极的固体材料，在固体材料表面阴极点的移动，以避免大量从固体材料表面的宏观颗粒或液滴的释放通过使用磁场被加速，带负电荷的产生的来自电弧蒸发从阴极流到阳极的颗粒，从阴极到阳极带负电的粒子的移动基本上不通过使涂布时的基板温度的下增量引起在阴极和阳极之间的电位差的绝对值进一步增加它的特点是，方法。

9. 发明专利

JP2015504970A 反応性スパッタリングプロセス有权
标题翻译：反应溅射工艺
公开(公告)号：JP2015504970A
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：JP2014545125
申请日：2012-11-23
申请人：エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハOerlikon Trading AG,Truebbach , エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハOerlikon Trading AG,Truebbach
发明人：クラスニッツァー，ジークフリート
IPC分类号： C23C14/34 , H01J37/34
CPC分类号： C23C14/3485 , C23C14/0094 , H01J37/3467 , H01J37/3485
摘要：本発明は、イオン衝撃により、第1ターゲットの表面から材料が打ち出され、材料が気相に移行する反応性スパッタリング法に関し、この方法では、ターゲットにパルス状に負の電圧をかけ、ターゲット表面に、0.5A/cm2を上回る電流密度の電流が生じ、その結果、気相に移行した材料が少なくとも部分的にイオン化され、反応性ガス流が作られ、反応性ガスがターゲット表面の材料と反応するが、この方法において、電圧パルスの間のほとんどの時間の間、ターゲット表面は、電流が流れる1つまたは複数の箇所において、少なくとも部分的に、反応性ガスとターゲット材料とからなる化合物で被覆されていて、したがってターゲット表面は第1中間状態にあり、該被覆は、電圧パルスの終端において電圧パルスの始端においてよりもわずかであり、したがって、ターゲット表面は、電圧パルスの終端において第2中間状態にあるように、電圧パルスの長さが選択されることを特徴とする。
摘要翻译：本发明中，通过离子轰击后，将材料从所述第一靶表面打孔，涉及反应性溅射材料被转移到气相中，以这种方式，施加到脉冲的靶的负电压，所述目标表面时，电流在超过0.5A /厘米2的电流密度产生的，其结果是，迁移材料的气相中至少部分离子化，反应性气流产生时，反应性气体与所述目标表面的材料反应但在这种方法中，在电压脉冲，所述目标表面，在一个或多个位置流过电流时的大部分时间，涂覆有至少部分地包括的化合物的反应性气体和靶材料已，因此在第一中间状态的目标表面，该涂层被略微比电压脉冲开始明镜在电压脉冲结束，因此，目标表面，因为在电压脉冲到第二中间状态的端部，其特征在于，所述电压脉冲的长度被选择。

10. 发明专利

JP2015501876A ＨＩＰＩＭＳ層有权
标题翻译： HIPIMS层
公开(公告)号：JP2015501876A
公开(公告)日：2015-01-19
申请号：JP2014540343
申请日：2012-10-26
申请人：エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハOerlikon Trading AG,Truebbach , エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハOerlikon Trading AG,Truebbach
发明人：クラスニッツァー，ジークフリート , レヒトハーラー，マルクス
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/35 , C23C14/345 , C23C14/3485 , H01J37/3467
摘要：本発明は、少なくとも1つの基板上に、吹き付けを用いて気相からなるPVD層系を析出する方法に関し、この層系は少なくとも1つの第1層を有する方法において、この方法中の少なくとも1つの工程で、電力密度が少なくとも250W/cm2であるHIPIMS法を適用し、少なくとも5ミリ秒の長さのパルス長を採用し、この長さ中に、基板に基板バイアスをかけることを特徴とする。
摘要翻译：本发明中，至少一个基片，沉积使用喷雾，一种方法以这种方式具有至少一个的至少一个第一层的层系统，由气相的PVD层系统的方法上在步骤中，通过@ 2施加至少250W /厘米的HIPIMS技术的功率密度，它采用了至少5毫秒的脉冲长度的长度，这个长度期间，并且其中所述施加衬底偏置到衬底上。

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