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    • 7. 发明申请
    • BIPOLARTRANSISTOR MIT SELBSTJUSTIERTEM EMITTERKONTAKT
    • 自对准双极发射极接触
    • WO2010066630A1
    • 2010-06-17
    • PCT/EP2009/066316
    • 2009-12-03
    • IHP GMBH - INNOVATIONS FOR HIGH PERFORMANCE MICROELECTRONICS / LEIBNIZ-INSTITUT FÜR INNOVATIVE MIKROELEKTRONIKFOX, AlexanderHEINEMANN, BerndMARSCHMEYER, Steffen
    • FOX, AlexanderHEINEMANN, BerndMARSCHMEYER, Steffen
    • H01L21/331H01L29/737H01L29/732H01L29/08H01L29/10H01L29/161
    • H01L29/66242H01L21/8222H01L21/8249H01L29/0804H01L29/0817H01L29/0821H01L29/1004H01L29/161H01L29/66272H01L29/7322H01L29/7371
    • Halbleitervorrichtung, umfassend eine Substratschicht aus einem Halbleitermaterial eines ersten Leitfähigkeitstyps mit einem ersten Isolationsgebiet, und einen vertikalen Bipolartransistor mit einem in einer Öffnung des ersten Isolationsgebietes angeordneten ersten Höhenabschnitt eines Kollektors aus einkristallinem Halbleitermaterial eines zweiten Leitfähigkeitstyps, einem zweiten Isolationsgebiet, das teils auf dem ersten Höhenabschnitt des Kollektors und teils auf dem ersten Isolationsgebiet aufliegt und im Bereich des Kollektorseine Öffnung besitzt, in der ein zweiter Höhenabschnitt des Kollektors aus einkristallinem Material angeordnet ist, der einen inneren Bereich des zweiten Leitfähigkeitstyps umfasst, einer Basis aus einkristallinem Halbleitermaterial des ersten Leitfähigkeitstyps, einem Basisanschlussgebiet, das in lateraler Richtung die Basis umgibt, einem T-förmigen Emitter aus Halbleitermaterial des zweiten Leitfähigkeitstyps, der das Basisanschlussgebiet überlappt, wobei das Basisanschlussgebiet, abgesehen von einer zum Substrat hin angrenzenden Ankeimschicht oder einer zu einem Basiskontakt hin angrenzenden Metallisierungsschicht, aus einem Halbleitermaterial besteht, das vom Halbleitermaterial des Kollektors, der Basis und des Emitters in seiner chemischen Zusammensetzung verschieden ist und im Vergleich mit diesem eine höhere Beweglichkeit von Majoritätsladungsträgern des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist.
    • 一种半导体器件,其包括具有第一隔离区域上的第一导电类型的半导体材料的基板层;以及具有设置在制成的第二导电型,第二隔离区域,在高度的第一部分的部分的单晶半导体材料的收集器的第一绝缘区域的第一高度部分的开口的圆柱体的垂直双极晶体管 集电极和部分地搁置在第一隔离区域和具有在集电体的第二垂直部分的开口设置单晶材料的集电极,其包括第二导电类型的内部区域,所述第一导电类型,一个基极连接区域的单晶半导体材料的基极的面积 包围在横向方向上的基极,第二导电类型,所述基极连接区域,溢出的半导体材料的T形发射器 APPT,其中,所述基极连接区域,除了一个朝向基底相邻的籽晶层或朝向相邻的金属化层的基体接触由是从集电体的半导体材料,基底,并在其化学组成和与该比较的发射极不同的半导体材料的 具有第一导电类型的多数载流子的较高迁移率。
    • 9. 发明申请
    • VERFAHREN UND VORRICHTUNG GERINGER KOMPLEXITÄT FÜR EINE ADAPTIVE ENTZERRUNG VON MEHRWEGEKANÄLEN
    • 方法和设备更多的途径渠道低复杂度自适应均衡
    • WO2007068737A2
    • 2007-06-21
    • PCT/EP2006/069711
    • 2006-12-14
    • IHP GMBH - INNOVATIONS FOR HIGH PERFORMANCE MICROELECTRONICS / INSTITUT FÜR INNOVATIVE MIKROELEKTRONIKWANG, Gang
    • WANG, Gang
    • H04L25/03
    • H04L25/03057H04L2025/0349H04L2025/0356
    • Vorrichtung und Verfahren zur geringkomplexen Implementierung eines bidirektionalen arbitrierten adaptiven Equalizers mit Entscheidungsrückkopplung zur Nachrichtenübertragung über durch Intersymbolinterferenz gestörte Kanäle. Der Equalizer enthält zwei Vorfilter. Jedes der zwei Vorfilter besteht aus einer oder zwei Zeitumkehroperationen und keinem oder einem IIR-Filter. Die zwei Vorfilter spalten einen Nicht-Minimalphasenkanal in zwei Fast-Minimalphasenkanäle entgegengesetzter Zeitrichtung, die gleichzeitig durch in Vorwärts- bzw. Rückwärtsrichtung entzerrt werden. Der SBS-Arbiter wählt unter den zwei Auswahl-Entscheidungen der zwei ADFE diejenige aus, die das abgetastete Empfangssignal am besten darstellt. Die Erzeugung von zwei zeitlich entgegengesetzten Fast-Minimalphasenkanälen hat zwei Hauptvorteile. Zum einen ermöglicht sie die Entzerrung mit einem kurzen nichtrekursiven Filter und damit weniger Rechenkomplexität und eine kürzere Konvergenzzeit bei ADFE. Zum anderen ermöglicht sie die Anwendung des ACII-Initialisierungsverfahrens, einem geringkomplexen Verfahren zur Berechnung der approximativen Inversen eines Minimalphasenkanals, die ein Ausgangskoeffizient zur Interferenzunterdrückung durch Dekorrelation für ADFE ist und das Problem langsamer bzw. schlechter Konvergenz trainierter oder blinder Equalizer löst.
    • 装置和方法,用于低复杂实现的双向仲裁的自适应均衡器判决反馈用于在由符号间干扰的信道损害的消息传输。 均衡器包括两个预过滤器。 所述两个预过滤器的由一个或两个时间反转操作和没有或一个IIR滤波器。 两个前置滤波器裂解非最小相位信道分成相反时间方向上两个快速最小相位通道在向前和向后的方向上同时均衡。 所述SBS仲裁器选择两个ADFE代表采样的所接收信号的最佳的两个选择决定中的一个。 生产两个时间上相对快速最小相位信道的具有两个主要优点。 首先,它允许一个短的非递归滤波器的均衡,因此较少的计算复杂性,并在ADFE较短的收敛时间。 其次,它允许使用ACII初始化,用于计算最小相位信道,其是用于干扰抑制为ADFE起始系数由去相关并解决了训练或盲均衡器的缓慢或差收敛的问题的近似逆的低复杂方法的。
    • 10. 发明申请
    • VERTIKALER BIPOLARTRANSISTOR
    • 垂直双极型晶体管
    • WO2006061439A1
    • 2006-06-15
    • PCT/EP2005/056691
    • 2005-12-12
    • IHP GMBH - INNOVATIONS FOR HIGH PERFORMANCE MICROELECTRONICS / INSTITUT FÜR INNOVATIVE MIKROELEKTRONIKHEINEMANN, BerndRÜCKER, HolgerDREWS, JürgenMARSCHMAYER, Steffen
    • HEINEMANN, BerndRÜCKER, HolgerDREWS, JürgenMARSCHMAYER, Steffen
    • H01L21/331H01L29/732H01L29/737
    • H01L29/66287H01L29/1004H01L29/66242H01L29/732H01L29/7378
    • Vertikaler Heterobipolartransistor, mit einem Substrat aus Halbleitermaterial eines ersten Leitfähigkeitstyps und einem darin ausgebildeten Isolationsgebiet, einer in einer Öffnung des Isolationsgebietes angeordneten ersten Halbleiterelektrode aus einkristallinem Halbleitermaterial eines zweiten Leitfähigkeitstyps, die entweder als Kollektor oder als Emitter ausgebildet ist, und die einen ersten Höhenabschnitt und einen angrenzenden, in einer Höhenrichtung vom Substratinneren weiter entfernten zweiten Höhenabschnitt aufweist, wobei nur der erste Höhenabschnitt vom Isolationsgebiet in zur Höhenrichtung senkrecht stehenden lateralen Richtungen umschlossen ist, einer zweiten Halbleiterelektrode aus Halbleitermaterial des zweiten Leitfähigkeitstyps, die als der andere Typ Halbleiterelektrodeeiner Basis aus einkristallinem Halbleitermaterial des ersten Leitfähigkeitstyps, und einem Basisanschlussgebiet, das einen einkristallinen Abschnitt aufweist, der in lateraler Richtung den, von der Basis aus gesehen weiter zum Substratinneren liegenden, zweiten Höhenabschnitt der ersten Halbleiterelektrode lateral umgibt, und der mit seiner Unterseite unmittelbar auf dem Isolationsgebiet aufliegt.
    • 垂直杂,其包括第一传导类型的半导体材料的衬底和形成于其中的隔离区,布置在由其或者作为集电极或发射极,和一个第一水平部分和一个形成的第二导电型的单晶半导体材料的绝缘区域第一半导体电极的开口 具有邻近,在从所述第二垂直部分,其特征在于,只有所述第一垂直部分被隔离区域在垂直的横向方向上的高度方向上包围内部的衬底的高度方向上位于远方时,第二导电类型的半导体材料的第二半导体电极的比单晶半导体材料构成的基材的其它类型的半导体电极 第一导电类型,并且包括在横向方向上的单晶部分的基极连接区域,v 的周围进一步看出到衬底横向地位于所述第一半导体电极的,第二高度部分的内部中的基础,并且其上直接其下侧上的绝缘区域搁置。