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1. 发明申请

WO03065085A2 STRUCTURED OPTICAL ELEMENT AND PRODUCTION OF THE SAME 审中-公开
标题翻译： STRUK专利色彩过滤器和这种生产
公开(公告)号：WO03065085A2
公开(公告)日：2003-08-07
申请号：PCT/EP0300244
申请日：2003-01-13
申请人： UNAXIS BALZERS AG , HEINE-KEMPKENS CLAUS , ZUEGER OTHMAR , HUNZIKER MICHAEL
发明人： HEINE-KEMPKENS CLAUS , ZUEGER OTHMAR , HUNZIKER MICHAEL
IPC分类号： G02B5/20 , G02B5/28
CPC分类号： G02B5/285 , G02B5/201
摘要： The invention relates to a structured optical element comprising a substrate having at least two regions exhibiting distinguishable optical functions. The layer systems in the regions can be divided into a respectively region-specific inner partial layer system and a supplementary partial layer system which is common to all of the regions. The supplementary partial layer system comprises at least one layer, and the inner partial layer system is arranged between the substrate and the supplementary partial layer system, in the regions in which the inner partial layer system comprises at least one layer.
摘要翻译：根据本发明的结构化光学元件，其包括具有可区分的光学功能中的至少两个区域的衬底。在的区域中的层系统可以被划分为相应的特定区域内局部层的系统，所述补充部分层系统包括至少一个层并且在所述内局部层系统包括的区域的这至少一个层设置在所述基板和所述补充部分层系统之间。

2. 发明申请

WO2003096122A3 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER EINHEIT MIT EINER RÄUMLICHEN OBERFLÄCHENSTRUKTURIERUNG SOWIE VERWENDUNG DIESES VERFAHRENS 审中-公开
公开(公告)号：WO2003096122A3
公开(公告)日：2003-11-20
申请号：PCT/CH2003/000296
申请日：2003-05-07
申请人： UNAXIS BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT , GRABHER, Patrick , HEINE-KEMPKENS, Claus , BISCHOFBERGER, Roger
发明人： GRABHER, Patrick , HEINE-KEMPKENS, Claus , BISCHOFBERGER, Roger
IPC分类号： G03F7/00
摘要： Auf der Grundschicht (3) wird in einem ersten Verfahrensschritt ein Photolack zur Erzeugung einer Photolackschicht (9) aufgebracht. Eine, einer vorgegebenen Oberflächenendstrukturierung angepasste, maskierte Belichtung (13) der Photolackschicht (9) wird in einem zweiten Verfahrensschritt vorgenommen. In einem dritten Verfahrensschritt werden mittels Entwicklung Teile der Photolackschicht (9) entfernt, so dass eine Photolackteilgebiete (25) als Opferschichtgebiete aufweisende Oberflächenanfangsstrukturierung erhalten wird. In einem vierten Verfahrensschritt wird eine die nun erhaltene Oberflächenanfangsstrukturierung bedeckende Beschichtung (29, 31), vorzugsweise als Wechselschichtsystem, aufgebracht, insbesondere aufgesputtert. In einem fünften Verfahrensschritt wird eine Energiebeaufschlagung der Oberflächenanfangsstrukturierung zur Destabilisierung der Opferschichtgebiete (25) vorgenommen. In einem sechsten Verfahrensschritt wird die Oberflächenanfangsstrukturierung bei einer vorgegebenen Bearbeitungstemperatur mit einem Hochdruckflüssigkeitsstrahl (33) beaufschlagt, wodurch zumindest Teile der die Opferschichtgebiete (25) bedeckenden Beschichtung (29) zur Erzeugung der Oberflächenendstrukturierung mechanisch entfernt bzw. wenigstens aufgebrochen werden.

3. 发明申请

WO2007019991A1 LASERMARKIERUNG NAHE DER OBERFLÄCHE BEI INNENBEARBEITETEN TRANSPARENTEN KÖRPERN 审中-公开
标题翻译：激光打标NEAR室内EDITED透明体表层
公开(公告)号：WO2007019991A1
公开(公告)日：2007-02-22
申请号：PCT/EP2006/007851
申请日：2006-08-09
申请人： OC OERLIKON BALZERS AG , SMOLE, Philipp , LANKER, Michael , HEINE-KEMPKENS, Claus
发明人： SMOLE, Philipp , LANKER, Michael , HEINE-KEMPKENS, Claus
IPC分类号： C03C17/34 , C03C23/00 , B41M5/26
CPC分类号： C03C23/0025 , B41M5/24 , C03C17/34 , C03C23/0015
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung einer unter der Oberfläche liegenden Markierung in einem transparenten Körper. Erfindungsgemäß wird die Markierung weniger als 500µm unterhalb der Oberfläche dadurch erzielt, dass ein auf die Substratoberfläche aufgebrachtes Schichtsystem mit gegenüber dem Substrat erhöhter Zerstörschwelle aufgebracht wird. Wird das Schichtsystem als für die Auslesewellenlänge reflexminderndes Schichtsystem ausgebildet, so erhöht sich der Kontrast beim Auslesen. Wird das Schichtsystem für die Schreibwellenlänge als Spiegel ausgebildet so kann in Reflexion mit verminderter Intensität geschrieben werden.
摘要翻译：本发明涉及一种用于在透明体产生子表面标记的方法。根据本发明的标签在一个施加于基板表面层系统施加到基片增加损伤阈值取得的表面下小于500微米。如果该层系统被设计为反射减少用于读出波长层系统，所以对比度读取期间增加。如果用于写入波长作为这样形成的反射镜的层系统可以写在具有降低的强度反射。

4. 发明申请

WO2004106902A1 OPTICAL SUBSTRATE FOR ENHANCED DETECTABILITY OF FLUORESCENCE 审中-公开
标题翻译：用于增强荧光检测性能的光学基材
公开(公告)号：WO2004106902A1
公开(公告)日：2004-12-09
申请号：PCT/CH2004/000340
申请日：2004-06-03
申请人： UNAXIS BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT , KRAUS, Joerg , EDLINGER, Johannes , WIKI, Max , THOME-FOERSTER, Heidi , HEINE-KEMPKENS, Claus , MAISENHOELDER, Bernd , KASPAR, Martin
发明人： KRAUS, Joerg , EDLINGER, Johannes , WIKI, Max , THOME-FOERSTER, Heidi , HEINE-KEMPKENS, Claus , MAISENHOELDER, Bernd , KASPAR, Martin
IPC分类号： G01N21/64
CPC分类号： G02B5/285 , G01N21/0303 , G01N21/6452
摘要： A sample substrate adapted for use with fluorescence excitation light with a first wavelength. A reflector is disposed on a base. The reflector includes a reflecting multilayer interference coating with at least two layers. Not all of the layers L fulfill a quarterwave condition: dL • nL = (2N +1) • 1/4 wherein dL is a physical thickness of layer L, nL is an index of refraction of layer L at the first wavelength, N is an integer equal to or greater than zero and 1 is the first wavelength. Thicknesses of the layers ensure that any fluorescent sample material disposed on top of said multilayer interference coating would be located near an antinode of a standing wave formed by the excitation light with the first wavelength incident on said substrate.
摘要翻译：适用于具有第一波长的荧光激发光的样品基底。反射器设置在基座上。反射器包括具有至少两层的反射多层干涉涂层。并不是所有的层L满足四分之一波长条件：dL。 nL =（2N + 1）。 1/4，其中dL是层L的物理厚度，nL是层L在第一波长的折射率，N是等于或大于零的整数，1是第一波长。层的厚度确保设置在所述多层干涉涂层顶部的任何荧光样品材料将位于由入射到所述基底上的第一波长的激发光形成的驻波的波腹附近。

5. 发明申请

WO2003065085A3 STRUKTIERTER FARBFILTER UND HERSTELLUNG EINES SOLCHEN 审中-公开
公开(公告)号：WO2003065085A3
公开(公告)日：2003-08-07
申请号：PCT/EP2003/000244
申请日：2003-01-13
申请人： UNAXIS BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT , HEINE-KEMPKENS, Claus , ZÜGER, Othmar , HUNZIKER, Michael
发明人： HEINE-KEMPKENS, Claus , ZÜGER, Othmar , HUNZIKER, Michael
IPC分类号： G02B5/20
摘要： Ein erfindungsgemässes strukturiertes optisches Element umfasst ein Substrat mit mindestens zwei Bereichen mit unterscheidbaren optischen Funktionen. Die Schichtsysteme in den Bereichen lassen sich in ein jeweils bereichsspezifisches inneres Teilschichtsystem aufteilen, wobei das ergänzende Teilschichtsystem mindestens eine Schicht umfasst und in den Bereichen in denen das innere Teilschichtsystem mindestens eine Schicht umfasst dieses zwischen Substrat und dem ergänzenden Teilschichtsystem angeordnet ist.

6. 发明申请

WO2004057315A1 METHODE ZUR ERZEUGUNG ELEKTROMAGNETISCHER FELDVERTEILUNGEN 审中-公开
标题翻译：的生成方法电磁场分布
公开(公告)号：WO2004057315A1
公开(公告)日：2004-07-08
申请号：PCT/CH2003/000811
申请日：2003-12-11
申请人： UNAXIS BALZERS AG , THOME-FÖRSTER, Heidi , HEINE-KEMPKENS, Claus
发明人： THOME-FÖRSTER, Heidi , HEINE-KEMPKENS, Claus
IPC分类号： G01N21/55
CPC分类号： G01N21/7743 , G01N21/4788 , G01N21/6452 , G01N21/774 , G01N21/7746
摘要： Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Plattform (11) und ein Verfahren zur Erzeugung elektromagnetischer Feldverteilungen. Insbesondere bezieht sich die Erfindung auf optische Sensoren zur Messung biologischer oder chemischer Substanzen. Die erfindungsgemäße Plattform (11) umfasst ein Substrat (13) eine strukturierte Schicht (19) und ein zwischen Substrat (13) und strukturierter Schicht (19) angeordnetem Vielschichtsystem (17), die so aufeinander abgestimmt sind, dass bei geeigneter Beaufschlagung mit elektromagnetischer Strahlung eine elektromagnetische Feldverteilung aufgebaut wird, die in der strukturierten Schicht (19) maximal ist.
摘要翻译：本发明涉及一种平台（11）和用于产生电磁场分布的方法。更具体地说，本发明涉及一种用于生物或化学物质的测量的光学传感器。本发明（11）的平台包括一个基底（13）的图案化层（19）和一个中间基板（13）和它们彼此匹配的结构化层（19）布置成多层系统（17），其与合适的暴露于电磁辐射的电磁场分布被建立，其在图案层（19）的最大值。

7. 发明申请

WO2003019246A1 VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG VON LICHT EINES GEGEBENEN POLARISATIONSZUSTANDES 审中-公开
标题翻译：过程对于给定的偏振态产生光
公开(公告)号：WO2003019246A1
公开(公告)日：2003-03-06
申请号：PCT/CH2002/000343
申请日：2002-06-25
申请人： UNAXIS BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT , EDLINGER, Johannes , HEINE-KEMPKENS, Claus , HÄUSLER, Detlev
发明人： EDLINGER, Johannes , HEINE-KEMPKENS, Claus , HÄUSLER, Detlev
IPC分类号： G02B5/30
CPC分类号： G02B5/3025 , G02B27/286
摘要： Verfahren zur Erzeugung von Licht eines gegebenen Polarisationszustandes, bei dem ein Polarisationszustands-sensitiver Strahlteiler an einem Eingagn mit Licht beaufschlagt wird, Licht des gegebenen Polarisationszustandes vom Strahlteiler an einem ersten Ausgang Ausgegeben wird, Licht mit vom Gegebenen Zustand abweichendem Polarisationszustand Besüglich dieses Zustandes geändert und ausgegeben wird. Im weiteren betrifft die vorliegende Erfindung eine Polarisator-Anordnung, eine Beleuchtungs-Anordnung, ein Projektionssystem sowie deren Verwendung.
摘要翻译：一种用于产生其中一个偏振状态敏感分束器被施加到Eingagn与光的给定偏振状态的光的方法，所述给定偏振状态的光从光束分离器输出具有从偏振态Besüglich的给定状态偏离这种状态变化的第一输出光并输出是。此外，本发明涉及一种偏振片组件，照明组件，一种投影系统及其用途。

8. 发明专利

DE102014000584A1 Zapfsäule mit Bestellmöglichkeit und Verfahren 未知
公开(公告)号：DE102014000584A1
公开(公告)日：2015-07-23
申请号：DE102014000584
申请日：2014-01-21
申请人： HEINE-KEMPKENS CLAUS
发明人： HEINE-KEMPKENS CLAUS
IPC分类号： B67D7/06
摘要： Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Tankstellenzapfsäule, dadurch gekennzeichnet dass an der Zapfsäule Mittel zur Bestellung von Waren vorzugsweise während des Tankvorgangs vorgesehen sind, welche Waren in dem Tankstellenshop zu welchem die Tankstellenzapfsäule gehört verkauft werden.

9. 发明申请

WO2012089306A1 HALTERUNG FÜR BOHRKOPFBESCHICHTUNG 审中-公开
标题翻译：支持FOR钻头涂料
公开(公告)号：WO2012089306A1
公开(公告)日：2012-07-05
申请号：PCT/EP2011/006321
申请日：2011-12-15
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , HEINE-KEMPKENS, Claus , HOCHSCHWARZER, Martin , DIETZ, Michael
发明人： HEINE-KEMPKENS, Claus , HOCHSCHWARZER, Martin , DIETZ, Michael
IPC分类号： C23C14/50 , C21D9/00 , F27D5/00
CPC分类号： C23C16/458 , B05C13/02 , C21D9/0025 , C23C14/04 , C23C14/50 , C23C14/505 , F27D5/005
摘要： Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Halterung für eine Reihe von Bohrern welche zum Beschichten von Bohrerspitzen vorteilhaft eingesetzt werden kann. Die erfindungsgemässen Halterungen ermöglichen es, die Bohrer so in der Beschichtungsanlage anzuordnen, dass deren Spitzen auf einem Zylindermantel liegen und diese an einer Beschichtungsquelle mit demselben minimalen Abstand vorbeirotiert werden können. Die Halterung umfasst eine erste gekrümmte Wand mit Löchern, eine zweite gekrümmte Wand mit Löchern oder Schlitzen und eine dritte Wand, welche als Anschlag für in die Löcher der ersten und zweiten Wand eingesteckten Bohrer dient.
摘要翻译：本发明涉及一种用于一组钻头的可有利地用于钻头的涂层的支架。本发明支持使得能够安排在涂料体系中，使得它们的尖端位于在圆柱形表面上，并且这些可以是过去使用相同的最小距离的涂布源旋转钻头。支架包括具有孔的第一弯曲的壁，具有孔或狭缝的第二弯曲的壁，并且其用作用于插入到第一和第二壁钻的孔的止挡的第三壁。

10. 发明申请

WO2003096122A2 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER EINHEIT MIT EINER RÄUMLICHEN OBERFLÄCHENSTRUKTURIERUNG SOWIE VERWENDUNG DIESES VERFAHRENS 审中-公开
标题翻译：处理对单元与空间曲面结构和使用方法的研制
公开(公告)号：WO2003096122A2
公开(公告)日：2003-11-20
申请号：PCT/CH2003/000296
申请日：2003-05-07
申请人： UNAXIS BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT , GRABHER, Patrick , HEINE-KEMPKENS, Claus , BISCHOFBERGER, Roger
发明人： GRABHER, Patrick , HEINE-KEMPKENS, Claus , BISCHOFBERGER, Roger
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： G03F7/0007 , G03F7/40 , G03F7/405 , G03F7/42 , G03F7/422 , G03F7/425
摘要： Beim erfindungsgemässen Verfahren ("Lift-Off-Verfahren") zur Herstellung einer Einheit (1), welche eine räumlichen Oberfächenstrukturierung auf einer Grundschicht (3) aufweisen soll, wird auf der Grundschicht (3) in einem ersten Verfahrensschritt ein Photolack zur Erzeugung einer Photolackschicht (9) aufgebracht. Eine, einer vorgegebenen Oberflächenendstrukturierung angepasste, maskierte Belichtung (13) der Photolackschicht (9) wird in einem zweiten Verfahrensschritt vorgenommen. In einem dritten Verfahrensschritt werden mittels Entwicklung Teile der Photolackschicht (9) entfernt, so dass eine Photolackteilgebiete (25) als Opferschichtgebiete aufweisende Oberflächenanfangsstrukturierung erhalten wird. In einem vierten Verfahrensschritt wird eine die nun erhaltene Oberflächenanfangsstrukturierung bedeckende Beschichtung (29, 31), vorzugsweise als Wechselschichtsystem, aufgebracht, insbesondere aufgesputtert. In einem fünften Verfahrensschritt wird eine Energiebeaufschlagung der Oberflächenanfangsstrukturierung zur Destabilisierung der Opferschichtgebiete (25) vorgenommen. In einem sechsten Verfahrensschritt wird die Oberflächenanfangsstrukturierung bei einer vorgegebenen Bearbeitungstemperatur mit einem Hochdruckflüssigkeitsstrahl (33) beaufschlagt, wodurch zumindest Teile der die Opferschichtgebiete (25) bedeckenden Beschichtung (29) zur Erzeugung der Oberflächenendstrukturierung mechanisch entfernt bzw. wenigstens aufgebrochen werden. Im sechsten Verfahrensschritt hat die Flüssigkeit des Hochdruckflüssigkeitsstrahls (33) während der Beaufschlagung bei der Betriebstemperatur eine vernachlässigbare chemische Reaktionsgeschwindigkeit und/oder physikalische Auflösungsgeschwindigkeit mit Materialien der Einheit (1) und/oder mit insbesondere organischen, Fluiddichtungsmitteln unterhalb einer Messgrenze. Durch die vorliegenden Erfindung werden die Probleme des Stands der Technik überwunden. Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist insbesondere ein Verfahren anzugeben, mit dessen Hilfe eine Lift-Off-Technik angewandt werden kann, ohne dass teure und schwierig zu handhabende Lösungsmittel eingesetzt werden müssen.
摘要翻译：根据本发明的方法（“剥离法”）制造的单元（1），它是有一个空间Oberfächenstrukturierung基底层（3）上，在基层上（3）在第一方法步骤中光致抗蚀剂，以产生一个光致抗蚀剂层（9）施加。 A，预定的最终表面，其适于（9）在第二工艺步骤中进行光致抗蚀剂层的掩膜曝光（13）。在第三个方法步骤中，光致抗蚀剂层（9）由显影部件移除，使得光致抗蚀剂的子区域（25）为具有初始表面图案化的牺牲层区域。在第四个方法步骤中，初始表面结构现在获得的涂层覆盖（29，31），优选作为交替层系统，被施加，特别是溅射。在第五个方法步骤中，一个激励所述初始表面图案化以破坏（25）由所述牺牲层的区域。在第六个方法步骤中，初始表面结构在预定加工温度下通过高压液体射流（33），由此所述牺牲层区域（25）覆盖所述涂层（29）的至少部分被机械地去除，以产生最终的表面或至少打破施加。在第六步骤中，将高压液体射流（33）的在工作温度下应用时的液体具有可忽略的化学反应速率和/或物理的溶解速率与所述单元（1）和/或具有低于测量极限特定有机流体密封剂的材料。通过本发明，现有技术的问题被克服。本发明的目的是特别提供，通过剥离技术的装置可以应用，而不需要昂贵的和难以处理的溶剂，必须使用的方法。

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