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1. 发明申请

WO2012167886A8 METHOD FOR REMOVING HARD CARBON LAYERS 审中-公开
标题翻译：去层用于硬质涂层
公开(公告)号：WO2012167886A8
公开(公告)日：2014-01-23
申请号：PCT/EP2012002305
申请日：2012-05-31
申请人： OERLIKON TRADING AG , RAMM JUERGEN , WIDRIG BENO
发明人： RAMM JUERGEN , WIDRIG BENO
IPC分类号： C23G5/00
CPC分类号： C23G5/00
摘要： The invention relates to a method for removing carbon layers, in particular ta-C layers, from substrate surfaces of tools and components. The substrate to be de-coated is accordingly arranged on a substrate support in a vacuum chamber, the vacuum chamber is charged with at least one reactive gas assisting the evacuation of carbon in gaseous form and a low-voltage plasma discharge is created in the vacuum chamber to activate the reactive gas and hence assist the required chemical reaction or reactions to de-coat the coated substrate. The low-voltage plasma discharge is a dc low-volt arc discharge, the substrate surfaces to be de-coated are bombarded substantially exclusively with electrons and oxygen, nitrogen and hydrogen are used as reactive gas.
摘要翻译：一种用于汽提的碳层，特别是工具和组件基板表面的TA-C层的方法。的被剥离基板被相应配置的基板支架上在真空室中，真空室中的至少一种加入气态形式支持反应气体中去除碳和低电压等离子放电在所述真空室的反应气体的激发，并因此支持所需的化学反应或创建用于经涂覆的基材的剥离反应。低压等离子体放电为直流低电压电弧放电，与电子轰击被剥离仅基底表面并基本上作为反应气体，氧，氮和氢被使用。

2. 发明申请

WO2011036246A3 METHOD FOR PRODUCING CUBIC ZIRCONIA LAYERS 审中-公开
标题翻译：用于生产立方氧化锆层
公开(公告)号：WO2011036246A3
公开(公告)日：2011-06-16
申请号：PCT/EP2010064136
申请日：2010-09-24
申请人： OERLIKON TRADING AG , RAMM JUERGEN , WIDRIG BENO
发明人： RAMM JUERGEN , WIDRIG BENO
IPC分类号： C23C14/00 , C23C14/06 , C23C14/08 , C23C14/32
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/0021 , C23C14/0036 , C23C14/0042 , C23C14/0676 , C23C14/083 , C23C14/325 , C23C14/3485
摘要： In order to produce zirconia-based layers on a deposition substrate, wherein reactive spark deposition using pulsed spark current and/or the application of a magnetic field that is perpendicular to the spark target are employed, a mixed target comprising elemental zirconium and at least one stabilizer is used, or a zirconium target comprising elemental zirconium is used, wherein in addition to oxygen, nitrogen is used as the reactive gas. As an alternative, it is also possible, combined with the use of the mixed target, to use nitrogen as the reactive gas in addition to oxygen.
摘要翻译：用于在沉积基底上生产氧化锆类层，其中反应性电弧蒸镀脉冲正常的电弧电流和/或应用到无线电目标磁场，一个元素锆和至少一种稳定剂的综合混合靶使用或元素锆，其中的一个Zirkoniumtarget 然后用氧气，氮气作为反应性气体一起使用。可替代地，通过使用混合靶的组合，也可用于除氧气，氮气作为反应性气体。

3. 发明申请

WO2006099760A3 METHOD FOR OPERATING A PULSED ARC EVAPORATION SOURCE AND VACUUM PROCESS SYSTEM COMPRISING SAID PULSED ARC EVAPORATION SOURCE 审中-公开
标题翻译：一种用于操作脉冲电弧蒸发源和脉冲ARCVERDAMPFUNGSQUELLE真空处理厂
公开(公告)号：WO2006099760A3
公开(公告)日：2007-12-06
申请号：PCT/CH2006000125
申请日：2006-03-01
申请人： OERLIKON TRADING AG , RAMM JUERGEN , WIDRIG BENO , LENDI DANIEL , DERFLINGER VOLKER , REITER ANDREAS
发明人： RAMM JUERGEN , WIDRIG BENO , LENDI DANIEL , DERFLINGER VOLKER , REITER ANDREAS
IPC分类号： H01J37/32 , C23C14/32 , H01J37/34
CPC分类号： C23C14/083 , C23C14/024 , C23C14/0641 , C23C14/08 , C23C14/081 , C23C14/325 , F01D5/288 , F05D2230/313
摘要： The invention relates to a vacuum process system for surface-treating work pieces (3) using an arc evaporation source (5). Said system comprises a first electrode (5') connected to a DC power source (13) and a second electrode (3, 18, 20), disposed separately from the arc evaporation source (5). The two electrodes (5', 3, 18, 20) are operated while being connected to a single pulsed power supply (16).
摘要翻译：本发明涉及一种真空处理系统，用于工件的表面加工（3）与连接到直流电源（13）被连接到电弧蒸发器源的一个电弧蒸发器源（5），其包括第一电极（5“）（5），其设置分别第二电极（3，18，20）。两个电极（5”，3，18，20）连接到一个单脉冲电源（16）进行操作。

4. 发明申请

WO2008138789A2 CUTTING TOOL 审中-公开
标题翻译：切割用具
公开(公告)号：WO2008138789A2
公开(公告)日：2008-11-20
申请号：PCT/EP2008055455
申请日：2008-05-05
申请人： OERLIKON TRADING AG , QUINTO DENNIS , WOHLRAB CHRISTIAN , RAMM JUERGEN
发明人： QUINTO DENNIS , WOHLRAB CHRISTIAN , RAMM JUERGEN
IPC分类号： C23C28/04 , B23B5/00 , B23B27/14 , C23C30/00
CPC分类号： C23C30/005 , C23C28/042 , C23C28/044 , C23C28/048 , C23C28/321 , C23C28/322 , C23C28/34 , C23C28/341 , C23C28/345 , C23C28/3455 , C23C28/347 , C23C28/36 , Y10T407/27 , Y10T428/24942 , Y10T428/24983 , Y10T428/265
摘要： The invention provides a single or a multilayer PVD coated sharp edged cutting tool, which can at the same time exhibit satisfactory wear and thermochemical resistance as well as resistance to edge chipping. The cutting tool comprises a sintered body made of a cemented carbide, a CBN, a cermet or a ceramic material having a cutting edge with an edge radius Re, a flank and a rake face and a multilayer coating consisting of a PVD coating comprising at least one oxidic PVD layer covering at least parts of the surface of the sintered body. In one embodiment the edge radius Re is smaller than 40 µm, preferably smaller than or equal to 30 µm. The covered parts of the surface preferably comprise at least some parts of the sharp edge of the sintered body.
摘要翻译：本发明提供了一种单层或多层PVD涂层的锐边切割工具，同时可以显示令人满意的耐磨性和耐热化学性以及耐边缘切屑。切削工具包括由硬质合金，CBN，金属陶瓷或陶瓷材料制成的烧结体，其具有边缘半径为Re的切削刃，侧面和前刀面以及由PVD涂层组成的多层涂层，所述PVD涂层至少包括一个氧化PVD层覆盖烧结体表面的至少部分。在一个实施例中，边缘半径Re小于40μm，优选小于或等于30μm。表面的被覆盖部分优选地包括烧结体的锋利边缘的至少一些部分。

5. 发明申请

WO2012139707A8 CARBON SPARK EVAPORATION 审中-公开
标题翻译：碳无线电扩展
公开(公告)号：WO2012139707A8
公开(公告)日：2013-11-28
申请号：PCT/EP2012001322
申请日：2012-03-26
申请人： OERLIKON TRADING AG , RAMM JUERGEN , WIDRIG BENO , RUHM KURT
发明人： RAMM JUERGEN , WIDRIG BENO , RUHM KURT
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32055 , C23C14/325 , H01J37/32064 , H05B7/148 , H05B7/20 , H05H2001/4682
摘要： The invention relates to a method for operating a pulsed discontinuous spark discharge. The spark is fed via a capacitor. Between the pulses there are switched-off time intervals during which no spark current flows. Within the pulses, that is to say during the switched-on time intervals, the supply of charge is stopped upon a current threshold being reached and is restarted, with the result that subpulses occur within the pulses. The time intervals and subpulses are chosen according to the invention such that when the capacitor is switched on again, the spark discharge readily ignites again.
摘要翻译：本发明涉及一种操作脉冲间歇火花放电的方法。火花通过电容器供给。有在这期间流过无火花电流脉冲的时间间隔之间关闭。内的脉冲，在期间被激活的时间间隔即在电荷供给将实现电流阈值断开并再次接通，从而将有脉冲内的子脉冲。的时间间隔和子脉冲被创造性地选择，使得当所述电容器的一个新的连接时，火花放电再次容易点燃。

6. 发明申请

WO2011113927A1 BESCHICHTUNG AUF NIAL2O4 BASIS IN SPINELLSTRUKTUR 审中-公开
标题翻译：涂层对NiAl2O4基地尖晶石
公开(公告)号：WO2011113927A1
公开(公告)日：2011-09-22
申请号：PCT/EP2011/054110
申请日：2011-03-18
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Juergen
发明人： RAMM, Juergen
IPC分类号： C23C14/08 , C23C14/32 , H01J37/32
CPC分类号： C23C14/325 , C23C14/081 , C23C14/085 , H01J37/34
摘要： Die Erfindung betrifft eine Beschichtung, welche zumindest eine Verbindung von Sauerstoff und/oder Stickstoff mit zumindest zwei metallischen Materialien umfasst, wobei die Verbindung zumindest teilweise in Spinellstruktur vorliegt, sowie ein Verfahren zur Beschichtung und ein beschichtetes Substrat.
摘要翻译：本发明涉及一种涂层，该涂层至少包括氧和/或氮与至少两个金属的材料的化合物，其中该化合物至少部分地存在于尖晶石结构和涂层的方法和涂布的基材。

7. 发明申请

WO2009070903A1 PVD - VAKUUMBESCHICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译： PVD - 真空涂布设备
公开(公告)号：WO2009070903A1
公开(公告)日：2009-06-11
申请号：PCT/CH2008/000485
申请日：2008-11-17
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Juergen , WOHLRAB, Christian
发明人： RAMM, Juergen , WOHLRAB, Christian
IPC分类号： C23C14/32 , C23C14/50
CPC分类号： C23C14/325 , C23C14/50 , C23C14/505
摘要： Eine Vakuumbeschichtungsanlage enthält einen Reaktivgaseinlass (12), mindestens eine PVD - Beschichtungsquelle (8, 21) mit einer flächigen Kathode (11) und einen Substratträger (6) mit enthaltend mehrere Substrate (7), wobei der Substratträger (6) eine zweidimensionale horizontale Ausdehnung ausbildet und dieser zwischen mindestens zwei PVD - Beschichtungsquellen positioniert ist und dass die mehreren Substrate (7) Schneidwerkzeuge sind mit mindestens einer Schneidkante (E), im peripheren Randbereich des flächigen Substrates (7), die in einer Ebene der zweidimensionalen Ausdehnung des Substratträgers (6) verteilt abgelegt sind, wobei der Substratträger (6) in einer horizontalen Ebene (3) in der Vakuumprozesskammer (1) beabstandet, zwischen den flächigen Kathoden (11) der mindestens zwei PVD - Beschichtungsquellen (8, 21) positioniert angeordnet ist derart, dass mindestens ein Teil jeder der mindestens einen Schneidkante (E) eine aktive Schneidkante (E') enthält und diese gegenüber mindestens einer der Kathoden (11) der PVD - Beschichtungsquellen (8, 21) jederzeit in Sichtverbindung exponiert ausgerichtet ist.
摘要翻译：一种真空涂覆设备，其包括反应性气体入口（12），至少一个PVD - 涂布源（8，21），其具有片状阴极（11）和（6）含有多个基板（7）的基板支撑件，其中，所述衬底支撑件（6）的二维水平延伸形式和至少两个之间PVD - 涂料源被定位，并且具有至少一个切削刃（e）中，所述多个基板（7）切割工具的在薄片基板（7）（的周缘区域中的基片载体6的二维扩展的平面）被存储分布，其中，所述衬底支撑件（6）在水平面（3）（以在一定距离的真空处理室1）（的所述至少两个PVD平面阴极11）之间 - 涂料源（8，21）被布置成定位成使得至少每个所述至少一个切削刃（e）和一个工作的切削刃（E“）的针对此的一部分在PVD的阴极（11）中的至少一个 - 涂料源（8，21）在任何时候都在视线对准露出。

8. 发明申请

WO2009092816A2 PERMEATION BARRIER LAYER 审中-公开
标题翻译：渗透障碍层
公开(公告)号：WO2009092816A2
公开(公告)日：2009-07-30
申请号：PCT/EP2009050820
申请日：2009-01-26
申请人： OERLIKON TRADING AG , RAMM JUERGEN
发明人： RAMM JUERGEN
IPC分类号： C23C14/02 , C23C14/08 , C23C28/00 , F16C1/16 , H01M8/04
CPC分类号： B65D25/14 , B65D25/34 , C23C14/025 , C23C14/08 , F16C33/043 , F16C33/14 , F16C2223/60 , G21B1/11 , H01M8/04089 , H01M8/2475 , Y02P70/56 , Y10T428/13 , Y10T428/2933 , Y10T428/31678
摘要： The method for manufacturing a hydrogen permeation barrier comprises the steps of a) depositing on a substrate (SUB) a layer system (LS) comprising at least one layer (L1,L2,L3); characterized in that step a) comprises the step of b) depositing at least one hydrogen barrier layer (HPBL) comprising an at least ternary oxide. The apparatus comprises a sealable volume and a wall forming at least a portion of a boundary limiting said volume, wherein said wall comprises a hydrogen permeation barrier comprising a layer system (LS) comprising at least one layer, wherein said layer system comprises at least one hydrogen barrier layer (HPBL) comprising an at least ternary oxide. Preferably, said at least ternary oxide is substantially composed of Al, Cr and 0, and said depositing said at least one hydrogen barrier layer (HPBL) is carried out using a physical vapor deposition method, in particular a cathodic arc evaporation method. Preferably, step a) comprises depositing on said substrate at least one of : an adhesion layer (AdhL), a hydrogen storage layer (HStL), a protective layer (ProtL), in particular a thermal barrier layer (ThBL), a diffusion barrier layer (DBL), an oxidation barrier layer (OxBL), a chemical barrier layer (ChBL), a wear resistance layer (WRL). Excellent hydrogen permeation barrier properties can be achieved, and the layer system can be tailored as required by an envisaged application.
摘要翻译：用于制造氢渗透阻挡层的方法包括以下步骤：a）在衬底（SUB）上沉积包括至少一层（L1，L2，L3）的层系统（LS）; 其特征在于步骤a）包括以下步骤：b）沉积包含至少三元氧化物的至少一个氢阻挡层（HPBL）。该装置包括可密封体积和形成限制所述体积的边界的至少一部分的壁，其中所述壁包括氢渗透屏障，其包括包含至少一层的层系统（LS），其中所述层系统包括至少一个包含至少三元氧化物的氢阻挡层（HPBL）。优选地，所述至少三元氧化物基本上由Al，Cr和O组成，并且所述沉积所述至少一个氢阻挡层（HPBL）是使用物理气相沉积法，特别是阴极电弧蒸发法进行的。优选地，步骤a）包括在所述衬底上沉积以下至少一种：粘合层（AdhL），储氢层（HStL），保护层（ProtL），特别是热阻挡层（ThBL），扩散阻挡层层（DBL），氧化阻挡层（OxBL），化学阻挡层（ChBL），耐磨层（WRL）。可以实现优异的氢渗透阻隔性能，并且层系统可以根据设想的应用的要求进行定制。

9. 发明申请

WO2009056173A1 METHOD FOR MANUFACTURING A TREATED SURFACE AND VACUUM PLASMA SOURCES 审中-公开
标题翻译：用于制造处理表面和真空等离子体源的方法
公开(公告)号：WO2009056173A1
公开(公告)日：2009-05-07
申请号：PCT/EP2007/061805
申请日：2007-11-01
申请人： OERLIKON TRADING AG , RAMM, Juergen , WIDRIG, Beno , KURAPOV, Denis
发明人： RAMM, Juergen , WIDRIG, Beno , KURAPOV, Denis
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： C23C14/54 , C23C14/0036 , C23C14/228 , C23C14/35 , C23C14/351 , H01J37/32009 , H01J37/32055 , H01J37/32477 , H01J37/32541
摘要： When treating workpiece or substrate surfaces with the help of a vacuum plasma discharge between an anode (9) and an cathode (7= and whereby due to such treatment a solid (19) is formed and deposited on the anode surface (21), which solid has a higher specific DC impedance than the specific DC impedance of the anode material, at least parts of the anode surface are shielded from such deposition by establishing thereat a shielding plasma (25).
摘要翻译：借助于在阳极（9）和阴极（7 =）之间的真空等离子体放电来处理工件或衬底表面，并且由此由于这种处理，固体（19）形成并沉积在阳极表面（21）上，固体具有比阳极材料的特定直流阻抗更高的特定DC阻抗，通过在屏蔽等离子体（25）处建立阳极表面的至少一部分而不受这种沉积的影响。

10. 发明申请

WO2008138789A3 COATED CUTTING TOOL 审中-公开
公开(公告)号：WO2008138789A3
公开(公告)日：2008-11-20
申请号：PCT/EP2008/055455
申请日：2008-05-05
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , QUINTO, Dennis , WOHLRAB, Christian , RAMM, Juergen
发明人： QUINTO, Dennis , WOHLRAB, Christian , RAMM, Juergen
IPC分类号： C23C30/00
摘要： The invention provides a single or a multilayer PVD coated sharp edged cutting tool, which can at the same time exhibit satisfactory wear and thermochemical resistance as well as resistance to edge chipping. The cutting tool comprises a sintered body made of a cemented carbide, a CBN, a cermet or a ceramic material having a cutting edge with an edge radius Re, a flank and a rake face and a multilayer coating consisting of a PVD coating comprising at least one oxidic PVD layer covering at least parts of the surface of the sintered body. In one embodiment the edge radius Re is smaller than 40 μm, preferably smaller than or equal to 30 μm. The covered parts of the surface preferably comprise at least some parts of the sharp edge of the sintered body.

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